米国、ASMLの最先端EUV露光装置が中国に流出した可能性を通告。同社は全面否定、新たな輸出規制法「MATCH法」の行方。

2026年6月19日時点の情報を基に、米国政府がASMLに対して、同社の最先端半導体露光装置が中国に不正に輸出された可能性があると通告した経緯、ASMLの否定、および関連する輸出規制とMATCH法の概要を解説します。

米国政府の主張

米商務長官のハワード・ルートニック氏は、複数回にわたる会合で、オランダの半導体装置メーカーASMLの経営陣に対し、同社が製造する最先端の極紫外線（EUV）露光装置が、米国主導の輸出規制に違反して中国に輸出された可能性があるとの懸念を直接伝えました 。EUV装置は1台が400億円以上と極めて高価で、先端のAI（人工知能）やスマートフォン向けプロセッサの製造に不可欠な装置です。米国政府は、この装置が中国国内に物理的に存在している可能性を憂慮しています 。

ASMLの否定と反論

ASMLはこの疑惑を全面否定しています。同社の広報担当者は 「ASMLは中国にEUV装置を出荷したことは一度もない」 と明言し 、米国政府当局に対して関連する文書も提出し、潔白を証明しようとしています。ASMLは、EUV装置はスクールバスほどの大きさで、生産台数が限られている上、ASML社員による常時オンサイトメンテナンスが必要であること、そしてそもそも中国向け輸出が禁止されていることを指摘し、事実上の輸出を否定する根拠としています 。同社は「世界各国の政府と透明かつオープンな対話を定期的に行っており、米国およびオランダの輸出規制を理解し遵守している」と述べています 。

米国政府が示す証拠の内容

ルートニック長官が懸念を抱くに至った具体的な証拠は、公には明らかにされていません。この問題を最初に報じたブルームバーグは、「関係筋」を情報源として報じていますが、中国国内にEUV装置が存在するという直接的な証拠（諜報情報や出荷記録など）については言及していません 。

一方、一部の米政府高官は、ASMLが中国にEUV装置の輸送に使用する特殊な機器や、EUVシステム向けの部品を輸出した証拠があると主張しています。しかし、これらの高官は情報の機密性を理由に具体的な証拠の提示や、中国国内にEUV装置が実際に存在することを示す証拠の存在については明らかにしていません 。

この疑惑の背景として、2025年12月にロイター通信が報じた、中国・深センの研究者がEUV露光装置のプロトタイプを開発したとする記事や 、中国による同技術の掌握を目的とした国家プロジェクト（「マンハッタン計画」）の存在が米国の警戒心を強めている可能性も指摘されています 。

輸出規制の枠組みと「MATCH法」の動き

• 既存のEUV輸出禁止：米国主導の輸出規制は既に、ASMLがEUV装置を中国に輸出することを全面的に禁止しています。今回の疑惑は、この長期間にわたる禁止措置が破られた可能性を示唆するものです 。
• DUV規制（現状）：より技術的に低いDeep Ultraviolet（DUV）液浸露光装置は、7nmノードまでのチップ製造が可能であり、現在も中国への輸出が続いています。米国政府は、このDUV装置を次の規制の主要ターゲットと位置付けています 。
• MATCH法（多国間技術管理ハードウェア整合法）：2026年4月初旬、超党派の米国議員グループが 「MATCH法（H.R. 8170）」 を提出しました 。主な内容は以下の通りです。
  • 中国へのDUV液浸露光装置などの「チョークポイント」となる半導体製造装置の販売を全面的に禁止 。
  • オランダや日本などの同盟国に対し、150日以内に米国と同水準の輸出規制を導入することを要求。もし従わない場合、米国は外国直接製品ルール（FDPR）を拡大し、米国技術を含むあらゆる装置に対し一方的な管轄権を行使するとしている 。
  • 中国国内に既に設置されているDUV装置の保守・サービスも禁止 。

同法案は2026年4月下旬に米下院外交委員会を通過し、より厳格な輸出管理を法制化する方向で議論が進んでいます 。ただし、委員会での採決前に「極低温エッチング装置」の全土禁止といった一部の条項は削除されましたが、DUV関連の規制は維持されました 。

このように、EUVを巡る新たな疑惑は、最新鋭の装置を巡る規制でさえも執行上の課題に直面している現実を浮き彫りにする一方、米国政府は「MATCH法」を通じて、同盟国も巻き込んだより包括的な規制網を構築しようとしているのが現状です。