美, ASML에 “中 최첨단 EUV 장비 반입 의혹”…ASML “사실무근”

미국 측이 인용한 증거

미국 우려의 근거가 된 구체적인 증거는 공개적으로 알려지지 않았습니다. 이 소식을 처음 보도한 블룸버그 통신은 '사정에 정통한 소식통'을 인용했을 뿐, 러트닉 장관의 항의를 촉발한 정보, 선적 기록, 또는 기타 증거에 대해서는 설명하지 않았습니다 . 현재까지 중국 내 EUV 시스템의 확인된 목격담, 압수된 선적물, 또는 승인되지 않은 설치를 보여주는 서비스 로그 등은 공개된 바 없습니다.

의혹이 제기된 더 넓은 배경은 다음과 같을 수 있습니다. 2025년 12월 로이터 통신은 중국 선전의 연구원들이 AI 칩에서 서방을 따라잡기 위한 '맨해튼 프로젝트'의 일환으로 EUV 노광장비의 프로토타입을 제작했다고 보도했습니다 . 또한 일부 분석가들은 중국의 자체 EUV 개발에 도움이 될 수 있는 이중 용도 또는 덜 제한적인 부품들의 추적이 어려웠다고 지적합니다 . 그러나 이러한 발전이 현재의 의혹과 직접적인 관련이 있는지는 확인되지 않았습니다.

수출 통제와 매치법(MATCH Act)의 광범위한 맥락

• 기존 EUV 금지: 미국 주도의 수출 통제는 이미 ASML이 EUV 시스템을 중국에 선적하는 것을 금지하고 있습니다. 만약 이 의혹이 사실이라면, 이는 장기간 유지된 금지 조치를 위반한 것입니다 .
• DUV 통제 (현행): 덜 발전된 심자외선(DUV) immersion 리소그래피 장비(7nm 공정 칩 생산 가능)는 계속 중국에 유입되고 있으며, 이번 규제의 주요 대상입니다 .
• 매치법(MATCH Act): 2026년 4월 초, 미국 초당파 의원들은 '반도체 제조 장비에 대한 기술 통제의 다자간 정렬法案 (MATCH Act)' (H.R. 8170)을 발의했습니다 . 주요 내용은 다음과 같습니다.
  • 중국 등 우려 국가 내 모든 곳에 대한 '병목 지점' 반도체 제조 장비(DUV immersion 리소그래피 및 극저온 식각 장비 포함) 판매를 전면 금지 .
  • 네덜란드, 일본 같은 동맹국이 150일 이내에 미국 규정과 수출 제한을 일치시키도록 요구하며, 그렇지 않으면 미국 기술이 포함된 모든 장비에 대해 미국이 관할권을 행사할 수 있는 대외직접제품규칙(FDPR)을 확대 적용 .
  • 중국에 이미 설치된 DUV 장비의 유지보수 금지 .
  • 이 법안은 2026년 4월 말 하원 외교위원회를 통과했으며, 보다 광범위한 수출 통제 조치의 일부로 발의되었습니다 .
  • 위원회 표결 전에 일부 조항(예: 극저온 식각 장비의 국가적 전면 금지)은 축소되었지만, DUV 제한은 유지되었습니다 .

요약하면, 매치법은 현재 행정부의 수출 통제를 법제화하고 확대하여 DUV 규제 사각지대를 없애고 동맹국을 압박하는 것을 목표로 합니다. 이러한 움직임은 가장 엄격한 기존 금마저도 집행에 어려움을 겪을 수 있음을 시사하는 새로운 EUV 의혹 속에서 나왔습니다.