CSEAC 2026 ने दिखाया चीन का चिप-उपकरण विस्तार—और सबसे कठिन कमियां

चीन के वूशी में 31 अगस्त से 2 सितंबर तक आयोजित CSEAC 2026 ने देश के सेमीकंडक्टर-उपकरण अभियान की एक साफ तस्वीर पेश की। मुख्य संकेत था उपकरणों की बढ़ती व्यापकता: घरेलू आपूर्तिकर्ता अब किसी एक मशीन तक सीमित रहने के बजाय फैब की अधिक प्रक्रिया-सीढ़ियों को कवर करने वाले प्लेटफॉर्म बना रहे हैं। फिर भी प्रदर्शनी ने यह भी दिखाया कि आयन इम्प्लांटेशन तथा निरीक्षण और मापन जैसे निर्णायक क्षेत्र स्थानीयकरण के लिहाज से कहीं ज्यादा कठिन बने हुए हैं। 418

प्रगति: एकल उपकरण से व्यापक प्लेटफॉर्म तक

सबसे स्पष्ट प्रगति उन श्रेणियों में दिखी जहां कंपनियां साझा तकनीकी आधार पर आगे बढ़ सकती हैं और जिनका बाजार अपेक्षाकृत बड़ा है।

AMEC ने एचिंग से आगे अपना दायरा बढ़ाया। कंपनी ने CSEAC में छह नए उपकरण पेश किए। इनमें अत्यधिक उच्च आस्पेक्ट-रेशियो एचिंग उपकरण और मोलिब्डेनम मेटलाइजेशन के लिए एटॉमिक-लेयर डिपोजिशन (ALD) सिस्टम शामिल थे। इसका संकेत यह है कि कंपनी केवल एक उपकरण-श्रेणी में प्रतिस्पर्धा नहीं करना चाहती, बल्कि उन्नत लॉजिक चिप, पावर डिवाइस और थिन-फिल्म प्रक्रियाओं की अधिक जरूरतों को कवर करना चाहती है। 17

NAURA ने प्लेटफॉर्म रणनीति का उदाहरण दिया। कंपनी एचिंग, डिपोजिशन और क्लीनिंग में उपकरण पेश करने वाले प्रमुख घरेलू प्रदर्शकों में थी। इसका बड़ा लक्ष्य फैब को परस्पर जुड़ी प्रक्रिया-सीढ़ियों के लिए अधिक घरेलू विकल्प देना है—सिर्फ किसी एक आयातित मशीन का विकल्प उपलब्ध कराना नहीं। 4

SMEE ने EUV से नीचे की लिथोग्राफी में निरंतर विकास दिखाया। लिथोग्राफी विशेषज्ञ Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE) ने 280 नैनोमीटर रिजॉल्यूशन वाला 365-नैनोमीटर i-line स्कैनिंग-प्रोजेक्शन उपकरण और 110 नैनोमीटर रिजॉल्यूशन वाला 248-नैनोमीटर KrF ड्राई-लिथोग्राफी उपकरण प्रदर्शित किया। कंपनी के उपकरणों का उपयोग करने वाले ग्राहकों का उत्पादन 1 करोड़ वेफर से अधिक बताया गया। ये EUV सिस्टम नहीं हैं, लेकिन ऐसे क्षेत्र में प्रगति दर्शाते हैं जहां सबसे उन्नत उपकरणों तक पहुंच और उनकी नकल, दोनों बेहद मुश्किल हैं। 4

इन प्रदर्शनों से यह संकेत मिला कि चीन के उपकरण निर्माता ‘बना सकते हैं’ की अवस्था से आगे बढ़कर अधिक कठिन लक्ष्य की ओर जा रहे हैं: ऐसे टूलसेट देना जिन्हें फैब में एकीकृत किया जा सके, मान्यता दी जा सके और बार-बार उत्पादन में भरोसे से चलाया जा सके। उद्योग रिपोर्टिंग के अनुसार, बदलाव अलग-अलग उपकरण उपलब्धियों से उपकरण, कंपोनेंट और सामग्री को जोड़ने वाले सहयोगी इकोसिस्टम की ओर है। 1826

यह संदर्भ क्यों अहम है

CSEAC ऐसे समय हुआ जब घरेलू सप्लाई-चेन की मजबूती पर जोर बढ़ रहा है। अमेरिकी निर्यात नियंत्रणों ने कुछ उन्नत सेमीकंडक्टर तकनीकों तक पहुंच सीमित की है। चीन की AI-चिप सप्लाई चेन के विश्लेषण में एचिंग, केमिकल वेपर डिपोजिशन, CMP और वेफर क्लीनिंग वे श्रेणियां बताई गई हैं जहां घरेलू आपूर्तिकर्ताओं ने अपेक्षाकृत विश्वसनीय प्रगति की है। 19

इससे पूरी प्रक्रिया-श्रृंखला में स्थानीय क्षमताएं बढ़ाने की प्रेरणा मिलती है। लेकिन उपकरणों की व्यापक उपलब्धता को पूर्ण तकनीकी आत्मनिर्भरता नहीं समझना चाहिए। जहां विशेषज्ञ ज्ञान कम हस्तांतरणीय है, बाजार छोटा है या उत्पादन-मान्यता की शर्तें असाधारण रूप से सख्त हैं, वहां कठिनाई तेज़ी से बढ़ती है।

