imec Bangun Perangkat Qubit Quantum Dot Pertama dengan Litografi High‑NA EUV

Riset komputasi kuantum selama ini menghadapi masalah besar yang jarang dibahas: manufaktur. Membuat beberapa qubit di laboratorium relatif mungkin, tetapi membuat ribuan atau jutaan qubit dengan presisi yang konsisten—seperti industri semikonduktor memproduksi chip klasik—adalah tantangan yang jauh lebih sulit.

Sebuah pencapaian terbaru dari pusat riset semikonduktor Belgia, imec, memberi petunjuk bahwa solusi mungkin datang dari teknologi yang sudah dipakai dalam industri chip modern. Lembaga tersebut melaporkan perangkat qubit quantum‑dot pertama yang dibuat menggunakan litografi High‑NA EUV dari ASML.

Demonstrasi ini bukan komputer kuantum siap pakai. Namun yang penting: eksperimen tersebut menunjukkan bahwa perangkat kuantum dapat diproduksi menggunakan alat manufaktur paling maju yang digunakan untuk chip silikon generasi berikutnya.

Apa yang sebenarnya didemonstrasikan imec

Pada Mei 2026, imec mengumumkan demonstrasi pertama di dunia berupa perangkat qubit quantum‑dot yang dipattern menggunakan litografi High‑NA EUV. Teknologi ini saat ini merupakan sistem litografi paling canggih dalam industri semikonduktor.

High‑NA (high numerical aperture) EUV menawarkan resolusi yang jauh lebih tinggi dibandingkan generasi EUV sebelumnya. Teknologi ini memungkinkan pembuatan pola yang sangat kecil dan presisi pada wafer silikon—kemampuan yang diperlukan untuk node chip masa depan di bawah 2 nanometer.

Dengan alat tersebut, imec berhasil membuat jaringan qubit quantum‑dot yang berfungsi dengan jarak antar struktur sangat kecil. Hasil ini menunjukkan bahwa litografi High‑NA mampu mendefinisikan struktur nanoskal yang dibutuhkan untuk arsitektur qubit berbasis silikon.

Detail lengkap proses fabrikasi—seperti jenis resist, proses etsa, atau metrik yield—tidak dipublikasikan. Namun eksperimen ini sudah cukup untuk membuktikan bahwa perangkat quantum‑dot dapat dibuat menggunakan platform litografi yang sama dengan chip logika generasi berikutnya.

Mengapa High‑NA EUV penting untuk komputasi kuantum

Banyak pendekatan komputasi kuantum menghadapi masalah yang sama: skalabilitas. Bahkan jika satu qubit bekerja dengan baik, memproduksi ribuan qubit identik secara konsisten sangat sulit.

Qubit berbasis quantum‑dot menarik karena dibuat langsung di silikon menggunakan struktur gerbang nanoskal—secara konsep mirip dengan transistor modern pada chip semikonduktor.

Jika struktur tersebut dapat diproduksi menggunakan litografi industri yang sama dengan chip logika, maka skala produksi qubit bisa meningkat jauh lebih cepat.

Teknologi High‑NA EUV membantu karena memungkinkan:

• fitur yang jauh lebih kecil dan presisi pada wafer silikon
• fidelitas pola dan alignment yang lebih baik pada skala nanometer
• kompatibilitas dengan proses manufaktur semikonduktor industri

Dengan mendemonstrasikan perangkat quantum‑dot menggunakan alat ini, imec menunjukkan bahwa platform litografi yang dirancang untuk masa depan komputasi klasik juga dapat mendukung perangkat kuantum.

Konvergensi manufaktur chip klasik dan perangkat kuantum

Secara historis, perangkat kuantum sering dibuat di laboratorium penelitian dengan proses khusus yang berbeda dari manufaktur chip industri.

Demonstrasi imec mengarah ke masa depan yang berbeda: perangkat kuantum yang diproduksi dengan teknologi manufaktur semikonduktor arus utama.

Hal ini penting karena industri chip sudah memiliki pengalaman puluhan tahun dalam:

• litografi nanoskal dan kontrol pola
• integrasi proses dengan ratusan langkah fabrikasi
• produksi wafer volume tinggi
• peningkatan yield dan metrologi

Jika qubit silikon dapat memanfaatkan ekosistem ini, perkembangan perangkat kuantum bisa mengikuti jalur yang lebih mirip dengan evolusi mikroelektronika modern.

Peran proyek NanoIC di Belgia

Pekerjaan imec ini terkait erat dengan infrastruktur riset semikonduktor yang lebih besar. Lembaga tersebut mengoperasikan NanoIC, pilot line terbesar di Eropa di bawah program EU Chips Act, yang berlokasi di Leuven.

NanoIC merupakan investasi sekitar €2,5 miliar, termasuk sekitar €700 juta dari Uni Eropa serta dukungan tambahan dari pemerintah nasional dan mitra industri.

Fasilitas ini memungkinkan perusahaan dan peneliti menguji teknologi proses dan arsitektur chip baru sebelum mereka berinvestasi miliaran euro dalam produksi massal.

Sebagai bagian dari infrastruktur tersebut, sistem litografi High‑NA EUV dari ASML telah dipasang di cleanroom 300 mm milik imec.

Dengan lingkungan penelitian yang mendekati kondisi industri, para peneliti dapat mengeksplorasi bagaimana teknologi baru—termasuk perangkat kuantum—bisa diproduksi menggunakan alur manufaktur semikonduktor modern.

Bagian dari ekosistem High‑NA EUV global

Demonstrasi perangkat kuantum ini juga mencerminkan semakin pentingnya teknologi High‑NA EUV secara global.

Sistem High‑NA dari ASML merupakan langkah berikutnya dalam litografi ultraviolet ekstrem dan diharapkan memungkinkan generasi chip logika dan memori berikutnya yang akan diproduksi pada akhir dekade ini.

Untuk mempercepat pengembangannya, ASML bekerja sama erat dengan imec melalui program riset dan laboratorium bersama yang berfokus pada teknologi patterning generasi berikutnya.

Pada saat yang sama, peran ASML dalam ekosistem semikonduktor global terus berkembang. Contohnya adalah kemitraan perusahaan tersebut dengan Tata Electronics untuk memasok peralatan litografi dan dukungan teknis bagi fab semikonduktor komersial pertama India di Dholera, Gujarat.

Proyek seperti ini menunjukkan bagaimana infrastruktur manufaktur chip canggih sedang dibangun di berbagai wilayah dunia.

Mengapa pencapaian ini penting

Hasil imec tidak berarti komputer kuantum skala besar akan segera hadir. Demonstrasi ini belum membuktikan keberadaan array qubit besar, yield tinggi, atau prosesor kuantum toleran terhadap kesalahan.

Namun eksperimen ini menunjukkan sesuatu yang sangat penting: alat manufaktur semikonduktor paling maju dapat digunakan untuk membuat perangkat kuantum.

Jika qubit silicon quantum‑dot terus berkembang dengan memanfaatkan litografi, kontrol proses, dan infrastruktur manufaktur yang sama dengan chip modern, maka jalur menuju komputer kuantum skala besar bisa mulai menyerupai roadmap yang sebelumnya membangun industri mikroelektronika dunia.