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ASMLのEUV装置、2027年分はほぼ完売。次世代機「High-NA」量産の壁は
既存のEUV装置は2027年分がほぼ完売。2028年に約30％増産し、110台超を製造する可能性が検討されているが、納入が確定した数字ではない。[1] IntelはHigh NAを一部の製品層で量産に使用。ただし「処理済みウエハー100万枚超」には装置試験や研究開発分も含まれる。[14][51] 約4億ドルのHigh NA装置が広く普及するには、工程削減の利点を歩留まりや生産量と合わせて採算に結びつける必要がある。[2][19][44]
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研究の答え
重要なポイント
- 既存のEUV装置は2027年分がほぼ完売。2028年に約30％増産し、110台超を製造する可能性が検討されているが、納入が確定した数字ではない。[1]
- IntelはHigh NAを一部の製品層で量産に使用。ただし「処理済みウエハー100万枚超」には装置試験や研究開発分も含まれる。[14][51]
- 約4億ドルのHigh NA装置が広く普及するには、工程削減の利点を歩留まりや生産量と合わせて採算に結びつける必要がある。[2][19][44]
AI プロンプト
openai.comCreate a landscape editorial hero image for this Studio Global article: How is Dutch EUV lithography monopolist ASML managing existing EUV systems being effectively sold out through 2027 and growing commitments f. Article summary: ASML is expanding capacity to meet strong EUV demand while helping customers move High-NA from qualification into production; the central challenge is converting orders into reliable, economical factory output.[2][3][5] . Topic tags: general, news, general web. Style: premium digital editorial illustration, source-backed research mood, clean composition, high detail, modern web publication hero. Use reference image context only for broad subject, composition, and topical grounding; do not copy the exact image. Avoid: logos, brand marks, copyrighted characters, real person likenesses, fake screenshots, UI text, readable text, watermarks, charts with fake numbers
ASMLがいま直面するのは、既存のEUV（極端紫外線）露光装置を増産することと、より微細な加工を可能にするHigh-NA装置を顧客の量産現場で採算の合う技術にすることという、別々だが連動した課題だ。受注が強くても、計画どおりに製造・納入できるか、導入先が広がるかは、それだけでは決まらない。1
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2028年の「110台超」は、まだ増産構想
ASMLによると、既存のEUV装置は2027年分がほぼ完売している。完全に売り切れたという意味ではない。JPMorganのアナリストは同社の最高財務責任者との面会後、ASMLが2028年に約30％の増産を目指し、同年に110台超を製造する方法を検討していると報告した。いずれも生産能力に関する目標・検討段階の数字であり、納入実績ではない。1
ASMLはオランダのアイントホーフェンで新工場の建設にも着手した。顧客からは、1台約4億ドルの次世代High-NA装置への導入表明も相次いでいる。ただし、装置を作る能力の拡大と、顧客がその装置を安定して使いこなすことは別の話だ。2
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Intelは先行、SamsungとTSMCはこれから
IntelとASMLによれば、High-NAはすでにIntelの一部プロセッサーの特定の層で量産に使われている。両社が発表した処理済みウエハー100万枚超という累計には、初期の装置認定・試験、研究開発、量産が含まれる。100万枚すべてが販売可能な製品向けに量産された、という数字ではない。14
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顧客間の進み具合には差がある。報じられた計画では、Samsungは2028年までにDRAMの量産へ、TSMCは2030年から先端半導体の生産へHigh-NAを導入する見通しだ。2026年9月時点でHigh-NAを生産に使っているIntelに対し、SamsungとTSMCはまだ大量生産には使っていない。2
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44 既存のEUV装置を一斉に置き換えるのではなく、顧客や用途ごとに導入が進むとみるべきだ。
約4億ドルの投資を回収できるか
High-NAの利点は、従来なら複数回の露光が必要なパターンを、条件によっては1回で形成できる可能性にある。報じられた比較では、ASMLのEXE:5200Bは従来のNXEシリーズより約1.7倍微細な形状を1回の露光で描ける。これは解像力の比較であって、チップ全体が1.7倍小さくなる、あるいは生産速度が1.7倍になるという意味ではない。19
顧客にとって重要なのは、削減できる工程に加え、装置の処理能力・稼働率・歩留まりが高額な導入費用を正当化できるかどうかだ。すべての導入候補企業がその採算条件を満たしたと判断できる材料は、まだない。ASMLが主要顧客とHigh-NA向けのより大きなマスクの活用に取り組むことも、装置と並行して実際の製造方法を詰めている段階であることを示す。2
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オランダでの増産と、欧州の半導体生産は別問題
ASMLのフランク・ヘームスケルク上級副社長は、現在は欧州で半導体製造装置を販売していないと述べ、投資と新たな工場建設の不足を理由に挙げた。4 2026年第2四半期については、欧州が装置の純売上高に占める割合はゼロと報じられ、韓国と台湾が主要市場だった。
11 これは売上高の指標であり、納入台数の割合にそのまま置き換えることはできない。また、欧州に既存の半導体工場やASMLのほかの事業がないという意味でもない。
アイントホーフェンで装置の生産を増やしても、それだけで欧州域内のウエハー生産能力が増えるわけではない。装置産業の拡大と、半導体工場への投資をどう結びつけるかが、世界の半導体生産に占めるEUの比率拡大を掲げる欧州半導体法の課題となる。2
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需要が強くても株価が下がった理由
需要と株価は必ずしも同じ方向に動かない。9月24日木曜日、ASMLの米国上場株は米東部時間午前10時45分時点で1,713.41ドル、約1.8％安と報じられた。一方、同日の終値は1,722.50ドル、1.27％安だった。前者は取引時間中の値で、終値の下落率ではない。23
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この下落は、債券利回りの上昇を背景に半導体関連株が広く売られるなかで起きた。18 GuruFocusは取引時間中の株価を、独自モデルによる約1,260ドルの「GF Value」推計とも比較しているが、これは確定した企業価値ではない。
23 受注が好調でも、投資家が株価水準や増産・High-NA導入の実行力を気にすることはある。ただし、示された市場データから、High-NAの性能不良やASMLの納入遅延が当日の下落を引き起こしたとはいえない。
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「ASMLのEUV装置、2027年分はほぼ完売。次世代機「High-NA」量産の壁は」の短い答えは何ですか?
既存のEUV装置は2027年分がほぼ完売。2028年に約30％増産し、110台超を製造する可能性が検討されているが、納入が確定した数字ではない。[1]
最初に検証する重要なポイントは何ですか?
既存のEUV装置は2027年分がほぼ完売。2028年に約30％増産し、110台超を製造する可能性が検討されているが、納入が確定した数字ではない。[1] IntelはHigh NAを一部の製品層で量産に使用。ただし「処理済みウエハー100万枚超」には装置試験や研究開発分も含まれる。[14][51]
次の実践では何をすればいいでしょうか？
約4億ドルのHigh NA装置が広く普及するには、工程削減の利点を歩留まりや生産量と合わせて採算に結びつける必要がある。[2][19][44]