ASML株3.25％高の背景　High-NA EUVは売上拡大につながるのか

ASML株は2026年10月2日、前日比3.25％高の1,867.31ドルで取引を終えました。投資家の関心を集めたのは、10月14日に予定される決算に加え、次世代のHigh-NA EUV露光装置を半導体メーカーが導入する計画です。ただし、採用時期が示されたことは需要の広がりをうかがわせる材料であって、受注台数や売上の規模が明らかになったわけではありません。1625

株価上昇の背景にあるもの

今回の上昇は、ASMLの半導体製造装置事業への期待を反映したものとみられます。とりわけ、複数の大手メーカーがHigh-NA EUVの生産利用時期を示したことは、中長期の成長シナリオを支える材料です。一方、公表された情報だけでは、10月2日の値上がりを一つの要因に結びつけることはできません。25

High-NA EUVは、回路パターンをより精細に形成するための次世代露光技術です。装置価格は1台約4億ドルとされ、広く採用されればASMLの将来の成長機会になり得ます。ただし、導入計画と確定した注文は別のものです。6

顧客の採用計画は広がるが、時期は異なる

サムスン電子とSKハイニックスは、2028年にDRAM生産でHigh-NA EUVを使う目標を掲げています。TSMCは、先端半導体の量産で2030年から利用する計画です。メモリーとロジックの双方で採用の検討が進んでいる一方、メーカーごとに導入時期や進め方には差があります。133

インテルとASMLは、High-NA装置を使って処理したウエハーが100万枚を超えたと発表しています。この数字には、初期装置の認定・試験、研究開発、そして一部のインテル製品の特定層における量産が含まれます。技術と製造工程の進展を示す実績ですが、100万枚すべてが本格的なHigh-NA量産によるものという意味ではありません。17

12インチのフォトマスク開発は、量産に向けた準備の一部

サムスンは、High-NA EUV向けの12インチ・フォトマスク基盤を開発する業界の取り組みに参加しています。これは周辺技術や供給網を整える動きであり、12インチ基盤や関連装置がサムスンの2028年目標までに量産対応できると確定したわけではありません。18

移行にはさらに時間がかかる見通しです。ASMLとTSMCの取り組みでは、12インチマスクのパイロットラインを2031年に設け、先端ノードの生産に対応するリソグラフィーシステムを2033年に準備する目標が示されています。それまでのHigh-NA生産には、既存の6インチマスクを使う計画です。19

当面の事業では、既存EUV装置の需要も焦点

High-NAが中長期の成長機会である一方、従来型のEUV装置も現在の事業を支えています。ロイターは、1台約2億ドルの既存EUV装置について、2027年までほぼ売り切れの状態だと報じました。33

ASMLは、標準的なLow-NA EUVの生産能力を2027年に2026年比で30％増やす計画を示しています。さらに2028年に向けた追加の30％増も検討中です。需要に応え、計画どおりに装置を供給できるかは、High-NAの長期的な期待と並ぶ、より近い時期の実行課題です。40

期待だけでは見通せないこと

公表された採用時期からは、High-NAの受注台数や納入時期、計画がどの速度で売上に結びつくかまでは分かりません。ウエハー100万枚超の実績も、開発から一部の量産まで複数段階の活動を合算した数字です。そのため、採用スケジュールをそのまま売上予測に置き換えることはできません。171819

競争環境にも不確実性があります。提供された情報の一つは、中国のSMEEがDUV（深紫外線）分野で代替技術の開発を試みているとしています。ただし、出荷規模は示されておらず、同社の装置がASML製品をどの程度置き換えているかも確認できません。この情報だけで、ASMLへの競争上の影響を定量化することはできません。38

株価の評価水準も、導入の遅れや受注が期待を下回った場合の投資家の反応に関わります。ただし、ここで参照できる資料からは、信頼できる単一の評価指標を定められず、株価が将来の成長を適切に織り込んでいるかも判断できません。現時点で言えるのは、採用計画がHigh-NAへの期待を支える一方、売上や利益率、株価リターンを保証するものではないということです。