美, ASML에 “中 최첨단 EUV 장비 반입 의혹”…ASML “사실무근”

다음은 2026년 6월 19일 기준 상황을 정리한 내용입니다.

미국의 의혹 제기

하워드 러트닉 미국 상무장관은 최근 여러 차례 회의에서 ASML 고위 경영진에게 ASML의 최첨단 극자외선(EUV) 노광장비 한 대가 미국 주도의 수출 통제를 위반하고 중국으로 반출되었을 가능성에 대해 우려를 표명했습니다 . 문제가 된 EUV 시스템은 대당 4억 달러(약 5,500억 원)가 넘는 가격으로, 최첨단 AI 및 스마트폰 프로세서 제조에 필수적입니다. 미국은 이 장비가 물리적으로 중국 내에 위치하게 된 것을 우려하고 있습니다 .

ASML의 강력한 부인

ASML은 해당 의혹을 단호히 부인했습니다. 회사 대변인은 ASML은 단 한 대의 EUV 장비도 중국에 수출한 적이 없다고 밝혔습니다 . ASML은 미국 관리들에게 결백을 입증하기 위한 문서를 제출했으며, EUV 장비는 스쿨버스 크기로 생산량이 극히 제한적이고, ASML 직원의 상시 현장 유지보수가 필요하며, 중국 수출이 이미 엄격히 금지되어 있다는 점을 지적했습니다 . ASML은 "전 세계 정부 지도자들과 투명하고 개방적인 대화를 정기적으로 나누고 있으며" 미국과 네덜란드의 수출 통제 규정을 준수한다고 밝혔습니다 .

미국 측이 인용한 증거

미국 우려의 근거가 된 구체적인 증거는 공개적으로 알려지지 않았습니다. 이 소식을 처음 보도한 블룸버그 통신은 '사정에 정통한 소식통'을 인용했을 뿐, 러트닉 장관의 항의를 촉발한 정보, 선적 기록, 또는 기타 증거에 대해서는 설명하지 않았습니다 . 현재까지 중국 내 EUV 시스템의 확인된 목격담, 압수된 선적물, 또는 승인되지 않은 설치를 보여주는 서비스 로그 등은 공개된 바 없습니다.

의혹이 제기된 더 넓은 배경은 다음과 같을 수 있습니다. 2025년 12월 로이터 통신은 중국 선전의 연구원들이 AI 칩에서 서방을 따라잡기 위한 '맨해튼 프로젝트'의 일환으로 EUV 노광장비의 프로토타입을 제작했다고 보도했습니다 . 또한 일부 분석가들은 중국의 자체 EUV 개발에 도움이 될 수 있는 이중 용도 또는 덜 제한적인 부품들의 추적이 어려웠다고 지적합니다 . 그러나 이러한 발전이 현재의 의혹과 직접적인 관련이 있는지는 확인되지 않았습니다.

수출 통제와 매치법(MATCH Act)의 광범위한 맥락

• 기존 EUV 금지: 미국 주도의 수출 통제는 이미 ASML이 EUV 시스템을 중국에 선적하는 것을 금지하고 있습니다. 만약 이 의혹이 사실이라면, 이는 장기간 유지된 금지 조치를 위반한 것입니다 .
• DUV 통제 (현행): 덜 발전된 심자외선(DUV) immersion 리소그래피 장비(7nm 공정 칩 생산 가능)는 계속 중국에 유입되고 있으며, 이번 규제의 주요 대상입니다 .
• 매치법(MATCH Act): 2026년 4월 초, 미국 초당파 의원들은 '반도체 제조 장비에 대한 기술 통제의 다자간 정렬法案 (MATCH Act)' (H.R. 8170)을 발의했습니다 . 주요 내용은 다음과 같습니다.
  • 중국 등 우려 국가 내 모든 곳에 대한 '병목 지점' 반도체 제조 장비(DUV immersion 리소그래피 및 극저온 식각 장비 포함) 판매를 전면 금지 .
  • 네덜란드, 일본 같은 동맹국이 150일 이내에 미국 규정과 수출 제한을 일치시키도록 요구하며, 그렇지 않으면 미국 기술이 포함된 모든 장비에 대해 미국이 관할권을 행사할 수 있는 대외직접제품규칙(FDPR)을 확대 적용 .
  • 중국에 이미 설치된 DUV 장비의 유지보수 금지 .
  • 이 법안은 2026년 4월 말 하원 외교위원회를 통과했으며, 보다 광범위한 수출 통제 조치의 일부로 발의되었습니다 .
  • 위원회 표결 전에 일부 조항(예: 극저온 식각 장비의 국가적 전면 금지)은 축소되었지만, DUV 제한은 유지되었습니다 .

요약하면, 매치법은 현재 행정부의 수출 통제를 법제화하고 확대하여 DUV 규제 사각지대를 없애고 동맹국을 압박하는 것을 목표로 합니다. 이러한 움직임은 가장 엄격한 기존 금마저도 집행에 어려움을 겪을 수 있음을 시사하는 새로운 EUV 의혹 속에서 나왔습니다.