Mengapa CEO ASML Khawatir Pembatasan Ekspor ke China Bisa Berbalik Arah

Peringatan Christophe Fouquet berpusat pada dampak jangka panjang dari kontrol ekspor yang terlalu luas. Pembatasan memang dapat menghambat akses China terhadap peralatan pembuat chip dari luar negeri saat ini, tetapi juga bisa membuat perusahaan dan pemerintah China semakin terdorong untuk mengembangkan alternatif sendiri. Ini argumen agar aturan tetap berfokus pada tujuan keamanan nasional—bukan klaim bahwa China sudah dekat menyamai teknologi tercanggih ASML. 45

Mengapa pembatasan yang lebih luas bisa berbalik arah

China sudah tidak bisa membeli mesin litografi ultraviolet ekstrem (EUV) dari ASML. Namun, perusahaan di China masih membeli peralatan ultraviolet dalam (DUV) yang teknologinya lebih lama untuk penggunaan yang diizinkan. 1417 Kekhawatiran Fouquet, menurut laporan, adalah bahwa pembatasan yang diperluas terlalu jauh dapat membuat perusahaan dan pembuat kebijakan China lebih tertarik mendanai serta menggunakan produk lokal. Dalam jangka panjang, kebijakan yang dimaksudkan untuk membatasi akses bisa ikut mendorong lahirnya pesaing. 45

Risikonya bukan berarti China akan segera mengganti mesin ASML satu banding satu. Membuat peralatan litografi merupakan pekerjaan rumit, dan mesin buatan dalam negeri perlu membuktikan kinerja serta keandalannya dalam produksi. Kekhawatirannya adalah investasi dan pengalaman yang terakumulasi selama bertahun-tahun dapat mengurangi ketergantungan pada pemasok asing di sejumlah segmen pasar.

Mengapa ASML menjadi titik penting dalam rantai pasok chip

Litografi EUV digunakan untuk mencetak pola berukuran sangat kecil pada semikonduktor mutakhir. ASML merupakan satu-satunya pemasok komersial mesin EUV, sehingga peralatannya menjadi mata rantai penting dalam produksi chip canggih, termasuk chip yang digunakan untuk kecerdasan buatan (AI). 813

Posisi itu bukan berarti ASML bisa langsung memenuhi setiap kenaikan permintaan. Perusahaan menghadapi kendala rantai pasok ketika kebutuhan akan peralatan pembuat chip meningkat. Reuters melaporkan ASML berencana mengirim 60 mesin EUV low-NA pada 2026 dan memiliki kapasitas untuk mengirim 80 unit pada 2027. Laporan terpisah menyebut kapasitas perusahaan berpotensi sudah dipesan hingga akhir 2027. 117 Angka-angka ini menunjukkan bahwa lonjakan permintaan chip canggih tidak serta-merta bisa segera diimbangi dengan tambahan kapasitas litografi.

Apa yang ditunjukkan oleh upaya DUV China

Sejumlah laporan menggambarkan upaya China mengembangkan mesin litografi DUV canggih, dengan Huawei dikaitkan dengan dorongan yang lebih luas itu. Salah satu laporan menyebut mesin-mesin tersebut sedang diuji dan menargetkan produksi 12 unit pada akhir 2026. Laporan itu menunjukkan kemungkinan jalur untuk membangun kemampuan dalam negeri, tetapi target dan prototipe belum membuktikan bahwa mesin tersebut mampu beroperasi andal dalam produksi massal.

DUV dan EUV adalah teknologi yang berbeda. Kemajuan pada mesin DUV buatan dalam negeri tidak membuktikan China mampu menggantikan sistem EUV ASML. Laporan Reuters tentang prototipe EUV China yang terpisah menyebut mesin itu masih dalam pengujian dan belum menghasilkan chip yang berfungsi. 2

Jika mesin DUV buatan China kelak terbukti andal dan kompetitif dalam skala besar, alat tersebut dapat menekan bisnis DUV ASML di China sekaligus memberi pemasok lokal pengalaman lebih banyak. Namun, kesimpulan yang lebih kuat untuk saat ini tetap terbatas: China sedang mengejar alternatif, tetapi laporan yang tersedia belum menunjukkan bahwa kepemimpinan ASML dalam EUV telah tergeser.

Intinya

Peringatan Fouquet berbicara tentang insentif dan dampak jangka panjang. Pembatasan yang lebih luas bisa mendorong China berinvestasi lebih besar pada peralatan buatan sendiri. Sementara itu, posisi tunggal ASML di pasar EUV dan kapasitas produksinya yang terbatas membuat perusahaan tersebut tetap krusial bagi pembuatan chip tercanggih saat ini. Upaya China mengembangkan DUV layak dipantau sebagai potensi tantangan jangka panjang—bukan sebagai bukti bahwa pengganti EUV sudah dekat.