크리스토프 푸케 ASML 최고경영자(CEO)의 경고는 수출통제의 장기적 부작용에 관한 것입니다. 광범위한 규제가 당장은 중국의 해외 반도체 장비 접근을 제한하더라도, 시간이 흐르면 중국 기업과 정부가 국산 대체 장비 개발에 더 많은 자원을 투입하도록 만들 수 있다는 취지입니다. 이는 통제를 없애자는 주장이 아니라, 규제가 국가안보 목적에 맞게 설정돼야 한다는 전략적 문제 제기입니다. 중국이 ASML의 최첨단 기술을 곧 따라잡았다는 뜻은 아닙니다.
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규제가 지나치면 왜 역효과가 날 수 있을까
중국은 ASML의 극자외선(EUV) 노광장비를 구매할 수 없습니다. 반면 허용된 용도에 사용하는 구형 심자외선(DUV) 장비는 계속 사들여 왔습니다.
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17 푸케가 우려하는 지점은 제한을 지나치게 넓힐 경우 중국 기업과 정책 당국이 국내 대체품 개발을 더 매력적인 선택지로 여기게 될 수 있다는 것입니다. 장비 접근을 제한하려던 조치가 장기적으로는 미래 경쟁자를 키우는 결과로 이어질 수 있다는 논리입니다.
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그렇다고 중국산 장비가 당장 ASML 제품을 일대일로 대체할 수 있다는 의미는 아닙니다. 노광장비 개발은 어렵고, 자체 개발한 기계도 성능과 생산 안정성을 입증해야 합니다. 다만 투자와 개발 경험이 축적되면 시장 일부에서 해외 공급업체에 대한 의존도를 낮출 가능성은 있습니다.
ASML이 첨단 반도체 생산의 병목인 이유
노광장비는 반도체 웨이퍼에 미세한 회로 패턴을 새기는 데 쓰입니다. 그중 EUV는 최첨단 칩에 필요한 아주 작은 패턴을 구현하는 기술입니다. ASML은 상업용 EUV 시스템을 공급하는 유일한 기업으로, AI용 칩을 포함한 첨단 반도체 생산의 핵심 고리입니다.
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하지만 독점적 지위가 곧 수요에 맞춰 장비를 빠르게 늘릴 수 있다는 뜻은 아닙니다. ASML은 반도체 장비 수요가 커지는 가운데 공급망 제약을 겪고 있다고 밝혔습니다. 로이터 보도에 따르면 ASML은 2026년 저개구수(저NA) EUV 장비 60대를 출하하고, 2027년에는 80대까지 출하할 수 있는 생산능력을 갖출 계획입니다. 별도 보도에서는 생산능력이 2027년 말까지 예약돼 있을 가능성도 제기됐습니다.
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17 첨단 칩 수요가 늘어도 이를 뒷받침할 노광장비 생산량이 바로 늘어나는 것은 아니라는 뜻입니다.
중국의 DUV 개발이 시사하는 것
보도에 따르면 중국은 첨단 DUV 노광장비 개발을 추진하고 있으며, 화웨이도 이 흐름과 연관돼 있습니다. 한 보도는 관련 장비가 시험 중이며 2026년 말까지 12대를 생산하는 목표가 있다고 전했습니다. 이런 보도는 중국이 장비 역량을 국내에서 확보하려는 경로를 보여주지만, 생산 목표나 시제품만으로 안정적인 대량 생산이 입증되는 것은 아닙니다.
DUV와 EUV는 서로 다른 기술입니다. 중국의 국산 DUV 장비 개발이 진전된다고 해도 ASML의 EUV 시스템을 대체할 수 있다는 증거가 되지는 않습니다. 로이터가 별도로 보도한 중국의 EUV 시제품도 시험 단계였으며, 작동하는 칩을 생산하지는 못한 것으로 전해졌습니다.
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국산 DUV 장비가 향후 안정성과 경쟁력을 갖춘 채 대량 생산된다면, 중국 내 ASML의 DUV 사업에 압박을 주고 현지 공급업체의 경험 축적을 도울 수 있습니다. 다만 현재 확인할 수 있는 결론은 더 제한적입니다. 중국은 대안을 개발하고 있지만, 공개된 보도만으로 ASML의 EUV 우위가 무너졌다고 보기는 어렵습니다.
핵심은 ‘지금의 통제’와 ‘장기적 유인’의 균형
푸케의 경고는 시간의 문제이자 정책이 만들어내는 유인에 관한 것입니다. 수출통제가 지나치게 넓어지면 중국의 국산 장비 투자를 부추길 수 있지만, 현재 최첨단 반도체 생산에서 ASML의 EUV 독점과 제한된 생산능력은 여전히 중요한 요소입니다. 중국의 DUV 개발은 장기적인 경쟁 가능성으로 지켜볼 사안이지, EUV 대체가 임박했다는 증거는 아닙니다.