ב 31 באוגוסט 2026 חשפה סמסונג פרטים נוספים על אב הטיפוס V10 BV NAND, עם יותר מ 400 קווי מילה, צפיפות סיביות גבוהה ביותר מ 58%, מהירות I/O של יותר מ 4.8Gbps וצריכת חשמל נמוכה ביותר מ 25% לעומת V9. החידוש המרכזי הוא ייצור נפרד של מערך תאי הזיכרון ושל המעגלים ההיקפיים על גבי פרוסות שונות, ולאחר מכן חיבורן.
פורסם על ידינערך באמצעות GPT-5.6 Lunaהתמונות נוצרו באמצעות GPT Image 1.5
Research answer

Create a landscape editorial hero image for this Studio Global article: What technical details did Samsung reveal on August 31, 2026, about its 10th-generation V10 BV-NAND flash memory chip—including its “full ca. Article summary: Samsung said V10 BV-NAND is a 10th-generation, 3D bonded NAND design intended to raise capacity, throughput, and energy efficiency for AI storage. Its disclosed performance claims versus V9 were over 58% higher bit densi. Topic tags: general, news, general web. Style: premium digital editorial illustration, source-backed research mood, clean composition, high detail, modern web publication hero. Use reference image context only for broad subject, composition, and topical grounding; do not copy the exact image. Avoid: logos, brand marks, copyrighted characters, real person likenesses, fake screenshots, UI text, readable text, watermarks, charts with fake numbers
סמסונג הציגה את V10 Bonding V-NAND, או בקיצור BV-NAND — הדור העשירי של זיכרון ה-NAND התלת-ממדי שלה. זהו אב-טיפוס שנועד להתמודד עם הצורך של מערכות בינה מלאכותית באחסון בנפח גדול, במהירות גבוהה ובצריכת אנרגיה נמוכה יותר. המבנה כולל יותר מ-400 קווי מילה, שהם הבסיס למבנה השכבות התלת-ממדי של הזיכרון. 1
2
בנתונים שפרסמה סמסונג ב-31 באוגוסט, החברה טוענת כי בהשוואה ל-V9 מתקבלים שיפור של יותר מ-58% בצפיפות הסיביות, מהירות I/O של יותר מ-4.8Gbps — שיפור של יותר מ-33% — וירידה של יותר מ-25% בצריכת החשמל. 2
8
ככל שמגדילים את גובהו של מבנה NAND, האתגר אינו מסתכם בהוספת שכבה נוספת. הייצור דורש חריטה עמוקה ומדויקת, יישור בין מבנים רבים ושליטה במאפיינים החשמליים של התאים. מבנה גבוה מדי עלול להקשות על הייצור ועל שמירה על ביצועים אחידים.
לכן V10 משתמש בתהליך Three-Stack HARC Merge. במקום לייצר את כל המבנה האולטרה-גבוה כמקשה אחת, סמסונג מחלקת את תאי הזיכרון לשלושה מקטעי שכבות, מייצרת אותם בנפרד ומחברת אותם אנכית. החברה משלבת בתהליך גם טכנולוגיות בשם Multi Hole ו-Zero Dummy Hole, שנועדו להפחית את עומסי הייצור הכרוכים במספר שכבות כה גדול. 13
17
המקורות שסופקו מאשרים את המבנה התלת-מקטעי ואת השימוש בטכניקות הללו, אך אינם מפרטים את כל שלבי התהליך ברמת הייצור.
