Secondo una stima citata da ex funzionari USA, entro l’inizio del 2026 le fabbriche cinesi avrebbero acquisito 343 sistemi DUV a immersione, per un valore di miliardi di dollari. Le tecniche di multipatterning permettono di usare strumenti DUV per produrre chip logici della classe dei 7 nanometri, anche senza access...
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Create a landscape editorial hero image for this Studio Global article: Why are former US officials calling for a complete ban on immersion deep ultraviolet (DUVi) lithography equipment sales and servicing to Chi. Article summary: Former US officials argue that restricting new DUVi sales is no longer enough: Chinese fabs have already accumulated a substantial fleet, and continued servicing could keep it productive for years. Their proposed ban wou. Topic tags: general, news, general web. Style: premium digital editorial illustration, source-backed research mood, clean composition, high detail, modern web publication hero. Use reference image context only for broad subject, composition, and topical grounding; do not copy the exact image. Avoid: logos, brand marks, copyrighted characters, real person likenesses, fake screenshots, UI text, readable text, watermarks, charts with fake numbers
Alcuni ex funzionari statunitensi sostengono che limitare le nuove vendite di macchinari per la litografia DUV a immersione non basti: le fabbriche cinesi dispongono già di una consistente dotazione e le attrezzature installate richiedono manutenzione e assistenza. La loro proposta mira quindi a bloccare sia ulteriori forniture sia il servizio ai sistemi già in uso.
A sostegno dell’urgenza, citano una stima secondo cui le fabbriche di proprietà cinese avrebbero acquisito 343 sistemi DUV a immersione entro l’inizio del 2026, per un valore di miliardi di dollari. È una stima, non un censimento pubblico verificato.3
I sistemi EUV, usati per le lavorazioni più avanzate, non sono disponibili alle aziende cinesi. Questo, però, non impedisce loro di produrre alcuni chip avanzati: ricorrendo a più passaggi di litografia, i macchinari DUV possono contribuire alla realizzazione di chip logici della classe dei 7 nanometri. Un rapporto descrive l’impiego di questi strumenti da parte dei produttori cinesi proprio per fabbricare chip di questa categoria senza ricorrere all’EUV.15
Secondo i promotori delle restrizioni, una vasta flotta di sistemi DUV a immersione potrebbe sostenere ulteriore produzione di chip, anche per applicazioni legate all’intelligenza artificiale. Per questo la stima delle macchine già accumulate è centrale nella loro argomentazione: fermare soltanto le nuove vendite potrebbe non incidere rapidamente sulla produzione se gli impianti esistenti continuassero a funzionare.3
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Le norme olandesi prevedono già licenze per l’esportazione di alcune apparecchiature litografiche avanzate. La proposta dei funzionari andrebbe oltre: vieterebbe le vendite di sistemi DUV a immersione in tutta la Cina e impedirebbe di assistere quelli già installati. Sarebbe quindi una misura più estesa del blocco di singole spedizioni o delle restrizioni rivolte a specifiche aziende.4
La manutenzione è un punto cruciale: vietare le vendite limita le consegne future, ma non toglie dai fabbricati gli strumenti già acquistati. Secondo un’inchiesta sulle due principali aziende cinesi di chip di memoria, le loro scorte potrebbero sostenere tre anni di espansione della capacità già pianificata. Il dato riguarda i piani di quelle imprese e non indica per quanto tempo ogni fabbrica cinese potrebbe operare senza nuove macchine o assistenza.19
Il MATCH Act è una proposta legislativa distinta, pensata per ampliare le restrizioni e avvicinare le regole statunitensi a quelle degli alleati, tra cui Paesi Bassi e Giappone. Secondo Reuters, anche una versione ridimensionata del testo includeva una restrizione nazionale sui macchinari DUV a immersione di ASML. Il provvedimento, tuttavia, è una proposta: non equivale a un divieto generale già entrato in vigore.1
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Se gli alleati non allineassero i propri controlli, Washington potrebbe cercare di ricorrere alle norme statunitensi sulle esportazioni, incluso un possibile ampliamento della Foreign Direct Product Rule, per raggiungere attrezzature che incorporano tecnologia USA. Si tratta di un meccanismo ipotizzato: non dimostra che gli Stati Uniti possano imporre automaticamente a un fornitore olandese un divieto completo di assistenza senza la collaborazione dei Paesi Bassi.9
Un divieto potrebbe pesare sulle attività di ASML in Cina, ma i dati sulle vendite disponibili non permettono di quantificare l’effetto di un blocco dell’assistenza né le conseguenze sulla produzione di chip cinese. Nel primo trimestre del 2026 la Cina ha rappresentato, secondo quanto riportato, il 19% delle vendite nette di sistemi di ASML; nel secondo trimestre la quota è scesa al 14%.5
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La Cina sta anche sviluppando strumenti litografici DUV a immersione propri. Le notizie disponibili segnalano progressi, ma non chiariscono quanto rapidamente le alternative nazionali possano diventare competitive.18 L’incertezza va in entrambe le direzioni: nel tempo, i macchinari locali potrebbero ridurre l’efficacia delle restrizioni; nel breve periodo, un divieto potrebbe comunque limitare l’accesso alle apparecchiature importate e al relativo supporto.
Il ragionamento alla base della proposta è semplice: se la stima delle scorte è corretta e l’assistenza contribuisce a mantenerle operative, bloccare soltanto le vendite potrebbe lasciare in funzione una parte rilevante dei macchinari. Ma la stima non è un inventario confermato, il MATCH Act non è legge e né lo sviluppo di alternative cinesi né le quote di vendita di ASML bastano a stabilire quanto rapidamente un divieto cambierebbe la capacità produttiva del Paese.
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Secondo una stima citata da ex funzionari USA, entro l’inizio del 2026 le fabbriche cinesi avrebbero acquisito 343 sistemi DUV a immersione, per un valore di miliardi di dollari.
Secondo una stima citata da ex funzionari USA, entro l’inizio del 2026 le fabbriche cinesi avrebbero acquisito 343 sistemi DUV a immersione, per un valore di miliardi di dollari. Le tecniche di multipatterning permettono di usare strumenti DUV per produrre chip logici della classe dei 7 nanometri, anche senza accesso ai sistemi EUV.[15]
Il MATCH Act potrebbe ampliare le restrizioni, ma è una proposta di legge, non un divieto già in vigore.