China Masih Jauh dari Mesin Litografi EUV Buatan Sendiri

China masih menghadapi kesenjangan besar dalam pengembangan mesin litografi ultraviolet ekstrem atau extreme ultraviolet (EUV), teknologi yang digunakan untuk membuat pola sirkuit pada chip tercanggih. Frank Rohmund, pimpinan divisi semikonduktor Zeiss, menyebut sekitar 15 tahun sebagai perkiraan yang masuk akal bagi China untuk mengembangkan mesin EUV sendiri. UBS, sementara itu, menilai alternatif yang layak untuk teknologi EUV ASML kecil kemungkinannya tersedia dalam satu dekade. Keduanya adalah perkiraan, bukan tenggat pasti, dan mengacu pada capaian yang berkaitan tetapi tidak persis sama. 13

Mengejar EUV bukan sekadar merancang mesin

Mesin litografi membantu mencetak pola rangkaian pada wafer semikonduktor. Dalam persaingan saat ini, EUV menjadi tolok ukur utama untuk peralatan produksi chip canggih. Perkiraan UBS menyoroti apakah China dapat mengembangkan peralatan yang mampu menjadi pengganti teknologi EUV ASML. Rohmund juga mengingatkan bahwa kemajuan China sulit diukur, sehingga angka 15 tahun bukan hitung mundur yang pasti. 13

Tantangannya bukan hanya membuat mesin. Zeiss memasok optik khusus yang digunakan dalam sistem EUV ASML, menjadikannya bagian penting dari rantai pasok peralatan tersebut. 2

DUV berpeluang maju lebih cepat, tetapi bukan EUV

Jalur yang diperkirakan lebih dekat bagi China adalah litografi ultraviolet dalam atau deep ultraviolet (DUV) imersi, teknologi yang lebih lama dibanding EUV. Menurut perkiraan analis UBS yang dilaporkan, China dapat mencapai produksi volume tinggi sistem DUV imersi dalam dua hingga lima tahun. Itu akan menandai kemajuan dalam produksi peralatan dalam negeri, tetapi bukan terobosan EUV ataupun pengganti bagi sistem ASML tercanggih. 3

Karena itu, perkiraan produksi DUV tidak sepatutnya dianggap sebagai bukti bahwa China telah menutup kesenjangan EUV. Kedua jalur teknologi tersebut dinilai secara terpisah. 3

Pembatasan ekspor bisa berdampak dua arah

Pembatasan yang dilaporkan membuat sistem EUV tidak dapat dikirim ke China, sementara ekspor sejumlah peralatan DUV imersi canggih juga memerlukan izin. Aturan ini membatasi akses terhadap peralatan asing. Namun, Rohmund memperingatkan bahwa penambahan pembatasan dapat mendorong China mempercepat inovasi dan pengembangan teknologi sendiri. 2311

Dengan demikian, dampak jangka panjangnya tidak sesederhana siapa yang diuntungkan. Pembatasan dapat mempersempit akses ke peralatan, tetapi juga memperkuat dorongan untuk membangun alternatif dalam negeri. Sumber yang tersedia belum menunjukkan seberapa cepat upaya itu dapat memperkecil kesenjangan. 2

Permintaan terkait AI mendorong Zeiss menambah kapasitas

Permintaan yang berkaitan dengan AI turut membentuk pasar peralatan semikonduktor. Menanggapi kenaikan permintaan untuk optik semikonduktor, Zeiss telah memperluas kantor pusat manufaktur semikonduktornya, sedang membangun kapasitas produksi tambahan di lokasi lain, dan menyatakan dapat meningkatkan kapasitas lebih lanjut jika diperlukan.

Langkah tersebut merupakan respons terhadap permintaan pasar, bukan rencana yang secara khusus disebut ditujukan untuk menghambat pengembangan EUV China atau menanggapi pembatasan ekspor. Pembedaan ini penting: industri menghadapi persaingan dalam teknologi litografi canggih sekaligus kebutuhan praktis untuk memasok lebih banyak komponen optik.

Apa yang bisa disimpulkan dari perkiraan ini?

Gambaran paling jelas adalah China diperkirakan dapat lebih dulu membuat kemajuan pada DUV, sementara pengembangan mesin EUV sendiri atau alternatif yang layak masih diperkirakan memerlukan waktu satu dekade atau lebih. Angka 15 tahun dari Zeiss merupakan penilaian seorang eksekutif pemasok utama peralatan, sedangkan UBS memberikan perkiraan analis. Keduanya bukan jadwal yang dijamin. 13

Tiga hal akan membentuk prospek industri: optik Zeiss merupakan bagian penting dari rantai pasok EUV ASML; pembatasan ekspor membatasi akses, tetapi berpotensi memacu pengembangan domestik; dan permintaan terkait AI mendorong Zeiss menambah kapasitas. Belum ada kepastian kapan—atau apakah—China akan mampu menyamai sistem EUV yang tersedia saat ini. 23