ב-V10, מערך תאי ה-NAND והמעגלים ההיקפיים — המכונים גם Peri — אינם מיוצרים יחד על אותה פרוסת סיליקון. סמסונג מייצרת כל חלק על פרוסה נפרדת, ולאחר מכן מחברת את הפרוסות זו לזו באמצעות wafer bonding. 2
5
12
היתרון הוא שניתן לפתח ולייעל בנפרד את תאי הזיכרון ואת המעגלים שמנהלים אותם, לפני שילובם במבנה אחד. כך סמסונג אינה מסתמכת רק על הגדלת גובהו של מבנה יחיד כדי להשיג צפיפות וביצועים גבוהים יותר. החברה אומרת שהארכיטקטורה המחוברת מאפשרת גם להשתמש במעגלים היקפיים בעלי ביצועים גבוהים יותר, ובכך לתרום לשיפור במהירות העברת הנתונים וביעילות האנרגטית. 2
13
בדיווחים שסופקו, המונח Full Capping מתאר פריסה שבה השבב התחתון, הכולל את המעגלים ההיקפיים, מותאם לשטח של שבב מערך התאים העליון — במקום לבלוט מעבר לו. אם זו אכן פריסת המבנה, היא עשויה לסייע בשמירה על יעילות השטח של השבב והאריזה, תוך שמירה על היתרונות של ייצור נפרד וחיבור בין שתי הפרוסות.
עם זאת, החומרים הראשוניים של סמסונג והקטעים שסופקו מאשרים בבירור את עצם ההפרדה בין מערך התאים למעגלים ההיקפיים ואת חיבור הפרוסות, אך אינם מתעדים באופן עצמאי את כל הפרטים הגאומטריים של המונח “Full Capping” או מאשרים במדויק כיצד מיושם התאמת השטחים. לכן יש להתייחס לפרשנות הזו בזהירות: הארכיטקטורה הכללית ברורה, אך פרטי הפריסה המדויקים פחות מבוססים.
הנתונים שסמסונג פרסמה בהשוואה לדור התשיעי של V-NAND הם:
צפיפות סיביות גבוהה יותר יכולה לאפשר אחסון של נפח גדול יותר באותו שטח פיזי לערך. סמסונג קישרה את V10 גם לכונני SSD עתירי-קיבולת, כולל פתרונות בנפח של עד 128TB ולכונני SSD עתידיים המבוססים על PCIe Gen7, לפי הדיווחים על תוכניות החברה. 13
חשוב להדגיש: אלה נתוני ביצועים שסמסונג הצהירה עליהם, ולא תוצאות של מבחן ביצועים עצמאי. החומרים הזמינים אינם מראים כיצד יתורגמו השיפורים למוצרי SSD מסוימים, לעומסי עבודה שונים או לתצורות בקר שונות.
מערכות AI זקוקות לנפחי אחסון גדולים עבור נתוני אימון, נקודות שמירה של מודלים ומידע נוסף שנוצר במהלך העיבוד. NAND אינו מחליף זיכרון DRAM בעל רוחב פס גבוה, אך הוא יכול לשמש כשכבת האחסון עתירת-הקיבולת — המקום שבו צפיפות, עלות וצריכת אנרגיה הופכות לשיקולים מרכזיים.
סמסונג הציגה את V10 כחלק מאסטרטגיית זיכרון רחבה יותר לעידן ה-AI, הכוללת גם את zHBM ואת zNAND-O. החברה מתארת את zHBM כקונספט להצבת זיכרון בעל רוחב פס גבוה בקרבת מאיץ AI או מעליו אנכית. zNAND-O הוא קונספט NAND בעל ביצועים גבוהים, שנמצא בפיתוח בגרסאות של ארבע ושמונה שכבות. 5
6
7
המכנה המשותף הוא ניצול הציר האנכי: אריזה או מבני זיכרון תלת-ממדיים עשויים לסייע בהתמודדות עם מגבלות של מקום, רוחב פס, צריכת חשמל וחום. V10 הוא הרכיב הממוקד באחסון של התוכנית הזו, בעוד zHBM ו-zNAND-O מוצגים בחומרים שסופקו כארכיטקטורות קונספט או פיתוח — לא כמוצרים מסחריים עם לוח זמנים מאושר. 1
6
7
סמסונג הציגה את V10 כטכנולוגיית הדור הבא וכאב-טיפוס במסגרת כנס Future of Memory and Storage (FMS) 2026. הראיון והדיווחים מ-31 באוגוסט אינם כוללים תאריך מחייב לייצור המוני או למשלוחים מסחריים. 1
2
לכן יש להיזהר מהצגת תחזיות מסוימות כעובדות מוגמרות. החומרים שסופקו אינם מאמתים לוח זמנים סופי למסחור V10, השקה של NAND מהדור ה-11 ב-2027 או יעד של NAND בעל 1,000 שכבות עד 2030. דיווחים מוקדמים יותר עסקו ביעד של 1,000 שכבות, אך אינם שקולים להתחייבות רשמית ולוח זמנים מאושר מצד סמסונג. 25
26
המסקנה הברורה בשלב זה מצומצמת יותר: V10 מציג את המעבר של סמסונג אל מעבר ל-400 שכבות באמצעות מבנה תאים המחולק לשלושה מקטעים ופרוסות נפרדות למערך התאים ולמעגלים ההיקפיים, המחוברות זו לזו. לצד זאת, החברה מציגה שיפורים מוצהרים בצפיפות, במהירות הקלט-פלט וביעילות האנרגטית. מועד הזמינות המסחרית וקצב ההתקדמות לדורות הבאים עדיין אינם ידועים.
