ASML株急落の真相：中国の国産リソグラフィー進展と専門家が「過剰反応」と見る理由

アナリストが「過剰反応」と見る理由

複数のトップアナリストや投資銀行は、今回の売りは実際のニュースのインパクトに比べて不相応だと評価しています。

• バンク・オブ・アメリカはこの売りを明確に 「過剰反応」 と評し、7月29日の株価から70%超の上昇余地を示唆する目標株価を維持しました 。
• JPモルガンは投資家に対し、今回の売りは「報道内容に照らして不相応に見える」と指摘。限られた台数の浸液DUV装置を生産できることと、「高信頼性の量産システムを提供できることとは全く異なる」と強調しました 。
• ロイターのコラム『Breakingviews』は、「模倣品は技術的にそれほど先進的ではない」と指摘し、ASMLの優位は「今のところ安全」と論じました 。
• 核心的な論点は、中国の2026年のDUV生産計画が約5台、2027年で約20台という規模が、ASMLが毎年数百台を出荷している事実と比較して極めて小さいこと。さらにASMLの受注残は既に2027年まで売り切れ状態にあることも挙げられます 。

中国の国内リソグラフィー開発の詳細

浸液DUVでの進展:

• ファーウェイやSiCarrierなどで構成される中国国営コンソーシアムが、浸液DUV露光装置の量産を開始しました 。
• これらの装置は、SMIC、華虹、長鑫存儲技術（CXMT） などの国内チップメーカーに納入されています 。
• 生産目標: 2026年は約5台、2027年は約20台 。
• ただし、これらのシステムは性能と信頼性でまだ遅れをとっており、ASML並みの出力品質を実現するにはさらなる検証が必要です 。

EUVの進捗:

• 2025年12月、ロイターは深センで元ASMLエンジニアのチームがEUV（極紫外線）露光装置のプロトタイプを完成させ、高度な警備体制のラボでテストしていると報じました 。
• 中国の半導体業界のトップは、2026年から2030年の間に本格的なリソグラフィー・システムを構築するための統一的国家イニシアチブを提唱していますが、EDA（電子設計自動化）ソフトウェア、基礎材料、EUV技術には依然として大きなギャップがあることを認めています 。

ASMLへの推定収益影響

短期的な収益影響はごくわずかです。

• 中国からの売上は2026年、ASMLの純売上高の約20% を占めるとASMLのCFOロジャー・ダッセン氏は述べています（2024年の44%、2025年の42%から減少） 。
• 2026年に計画されている中国製DUV装置5台は、ASMLの年間出荷台数のごく一部です。DUV販売の全売上に占める割合は、2024年の44%から直近期では29% に低下しています 。
• ASMLの高収益で技術的に重要なEUV装置は、依然として中国の手が及ばない領域です 。

広範な地政学的プレッシャー

今回の状況は、米国主導の輸出規制と中国の自給自足推進の板挟みになるASMLの不安定な立場を浮き彫りにしています。

• 米国の輸出規制は既にASMLが最先端のEUV装置を中国に輸出することを禁じており、さらに古いDUV装置にも規制が強化されつつあります 。
• 中国は米国のチップ禁輸措置を回避・打破するために多面的な戦略を展開しています。自国のリソグラフィー装置開発の他、AIチップを積層して性能を向上させる手法、さらに不正ルートでのASML装置取得の試みなども囁かれています 。
• ASMLは元従業員の転職先を統制できず、深センのEUVプロトタイプ・チームには元ASML社員が含まれていると報じられています 。
• オランダ政府は、ワシントンからさらなる輸出規制強化の圧力に継続的に直面しており、ASMLは最大市場（中国）と主要同盟国（米国）の間で地政学的な板挟み状態にあります 。