31 अगस्त 2026 को सामने आए विवरण के अनुसार, Samsung का V10 BV NAND प्रोटोटाइप 400 से ज्यादा वर्डलाइन के साथ V9 की तुलना में 58% से अधिक बिट डेंसिटी, 4.8 Gbps से ज्यादा I/O स्पीड और 25% से अधिक कम बिजली खपत का दावा करता... इसकी मुख्य तकनीक मेमोरी सेल ऐरे और पेरिफेरल सर्किटरी को अलग अलग वेफर पर बनाकर बॉन्ड करना है; 400...
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शोध उत्तर

Create a landscape editorial hero image for this Studio Global article: What technical details did Samsung reveal on August 31, 2026, about its 10th-generation V10 BV-NAND flash memory chip—including its “full ca. Article summary: Samsung said V10 BV-NAND is a 10th-generation, 3D bonded NAND design intended to raise capacity, throughput, and energy efficiency for AI storage. Its disclosed performance claims versus V9 were over 58% higher bit densi. Topic tags: general, news, general web. Style: premium digital editorial illustration, source-backed research mood, clean composition, high detail, modern web publication hero. Use reference image context only for broad subject, composition, and topical grounding; do not copy the exact image. Avoid: logos, brand marks, copyrighted characters, real person likenesses, fake screenshots, UI text, readable text, watermarks, charts with fake numbers
Samsung का V10 Bonding V-NAND, जिसे संक्षेप में BV-NAND कहा जा रहा है, 3D NAND फ्लैश मेमोरी की 10वीं पीढ़ी का डिजाइन है। इसमें 400 से ज्यादा वर्डलाइन यानी मेमोरी की ऊर्ध्वाधर परतें हैं। कंपनी इसे AI युग के ऐसे सिस्टमों के लिए तैयार कर रही है जिन्हें अधिक स्टोरेज क्षमता, तेज डेटा ट्रांसफर और कम बिजली खपत की जरूरत होती है। 1
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31 अगस्त को साझा किए गए Samsung के विवरण के मुताबिक, V9 की तुलना में V10 में बिट डेंसिटी 58% से अधिक बढ़ी है। I/O स्पीड 4.8 Gbps से ऊपर है, जो 33% से अधिक सुधार दर्शाती है, जबकि बिजली की खपत 25% से ज्यादा कम होने का दावा किया गया है। 2
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इतनी ऊंची NAND संरचना को एक ही विशाल स्टैक के रूप में बनाने के बजाय Samsung ने 3-स्टैक HARC Merge प्रक्रिया अपनाई है। इसमें मेमोरी सेल की परतों को तीन अलग-अलग स्टैक सेक्शन में बांटकर बनाया जाता है और फिर उन्हें लंबवत रूप से जोड़ा जाता है। अत्यधिक लेयर काउंट से जुड़ी निर्माण चुनौतियों को संभालने के लिए Multi Hole और Zero Dummy Hole तकनीकों का भी इस्तेमाल किया गया है। 13
17
यह तरीका इसलिए अहम है क्योंकि NAND में डेंसिटी बढ़ाना केवल और अधिक लेयर जोड़ने का मामला नहीं है। जैसे-जैसे स्टैक ऊंचा होता जाता है, निर्माण प्रक्रिया, अलाइनमेंट और इलेक्ट्रिकल परफॉर्मेंस से जुड़ी दिक्कतें बढ़ती हैं। संरचना को कई हिस्सों में बांटने से Samsung को वर्टिकल डिजाइन को आगे बढ़ाने और इन प्रक्रियागत सीमाओं से निपटने का रास्ता मिलता है। हालांकि उपलब्ध स्रोत तीन-स्टैक संरचना और सहायक तकनीकों की पुष्टि करते हैं, लेकिन हर निर्माण चरण का पूरा तकनीकी विवरण सार्वजनिक नहीं करते।