Studio Global AI
This page includes a source-backed answer you can continue inside Studio Global.
ב 31 באוגוסט 2026 חשפה סמסונג פרטים נוספים על אב הטיפוס V10 BV NAND, עם יותר מ 400 קווי מילה, צפיפות סיביות גבוהה ביותר מ 58%, מהירות I/O של יותר מ 4.8Gbps וצריכת חשמל נמוכה ביותר מ 25% לעומת V9.
ב 31 באוגוסט 2026 חשפה סמסונג פרטים נוספים על אב הטיפוס V10 BV NAND, עם יותר מ 400 קווי מילה, צפיפות סיביות גבוהה ביותר מ 58%, מהירות I/O של יותר מ 4.8Gbps וצריכת חשמל נמוכה ביותר מ 25% לעומת V9. החידוש המרכזי הוא ייצור נפרד של מערך תאי הזיכרון ושל המעגלים ההיקפיים על גבי פרוסות שונות, ולאחר מכן חיבורן.
V10 מיועד לשכבת האחסון עתירת הקיבולת במערכות AI, לצד ארכיטקטורות הקונספט zHBM ו zNAND O.
ב 31 באוגוסט 2026 חשפה סמסונג פרטים נוספים על אב הטיפוס V10 BV NAND, עם יותר מ 400 קווי מילה, צפיפות סיביות גבוהה ביותר מ 58%, מהירות I/O של יותר מ 4.8Gbps וצריכת חשמל נמוכה ביותר מ 25% לעומת V9. החידוש המרכזי הוא ייצור נפרד של מערך תאי הזיכרון ושל המעגלים ההיקפיים על גבי פרוסות שונות, ולאחר מכן חיבורן.
פורסם על ידינערך באמצעות GPT-5.6 Lunaהתמונות נוצרו באמצעות GPT Image 1.5
Research answer

Create a landscape editorial hero image for this Studio Global article: What technical details did Samsung reveal on August 31, 2026, about its 10th-generation V10 BV-NAND flash memory chip—including its “full ca. Article summary: Samsung said V10 BV-NAND is a 10th-generation, 3D bonded NAND design intended to raise capacity, throughput, and energy efficiency for AI storage. Its disclosed performance claims versus V9 were over 58% higher bit densi. Topic tags: general, news, general web. Style: premium digital editorial illustration, source-backed research mood, clean composition, high detail, modern web publication hero. Use reference image context only for broad subject, composition, and topical grounding; do not copy the exact image. Avoid: logos, brand marks, copyrighted characters, real person likenesses, fake screenshots, UI text, readable text, watermarks, charts with fake numbers
סמסונג הציגה את V10 Bonding V-NAND, או בקיצור BV-NAND — הדור העשירי של זיכרון ה-NAND התלת-ממדי שלה. זהו אב-טיפוס שנועד להתמודד עם הצורך של מערכות בינה מלאכותית באחסון בנפח גדול, במהירות גבוהה ובצריכת אנרגיה נמוכה יותר. המבנה כולל יותר מ-400 קווי מילה, שהם הבסיס למבנה השכבות התלת-ממדי של הזיכרון. 1
2
בנתונים שפרסמה סמסונג ב-31 באוגוסט, החברה טוענת כי בהשוואה ל-V9 מתקבלים שיפור של יותר מ-58% בצפיפות הסיביות, מהירות I/O של יותר מ-4.8Gbps — שיפור של יותר מ-33% — וירידה של יותר מ-25% בצריכת החשמל. 2
8
ככל שמגדילים את גובהו של מבנה NAND, האתגר אינו מסתכם בהוספת שכבה נוספת. הייצור דורש חריטה עמוקה ומדויקת, יישור בין מבנים רבים ושליטה במאפיינים החשמליים של התאים. מבנה גבוה מדי עלול להקשות על הייצור ועל שמירה על ביצועים אחידים.
