Accuse USA su ASML: timori che la macchina EUV più avanzata sia in Cina

Le prove (non) fornite dai funzionari USA

Le prove specifiche alla base del sospetto americano non sono state rese pubbliche. Bloomberg News, che ha rotto la notizia, ha riportato la questione citando "persone a conoscenza della vicenda", ma non ha descritto i servizi segreti, i documenti di spedizione o altre prove che hanno spinto all'intervento di Lutnick . La stampa pubblica non menziona alcun avvistamento confermato di un sistema EUV in Cina, nessuna spedizione intercettata e nessun registro di assistenza che mostri un'installazione non autorizzata.

Il contesto più ampio potrebbe alimentare i sospetti. Nel dicembre 2025, Reuters ha riferito che ricercatori cinesi a Shenzhen avevano costruito un prototipo di macchina litografica EUV come parte di quello che è stato descritto come il "Progetto Manhattan" cinese per rivaleggiare con l'Occidente nei chip per l'IA . Separatamente, gli analisti hanno notato che alcuni componenti dual-use o meno soggetti a restrizioni che potrebbero aiutare lo sviluppo nazionale dell'EUV sono stati più difficili da tracciare . Tuttavia, se questi sviluppi siano collegati all'attuale accusa non è confermato.

Contesto più ampio: restrizioni all'esportazione e il MATCH Act

• Divieto EUV esistente: Le restrizioni all'esportazione guidate dagli USA già vietano ad ASML di spedire sistemi EUV in Cina. Questa accusa, se vera, rappresenterebbe una violazione di questo divieto di lunga data .
• Controlli DUV (correnti): Le macchine litografiche a ultravioletti profondi (DUV) immersion, meno avanzate ma in grado di produrre chip fino a nodi da 7 nm, hanno continuato a fluire in Cina e sono il prossimo obiettivo principale delle restrizioni .
• Il MATCH Act: All'inizio di aprile 2026, un gruppo bipartisan di legislatori USA ha introdotto il Multilateral Alignment of Technology Controls on Hardware (MATCH) Act (H.R. 8170) . Le disposizioni chiave includono:
  • Un divieto a livello nazionale sulla vendita di attrezzature per la produzione di semiconduttori "chokepoint", inclusi strumenti litografici DUV immersion e strumenti di incisione criogenica, verso qualsiasi destinazione all'interno di un paese di interesse (nominando direttamente la Cina) .
  • Un requisito che le nazioni alleate come i Paesi Bassi e il Giappone allineino le loro restrizioni all'esportazione con le regole USA entro 150 giorni, o affrontino l'applicazione unilaterale degli USA tramite una regola sui prodotti esteri diretti (FDPR) che darebbe a Washington giurisdizione su qualsiasi attrezzatura contenente tecnologia americana .
  • Un divieto di assistenza tecnica per le macchine DUV già installate in Cina .
  • Il disegno di legge ha superato la commissione per gli affari esteri della Camera alla fine di aprile 2026 ed è avanzato come parte di una più ampia revisione delle misure di controllo delle esportazioni .

In breve, il MATCH Act cerca di codificare e ampliare gli attuali controlli all'esportazione del potere esecutivo in legge, chiudendo la scappatoia DUV e facendo pressione sugli alleati affinché facciano lo stesso – il tutto mentre la nuova accusa EUV suggerisce che anche i divieti esistenti più severi potrebbero affrontare sfide di applicazione.