V10 में NAND के सेल ऐरे और उसके पेरिफेरल, यानी नियंत्रण सर्किटरी, को अलग किया गया है। Samsung इन दोनों हिस्सों को अलग-अलग वेफर पर बनाकर बाद में आपस में बॉन्ड करता है। इससे मेमोरी ऐरे और उसे नियंत्रित करने वाली सर्किटरी को अलग-अलग विकसित और अनुकूलित करने के बाद एक साथ जोड़ा जा सकता है। 2
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इस डिजाइन का उद्देश्य केवल एक ही वेफर स्टैक को और ऊंचा किए बिना डेंसिटी और परफॉर्मेंस बढ़ाना है। Samsung के अनुसार, अलग-अलग तैयार की गई पेरिफेरल सर्किटरी को बेहतर प्रदर्शन के लिए अनुकूलित किया जा सकता है। यही आर्किटेक्चर V10 में बताए गए डेटा ट्रांसफर और बिजली दक्षता सुधारों में योगदान देता है। 2
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उपलब्ध रिपोर्टिंग में “full capping” का अर्थ ऐसे लेआउट से बताया गया है जिसमें नीचे की पेरिफेरल डाई का फुटप्रिंट ऊपर की सेल-ऐरे डाई के बराबर रखा जाता है, बजाय इसके कि वह बाहर तक फैली हो। इससे अलग-अलग वेफर पर बने सेल ऐरे और पेरिफेरल सर्किटरी के लाभ बरकरार रखते हुए पैकेज या चिप क्षेत्र को अधिक बढ़ने से रोकने में मदद मिल सकती है।
लेकिन Samsung की उपलब्ध प्राथमिक सामग्री और स्रोत अंश अलग-अलग वेफर तथा बॉन्डिंग वाली व्यापक आर्किटेक्चर की पुष्टि करते हैं। वे “full capping” शब्द के सूक्ष्म ज्यामितीय अर्थ या फुटप्रिंट के बिल्कुल समान होने की स्वतंत्र पुष्टि नहीं करते। इसलिए इस खास लेआउट की व्याख्या को सावधानी से देखना चाहिए।
Samsung ने अपनी 9वीं पीढ़ी के V-NAND यानी V9 के मुकाबले V10 के लिए ये सुधार बताए हैं:
अधिक बिट डेंसिटी का सीधा अर्थ है कि समान भौतिक क्षेत्र में ज्यादा डेटा रखा जा सकता है। Samsung ने V10 को भविष्य के हाई-कैपेसिटी SSD डिजाइन से जोड़ा है, जिनमें 128 TB तक क्षमता और अगली पीढ़ी के PCIe Gen7 SSD समाधान शामिल हैं। 13
ध्यान देने वाली बात यह है कि ये Samsung के घोषित प्रदर्शन दावे हैं, स्वतंत्र बेंचमार्क के नतीजे नहीं। उपलब्ध सामग्री यह स्पष्ट नहीं करती कि अलग-अलग SSD उत्पादों, वर्कलोड या कंट्रोलर कॉन्फिगरेशन में ये सुधार वास्तविक प्रदर्शन के रूप में कितने दिखाई देंगे।
AI डेटा सेंटरों में ट्रेनिंग डेटा, मॉडल चेकपॉइंट और अन्य बड़े डेटा सेट के लिए भारी स्टोरेज क्षमता चाहिए। NAND, हाई-बैंडविड्थ DRAM का विकल्प नहीं है; लेकिन यह उस स्टोरेज लेयर के लिए उपयोगी है जहां क्षमता, लागत और ऊर्जा खपत महत्वपूर्ण होती है।
Samsung ने V10 को अपनी व्यापक AI-मेमोरी रणनीति के हिस्से के रूप में पेश किया है। इसी पोर्टफोलियो में zHBM और zNAND-O भी शामिल हैं। कंपनी के अनुसार, zHBM में हाई-बैंडविड्थ मेमोरी को AI एक्सेलरेटर के और करीब या उसके ऊपर वर्टिकली रखने की अवधारणा है। वहीं zNAND-O, V-NAND पर आधारित हाई-परफॉर्मेंस NAND अवधारणा है, जिसे चार और आठ लेयर वाले संस्करणों में विकसित किया जा रहा है। 5
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7
इन सभी डिजाइनों का साझा विचार है—मेमोरी और पैकेजिंग में 3D तथा वर्टिकल इंटीग्रेशन का इस्तेमाल करके जगह, बैंडविड्थ, बिजली और तापमान से जुड़ी सीमाओं को कम करना। V10 इस रणनीति का स्टोरेज-केंद्रित हिस्सा है, जबकि उपलब्ध प्रमाणों के आधार पर zHBM और zNAND-O अभी कॉन्सेप्ट या विकासाधीन आर्किटेक्चर हैं, बाजार में उपलब्ध उत्पाद नहीं। 1