לכן V10 משתמש בתהליך Three-Stack HARC Merge. במקום לייצר את כל המבנה האולטרה-גבוה כמקשה אחת, סמסונג מחלקת את תאי הזיכרון לשלושה מקטעי שכבות, מייצרת אותם בנפרד ומחברת אותם אנכית. החברה משלבת בתהליך גם טכנולוגיות בשם Multi Hole ו-Zero Dummy Hole, שנועדו להפחית את עומסי הייצור הכרוכים במספר שכבות כה גדול. 13
17
המקורות שסופקו מאשרים את המבנה התלת-מקטעי ואת השימוש בטכניקות הללו, אך אינם מפרטים את כל שלבי התהליך ברמת הייצור.
ב-V10, מערך תאי ה-NAND והמעגלים ההיקפיים — המכונים גם Peri — אינם מיוצרים יחד על אותה פרוסת סיליקון. סמסונג מייצרת כל חלק על פרוסה נפרדת, ולאחר מכן מחברת את הפרוסות זו לזו באמצעות wafer bonding. 2
5
12
היתרון הוא שניתן לפתח ולייעל בנפרד את תאי הזיכרון ואת המעגלים שמנהלים אותם, לפני שילובם במבנה אחד. כך סמסונג אינה מסתמכת רק על הגדלת גובהו של מבנה יחיד כדי להשיג צפיפות וביצועים גבוהים יותר. החברה אומרת שהארכיטקטורה המחוברת מאפשרת גם להשתמש במעגלים היקפיים בעלי ביצועים גבוהים יותר, ובכך לתרום לשיפור במהירות העברת הנתונים וביעילות האנרגטית. 2
13
בדיווחים שסופקו, המונח Full Capping מתאר פריסה שבה השבב התחתון, הכולל את המעגלים ההיקפיים, מותאם לשטח של שבב מערך התאים העליון — במקום לבלוט מעבר לו. אם זו אכן פריסת המבנה, היא עשויה לסייע בשמירה על יעילות השטח של השבב והאריזה, תוך שמירה על היתרונות של ייצור נפרד וחיבור בין שתי הפרוסות.
עם זאת, החומרים הראשוניים של סמסונג והקטעים שסופקו מאשרים בבירור את עצם ההפרדה בין מערך התאים למעגלים ההיקפיים ואת חיבור הפרוסות, אך אינם מתעדים באופן עצמאי את כל הפרטים הגאומטריים של המונח “Full Capping” או מאשרים במדויק כיצד מיושם התאמת השטחים. לכן יש להתייחס לפרשנות הזו בזהירות: הארכיטקטורה הכללית ברורה, אך פרטי הפריסה המדויקים פחות מבוססים.
הנתונים שסמסונג פרסמה בהשוואה לדור התשיעי של V-NAND הם:
צפיפות סיביות גבוהה יותר יכולה לאפשר אחסון של נפח גדול יותר באותו שטח פיזי לערך. סמסונג קישרה את V10 גם לכונני SSD עתירי-קיבולת, כולל פתרונות בנפח של עד 128TB ולכונני SSD עתידיים המבוססים על PCIe Gen7, לפי הדיווחים על תוכניות החברה. 13
חשוב להדגיש: אלה נתוני ביצועים שסמסונג הצהירה עליהם, ולא תוצאות של מבחן ביצועים עצמאי. החומרים הזמינים אינם מראים כיצד יתורגמו השיפורים למוצרי SSD מסוימים, לעומסי עבודה שונים או לתצורות בקר שונות.