आयन इम्प्लांटेशन: असली ‘डीप-वॉटर’ चुनौती

आयन इम्प्लांटेशन इसका प्रमुख उदाहरण है। एचिंग और डिपोजिशन में प्लाज़्मा फिजिक्स, वैक्यूम चैंबर और रेडियो-फ्रीक्वेंसी पावर जैसी तकनीकी नींव साझा हो सकती है। इसके उलट, इम्प्लांटर को आयन ऑप्टिक्स, इलेक्ट्रोमैग्नेटिक मास एनालिसिस, उच्च-वोल्टेज त्वरण, बीम ट्रांसपोर्ट, डोज और ऊर्जा नियंत्रण तथा संदूषण प्रबंधन चाहिए। इसलिए यह सामान्य प्लाज़्मा-प्रोसेसिंग टूल की तुलना में अत्यंत सटीक बीम-नियंत्रण प्रणाली के अधिक करीब है। 18

रिपोर्ट किए गए स्थानीयकरण अंतर बड़े हैं: चीन में आयन इम्प्लांटर का कुल स्थानीयकरण 15% से कम है; हाई-करंट मशीनों में यह 10% से कम है; और हाई-एनर्जी सिस्टम घरेलू स्तर पर लगभग अनुपस्थित बताए गए हैं। 18

निर्यात प्रतिबंध इस चुनौती को और बढ़ाते हैं। प्रदर्शनी से जुड़ी रिपोर्टिंग के अनुसार, सबसे उन्नत विदेशी इम्प्लांटर और उनसे संबंधित सेकंड-हैंड उपकरण चीन को निर्यात नहीं किए जा सकते। इससे फैब पुराने आयातित उपकरणों पर निर्भर रहते हैं, जिसका असर प्रक्रिया की स्थिरता और यील्ड पर पड़ सकता है। साथ ही, घरेलू आपूर्तिकर्ताओं को अपने डिजाइन की तुलना और मान्यता के लिए संदर्भ उपकरणों तक कम पहुंच मिलती है। 18

अर्थशास्त्र भी बाधा है। इम्प्लांटेशन का बाजार मुख्यधारा की एचिंग या डिपोजिशन से छोटा है, लेकिन विकास-चक्र लंबा और फैब-मान्यता विस्तृत होती है। नए घरेलू आपूर्तिकर्ताओं के लिए यह संयोजन लगातार निवेश बनाए रखना कठिन बनाता है। 18

निरीक्षण और मेट्रोलॉजी: जब फैब को आंकड़ों पर भरोसा करना हो

निरीक्षण और मापन उपकरण भी उतने ही महत्वपूर्ण हैं, क्योंकि वे तय करते हैं कि वेफर विनिर्देशों के भीतर है या नहीं। नैनोमीटर-स्तर के निर्माण में छोटा दोष, फिल्म की मोटाई में अंतर या क्रिटिकल-डायमेंशन की गलती भी पूरे वेफर बैच को प्रभावित कर सकती है। 18

इसलिए केवल प्रभावशाली प्रदर्शन पर्याप्त नहीं है। उत्पादन के लिए तैयार निरीक्षण या मेट्रोलॉजी उपकरण को संवेदनशीलता, दोहराने योग्य परिणाम, थ्रूपुट, स्थिर सॉफ्टवेयर और लंबे परिचालन समय में अलग-अलग मशीनों के बीच एक-जैसा प्रदर्शन देना होता है। स्थापित प्रणालियों को बदलने से पहले फैब को हर प्रक्रिया के लिए यह भरोसा बनाना पड़ता है।

आरंभिक स्थिति कमजोर रही है: CSEAC रिपोर्टिंग में उद्धृत पुराने आंकड़ों के अनुसार, फ्रंट-एंड निरीक्षण और मापन उपकरणों का घरेलू स्थानीयकरण 10% से कम था—प्रमुख उपकरण श्रेणियों में सबसे निचले स्तरों में से एक। 18 घरेलू आपूर्तिकर्ता डिफेक्ट इंस्पेक्शन, 3D टोपोग्राफी, फिल्म और ओवरले मापन तथा क्रिटिकल-डायमेंशन मेट्रोलॉजी जैसे क्षेत्रों में आगे बढ़ रहे हैं, लेकिन लगातार उत्पादन के प्रमाण ही वास्तविक कसौटी रहेंगे। 4

निष्कर्ष

CSEAC 2026 ने यह नहीं दिखाया कि चीन ने सेमीकंडक्टर उपकरणों की हर कमी भर दी है। उसने अधिक ठोस बात दिखाई: बड़े और दोबारा इस्तेमाल होने वाले प्रक्रिया-उपकरण क्षेत्रों में क्षमता गहरी हो रही है, जिसमें AMEC, NAURA और SMEE जैसे निर्माताओं की व्यापक पेशकश अहम है। 417

लेकिन शेष ‘डीप-वॉटर’ श्रेणियां बताती हैं कि अगला चरण धीमा होगा। आयन इम्प्लांटेशन विशेष बीम-कंट्रोल तकनीक और कठिन विकास-अर्थशास्त्र पर निर्भर है। निरीक्षण और मेट्रोलॉजी में फैब को सिर्फ उपकरण के स्पेसिफिकेशन पर नहीं, उसके परिणामों पर भरोसा करना होता है। इन क्षेत्रों की प्रगति का माप प्रदर्शनी में लॉन्च नहीं, बल्कि दीर्घकालिक उत्पादन-मान्यता और भरोसेमंदी होगी। 18