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Samsung ने V10 को 2026 के Future of Memory and Storage (FMS) सम्मेलन में प्रोटोटाइप और अगली पीढ़ी की तकनीक के रूप में पेश किया। 31 अगस्त के इंटरव्यू और उपलब्ध रिपोर्टिंग में बड़े पैमाने पर उत्पादन या शिपमेंट की कोई निश्चित तारीख नहीं दी गई है। 1
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इसलिए V10 के कमर्शियल लॉन्च, 2027 में 11वीं पीढ़ी के NAND और 2030 तक 1,000-लेयर NAND से जुड़े दावों को Samsung की पक्की प्रतिबद्धता नहीं माना जाना चाहिए। पहले की रिपोर्टों में 1,000-लेयर लक्ष्य की चर्चा हुई है, लेकिन वे रिपोर्टें Samsung की पुष्ट समय-सीमा के बराबर नहीं हैं। 25
26
फिलहाल सबसे ठोस निष्कर्ष यही है कि Samsung ने 400 से ज्यादा NAND लेयर तक पहुंचने के लिए तीन-स्टैक सेल आर्किटेक्चर और सेल-पेरिफेरल वेफर बॉन्डिंग को सामने रखा है। कंपनी के दावों के अनुसार इससे डेंसिटी, I/O और बिजली दक्षता में सुधार मिलता है। हालांकि V10 कब बाजार में आएगा और इसके बाद NAND की अगली पीढ़ियां कितनी तेजी से विकसित होंगी, यह अभी खुला सवाल है।
Studio Global AI
इस पृष्ठ में एक स्रोत-समर्थित उत्तर शामिल है जिसे आप Studio Global के अंदर जारी रख सकते हैं।
31 अगस्त 2026 को सामने आए विवरण के अनुसार, Samsung का V10 BV NAND प्रोटोटाइप 400 से ज्यादा वर्डलाइन के साथ V9 की तुलना में 58% से अधिक बिट डेंसिटी, 4.8 Gbps से ज्यादा I/O स्पीड और 25% से अधिक कम बिजली खपत का दावा करता...
31 अगस्त 2026 को सामने आए विवरण के अनुसार, Samsung का V10 BV NAND प्रोटोटाइप 400 से ज्यादा वर्डलाइन के साथ V9 की तुलना में 58% से अधिक बिट डेंसिटी, 4.8 Gbps से ज्यादा I/O स्पीड और 25% से अधिक कम बिजली खपत का दावा करता... इसकी मुख्य तकनीक मेमोरी सेल ऐरे और पेरिफेरल सर्किटरी को अलग अलग वेफर पर बनाकर बॉन्ड करना है; 400 से ज्यादा लेयर हासिल करने में 3 स्टैक HARC Merge प्रक्रिया की भूमिका है।
V10 को AI डेटा सेंटरों के लिए ज्यादा क्षमता और ऊर्जा कुशल NAND स्टोरेज के रूप में पेश किया गया है। Samsung के zHBM और zNAND O के साथ इसका साझा फोकस 3D और वर्टिकल मेमोरी डिजाइन है, जबकि 2027 की 11वीं पीढ़ी या 2030 तक 1...
31 अगस्त 2026 को सामने आए विवरण के अनुसार, Samsung का V10 BV NAND प्रोटोटाइप 400 से ज्यादा वर्डलाइन के साथ V9 की तुलना में 58% से अधिक बिट डेंसिटी, 4.8 Gbps से ज्यादा I/O स्पीड और 25% से अधिक कम बिजली खपत का दावा करता... इसकी मुख्य तकनीक मेमोरी सेल ऐरे और पेरिफेरल सर्किटरी को अलग अलग वेफर पर बनाकर बॉन्ड करना है; 400...
प्रकाशितकर्ताGPT-5.6 Luna से संपादितGPT Image 1.5 से चित्र बनाए गए
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Samsung का V10 Bonding V-NAND, जिसे संक्षेप में BV-NAND कहा जा रहा है, 3D NAND फ्लैश मेमोरी की 10वीं पीढ़ी का डिजाइन है। इसमें 400 से ज्यादा वर्डलाइन यानी मेमोरी की ऊर्ध्वाधर परतें हैं। कंपनी इसे AI युग के ऐसे सिस्टमों के लिए तैयार कर रही है जिन्हें अधिक स्टोरेज क्षमता, तेज डेटा ट्रांसफर और कम बिजली खपत की जरूरत होती है। 1
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31 अगस्त को साझा किए गए Samsung के विवरण के मुताबिक, V9 की तुलना में V10 में बिट डेंसिटी 58% से अधिक बढ़ी है। I/O स्पीड 4.8 Gbps से ऊपर है, जो 33% से अधिक सुधार दर्शाती है, जबकि बिजली की खपत 25% से ज्यादा कम होने का दावा किया गया है। 2