מערכות AI זקוקות לנפחי אחסון גדולים עבור נתוני אימון, נקודות שמירה של מודלים ומידע נוסף שנוצר במהלך העיבוד. NAND אינו מחליף זיכרון DRAM בעל רוחב פס גבוה, אך הוא יכול לשמש כשכבת האחסון עתירת-הקיבולת — המקום שבו צפיפות, עלות וצריכת אנרגיה הופכות לשיקולים מרכזיים.
סמסונג הציגה את V10 כחלק מאסטרטגיית זיכרון רחבה יותר לעידן ה-AI, הכוללת גם את zHBM ואת zNAND-O. החברה מתארת את zHBM כקונספט להצבת זיכרון בעל רוחב פס גבוה בקרבת מאיץ AI או מעליו אנכית. zNAND-O הוא קונספט NAND בעל ביצועים גבוהים, שנמצא בפיתוח בגרסאות של ארבע ושמונה שכבות. 5
6
7
המכנה המשותף הוא ניצול הציר האנכי: אריזה או מבני זיכרון תלת-ממדיים עשויים לסייע בהתמודדות עם מגבלות של מקום, רוחב פס, צריכת חשמל וחום. V10 הוא הרכיב הממוקד באחסון של התוכנית הזו, בעוד zHBM ו-zNAND-O מוצגים בחומרים שסופקו כארכיטקטורות קונספט או פיתוח — לא כמוצרים מסחריים עם לוח זמנים מאושר. 1
6
7
סמסונג הציגה את V10 כטכנולוגיית הדור הבא וכאב-טיפוס במסגרת כנס Future of Memory and Storage (FMS) 2026. הראיון והדיווחים מ-31 באוגוסט אינם כוללים תאריך מחייב לייצור המוני או למשלוחים מסחריים. 1
2
לכן יש להיזהר מהצגת תחזיות מסוימות כעובדות מוגמרות. החומרים שסופקו אינם מאמתים לוח זמנים סופי למסחור V10, השקה של NAND מהדור ה-11 ב-2027 או יעד של NAND בעל 1,000 שכבות עד 2030. דיווחים מוקדמים יותר עסקו ביעד של 1,000 שכבות, אך אינם שקולים להתחייבות רשמית ולוח זמנים מאושר מצד סמסונג. 25
26
המסקנה הברורה בשלב זה מצומצמת יותר: V10 מציג את המעבר של סמסונג אל מעבר ל-400 שכבות באמצעות מבנה תאים המחולק לשלושה מקטעים ופרוסות נפרדות למערך התאים ולמעגלים ההיקפיים, המחוברות זו לזו. לצד זאת, החברה מציגה שיפורים מוצהרים בצפיפות, במהירות הקלט-פלט וביעילות האנרגטית. מועד הזמינות המסחרית וקצב ההתקדמות לדורות הבאים עדיין אינם ידועים.
Studio Global AI
This page includes a source-backed answer you can continue inside Studio Global.
ב 31 באוגוסט 2026 חשפה סמסונג פרטים נוספים על אב הטיפוס V10 BV NAND, עם יותר מ 400 קווי מילה, צפיפות סיביות גבוהה ביותר מ 58%, מהירות I/O של יותר מ 4.8Gbps וצריכת חשמל נמוכה ביותר מ 25% לעומת V9.
ב 31 באוגוסט 2026 חשפה סמסונג פרטים נוספים על אב הטיפוס V10 BV NAND, עם יותר מ 400 קווי מילה, צפיפות סיביות גבוהה ביותר מ 58%, מהירות I/O של יותר מ 4.8Gbps וצריכת חשמל נמוכה ביותר מ 25% לעומת V9. החידוש המרכזי הוא ייצור נפרד של מערך תאי הזיכרון ושל המעגלים ההיקפיים על גבי פרוסות שונות, ולאחר מכן חיבורן.
V10 מיועד לשכבת האחסון עתירת הקיבולת במערכות AI, לצד ארכיטקטורות הקונספט zHBM ו zNAND O.