Macchine EUV, quanto manca alla Cina per raggiungere ASML?

La Cina potrebbe impiegare circa 15 anni per sviluppare macchine proprie per la litografia a ultravioletti estremi, o EUV. È la stima definita «ragionevole» da Frank Rohmund, responsabile della divisione semiconduttori di Zeiss. UBS, da parte sua, ritiene improbabile che Pechino sviluppi un’alternativa valida alla tecnologia EUV di ASML nel prossimo decennio. Non sono scadenze certe: Rohmund ha avvertito che i progressi cinesi sono difficili da quantificare. 13

Perché l’EUV è un traguardo così impegnativo

La litografia è una fase della produzione dei chip: consente di trasferire i disegni dei circuiti sul materiale semiconduttore. L’EUV è al centro della sfida sulle apparecchiature più avanzate, ma realizzare una macchina non significa soltanto progettare un singolo strumento. Servono anche componenti ottici altamente specializzati e una filiera in grado di produrli.

Zeiss è un fornitore chiave delle ottiche impiegate nei sistemi EUV di ASML. Il suo ruolo aiuta a spiegare perché il divario tecnologico non riguardi solo la macchina completa, ma anche le competenze e i componenti necessari a farla funzionare. 2

DUV: un passo più vicino, ma non è una scorciatoia verso l’EUV

Sul fronte della litografia DUV (ultravioletti profondi), una tecnologia meno avanzata, la prospettiva è più ravvicinata. Secondo le stime riportate da UBS, la Cina potrebbe raggiungere la produzione su larga scala di sistemi DUV a immersione entro due-cinque anni. 3

Questo possibile traguardo non va confuso con lo sviluppo di macchine EUV: indica un avanzamento nella produzione domestica di apparecchiature DUV, non il superamento del divario con i sistemi più avanzati di ASML. Le previsioni citate considerano le due tecnologie su percorsi distinti. 3

Controlli all’export: limite e incentivo

Le restrizioni impediscono l’esportazione in Cina dei sistemi EUV e alcuni modelli avanzati di DUV a immersione sono soggetti a licenze. Questi vincoli riducono l’accesso alle apparecchiature straniere. Rohmund ha però avvertito che ulteriori controlli potrebbero spingere la Cina ad accelerare lo sviluppo di tecnologie proprie. 2311

L’effetto nel lungo periodo, quindi, non è scontato: le restrizioni possono ostacolare l’accesso agli strumenti, ma anche aumentare l’incentivo a costruire alternative nazionali. Le stime disponibili non indicano quanto rapidamente questo impulso potrebbe ridurre il divario. 2

La domanda legata all’IA e la risposta di Zeiss

La crescita della domanda di semiconduttori associata all’intelligenza artificiale sta mettendo sotto pressione anche la capacità di fornire ottiche per la produzione di chip. Un resoconto sulle attività di Zeiss riferisce che l’azienda ha ampliato la propria sede produttiva dedicata ai semiconduttori, sta aggiungendo capacità in un altro sito e dichiara di poter aumentare ulteriormente la produzione, se necessario.

Si tratta di una risposta alla domanda di mercato, non di un piano indicato come specificamente legato allo sviluppo cinese dell’EUV o ai controlli all’export.

Che cosa ci dicono davvero queste stime

Il quadro più prudente è questo: la Cina potrebbe progredire prima nella DUV a immersione, mentre per un sistema EUV nazionale o un’alternativa competitiva ad ASML le stime parlano di un orizzonte di almeno un decennio. I circa 15 anni citati da Zeiss sono una valutazione di un dirigente del settore; la previsione di UBS è un’analisi, non una tabella di marcia garantita. 13

Nel frattempo, le ottiche di Zeiss restano una componente importante dei sistemi EUV di ASML, i controlli limitano l’accesso della Cina alle apparecchiature più avanzate e la domanda legata all’IA spinge i fornitori ad ampliare la capacità produttiva. Come questi fattori si influenzeranno a vicenda è ancora incerto: le fonti disponibili non permettono di stabilire quando, o se, la Cina raggiungerà le prestazioni degli attuali sistemi EUV. 23