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इतनी ऊंची NAND संरचना को एक ही विशाल स्टैक के रूप में बनाने के बजाय Samsung ने 3-स्टैक HARC Merge प्रक्रिया अपनाई है। इसमें मेमोरी सेल की परतों को तीन अलग-अलग स्टैक सेक्शन में बांटकर बनाया जाता है और फिर उन्हें लंबवत रूप से जोड़ा जाता है। अत्यधिक लेयर काउंट से जुड़ी निर्माण चुनौतियों को संभालने के लिए Multi Hole और Zero Dummy Hole तकनीकों का भी इस्तेमाल किया गया है। 13
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यह तरीका इसलिए अहम है क्योंकि NAND में डेंसिटी बढ़ाना केवल और अधिक लेयर जोड़ने का मामला नहीं है। जैसे-जैसे स्टैक ऊंचा होता जाता है, निर्माण प्रक्रिया, अलाइनमेंट और इलेक्ट्रिकल परफॉर्मेंस से जुड़ी दिक्कतें बढ़ती हैं। संरचना को कई हिस्सों में बांटने से Samsung को वर्टिकल डिजाइन को आगे बढ़ाने और इन प्रक्रियागत सीमाओं से निपटने का रास्ता मिलता है। हालांकि उपलब्ध स्रोत तीन-स्टैक संरचना और सहायक तकनीकों की पुष्टि करते हैं, लेकिन हर निर्माण चरण का पूरा तकनीकी विवरण सार्वजनिक नहीं करते।
V10 में NAND के सेल ऐरे और उसके पेरिफेरल, यानी नियंत्रण सर्किटरी, को अलग किया गया है। Samsung इन दोनों हिस्सों को अलग-अलग वेफर पर बनाकर बाद में आपस में बॉन्ड करता है। इससे मेमोरी ऐरे और उसे नियंत्रित करने वाली सर्किटरी को अलग-अलग विकसित और अनुकूलित करने के बाद एक साथ जोड़ा जा सकता है। 2
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इस डिजाइन का उद्देश्य केवल एक ही वेफर स्टैक को और ऊंचा किए बिना डेंसिटी और परफॉर्मेंस बढ़ाना है। Samsung के अनुसार, अलग-अलग तैयार की गई पेरिफेरल सर्किटरी को बेहतर प्रदर्शन के लिए अनुकूलित किया जा सकता है। यही आर्किटेक्चर V10 में बताए गए डेटा ट्रांसफर और बिजली दक्षता सुधारों में योगदान देता है। 2
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उपलब्ध रिपोर्टिंग में “full capping” का अर्थ ऐसे लेआउट से बताया गया है जिसमें नीचे की पेरिफेरल डाई का फुटप्रिंट ऊपर की सेल-ऐरे डाई के बराबर रखा जाता है, बजाय इसके कि वह बाहर तक फैली हो। इससे अलग-अलग वेफर पर बने सेल ऐरे और पेरिफेरल सर्किटरी के लाभ बरकरार रखते हुए पैकेज या चिप क्षेत्र को अधिक बढ़ने से रोकने में मदद मिल सकती है।
लेकिन Samsung की उपलब्ध प्राथमिक सामग्री और स्रोत अंश अलग-अलग वेफर तथा बॉन्डिंग वाली व्यापक आर्किटेक्चर की पुष्टि करते हैं। वे “full capping” शब्द के सूक्ष्म ज्यामितीय अर्थ या फुटप्रिंट के बिल्कुल समान होने की स्वतंत्र पुष्टि नहीं करते। इसलिए इस खास लेआउट की व्याख्या को सावधानी से देखना चाहिए।
Samsung ने अपनी 9वीं पीढ़ी के V-NAND यानी V9 के मुकाबले V10 के लिए ये सुधार बताए हैं:
अधिक बिट डेंसिटी का सीधा अर्थ है कि समान भौतिक क्षेत्र में ज्यादा डेटा रखा जा सकता है। Samsung ने V10 को भविष्य के हाई-कैपेसिटी SSD डिजाइन से जोड़ा है, जिनमें 128 TB तक क्षमता और अगली पीढ़ी के PCIe Gen7 SSD समाधान शामिल हैं। 13
ध्यान देने वाली बात यह है कि ये Samsung के घोषित प्रदर्शन दावे हैं, स्वतंत्र बेंचमार्क के नतीजे नहीं। उपलब्ध सामग्री यह स्पष्ट नहीं करती कि अलग-अलग SSD उत्पादों, वर्कलोड या कंट्रोलर कॉन्फिगरेशन में ये सुधार वास्तविक प्रदर्शन के रूप में कितने दिखाई देंगे।
AI डेटा सेंटरों में ट्रेनिंग डेटा, मॉडल चेकपॉइंट और अन्य बड़े डेटा सेट के लिए भारी स्टोरेज क्षमता चाहिए। NAND, हाई-बैंडविड्थ DRAM का विकल्प नहीं है; लेकिन यह उस स्टोरेज लेयर के लिए उपयोगी है जहां क्षमता, लागत और ऊर्जा खपत महत्वपूर्ण होती है।
Samsung ने V10 को अपनी व्यापक AI-मेमोरी रणनीति के हिस्से के रूप में पेश किया है। इसी पोर्टफोलियो में zHBM और zNAND-O भी शामिल हैं। कंपनी के अनुसार, zHBM में हाई-बैंडविड्थ मेमोरी को AI एक्सेलरेटर के और करीब या उसके ऊपर वर्टिकली रखने की अवधारणा है। वहीं zNAND-O, V-NAND पर आधारित हाई-परफॉर्मेंस NAND अवधारणा है, जिसे चार और आठ लेयर वाले संस्करणों में विकसित किया जा रहा है। 5
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इन सभी डिजाइनों का साझा विचार है—मेमोरी और पैकेजिंग में 3D तथा वर्टिकल इंटीग्रेशन का इस्तेमाल करके जगह, बैंडविड्थ, बिजली और तापमान से जुड़ी सीमाओं को कम करना। V10 इस रणनीति का स्टोरेज-केंद्रित हिस्सा है, जबकि उपलब्ध प्रमाणों के आधार पर zHBM और zNAND-O अभी कॉन्सेप्ट या विकासाधीन आर्किटेक्चर हैं, बाजार में उपलब्ध उत्पाद नहीं। 1
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Samsung ने V10 को 2026 के Future of Memory and Storage (FMS) सम्मेलन में प्रोटोटाइप और अगली पीढ़ी की तकनीक के रूप में पेश किया। 31 अगस्त के इंटरव्यू और उपलब्ध रिपोर्टिंग में बड़े पैमाने पर उत्पादन या शिपमेंट की कोई निश्चित तारीख नहीं दी गई है। 1
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इसलिए V10 के कमर्शियल लॉन्च, 2027 में 11वीं पीढ़ी के NAND और 2030 तक 1,000-लेयर NAND से जुड़े दावों को Samsung की पक्की प्रतिबद्धता नहीं माना जाना चाहिए। पहले की रिपोर्टों में 1,000-लेयर लक्ष्य की चर्चा हुई है, लेकिन वे रिपोर्टें Samsung की पुष्ट समय-सीमा के बराबर नहीं हैं। 25
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फिलहाल सबसे ठोस निष्कर्ष यही है कि Samsung ने 400 से ज्यादा NAND लेयर तक पहुंचने के लिए तीन-स्टैक सेल आर्किटेक्चर और सेल-पेरिफेरल वेफर बॉन्डिंग को सामने रखा है। कंपनी के दावों के अनुसार इससे डेंसिटी, I/O और बिजली दक्षता में सुधार मिलता है। हालांकि V10 कब बाजार में आएगा और इसके बाद NAND की अगली पीढ़ियां कितनी तेजी से विकसित होंगी, यह अभी खुला सवाल है।
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इस पृष्ठ में एक स्रोत-समर्थित उत्तर शामिल है जिसे आप Studio Global के अंदर जारी रख सकते हैं।
31 अगस्त 2026 को सामने आए विवरण के अनुसार, Samsung का V10 BV NAND प्रोटोटाइप 400 से ज्यादा वर्डलाइन के साथ V9 की तुलना में 58% से अधिक बिट डेंसिटी, 4.8 Gbps से ज्यादा I/O स्पीड और 25% से अधिक कम बिजली खपत का दावा करता...
31 अगस्त 2026 को सामने आए विवरण के अनुसार, Samsung का V10 BV NAND प्रोटोटाइप 400 से ज्यादा वर्डलाइन के साथ V9 की तुलना में 58% से अधिक बिट डेंसिटी, 4.8 Gbps से ज्यादा I/O स्पीड और 25% से अधिक कम बिजली खपत का दावा करता... इसकी मुख्य तकनीक मेमोरी सेल ऐरे और पेरिफेरल सर्किटरी को अलग अलग वेफर पर बनाकर बॉन्ड करना है; 400 से ज्यादा लेयर हासिल करने में 3 स्टैक HARC Merge प्रक्रिया की भूमिका है।
V10 को AI डेटा सेंटरों के लिए ज्यादा क्षमता और ऊर्जा कुशल NAND स्टोरेज के रूप में पेश किया गया है। Samsung के zHBM और zNAND O के साथ इसका साझा फोकस 3D और वर्टिकल मेमोरी डिजाइन है, जबकि 2027 की 11वीं पीढ़ी या 2030 तक 1...