וושינגטון מול ASML: חשד שמכונת ליתוגרפיה מתקדמת בשווי 400 מיליון דולר הוברחה לסין

להלן פירוט המצב נכון ל-19 ביוני 2026.

החשד של ארה"ב

מזכיר המסחר האמריקאי, הווארד לוטניק, העלה בשורה של פגישות אחרונות חשש ישיר מול ההנהלה הבכירה של ASML, לפיו אחת ממכונות הליתוגרפיה המתקדמות ביותר מסוג EUV (Extreme Ultraviolet) של החברה אולי יוצאה לסין תוך הפרת מגבלות הייצוא האמריקאיות . החשש הספציפי הוא כי מערכת EUV — שעלותה למעלה מ-400 מיליון דולר ליחידה וחיונית לייצור שבבי AI ומעבדים מתקדמים — אולי הגיעה פיזית לתוך סין .

הכחשת ASML

ASML הכחישה נחרצות את החשד. דובר החברה הצהיר כי ASML מעולם לא שיגרה מכונת EUV לסין . החברה גם סיפקה מסמכים לפקידים אמריקאים בניסיון להוכיח את חפותה, והצביעה על כך שמכונות EUV הן בערך בגודל של אוטובוס בית ספר, מיוצרות בכמויות מוגבלות מאוד, דורשות תחזוקה שוטפת במקום על ידי צוות ASML, וכבר כפופות למגבלות ייצוא מחמירות האוסרות על מכירתן לסין . ASML הצהירה כי היא "מקיימת באופן קבוע דיאלוג שקוף ופתוח עם מנהיגי ממשלה ברחבי העולם" וכי היא מבינה ומצייתת לתקנות בקרת הייצוא האמריקאיות וההולנדיות .

הראיות שצוטטו על ידי גורמים אמריקאים

הראיות הספציפיות העומדות בבסיס החשד האמריקאי לא פורטו בפומבי. סוכנות הידיעות בלומברג, שחשפה את הסיפור, דיווחה על העניין תוך ציטוט "אנשים המקורבים לעניין" אך לא תיארה את המודיעין, רישומי המשלוחים או הוכחות אחרות שגרמו להתערבותו של לוטניק . בדיווחים פומביים אין אזכור לתצפית מאומתת של מערכת EUV בסין, אין מידע על משלוחים שנתפסו, ואין יומני שירות המצביעים על התקנה לא מורשית.

הרקע הרחב יותר עשוי להסביר את החשד. בדצמבר 2025, רויטרס דיווחה כי חוקרים סינים בשנז'ן בנו אב טיפוס של מכונת ליתוגרפיה EUV כחלק ממה שתואר כ"פרויקט מנהטן" הסיני להתחרות במערב בתחום שבבי AI . בנוסף, אנליסטים ציינו כי רכיבים מסוימים דו-שימושיים או פחות מוגבלים, שעלולים לסייע בפיתוח EUV מקומי, היו קשים יותר למעקב . עם זאת, האם קיים קשר בין התפתחויות אלו לבין החשד הנוכחי לא אומת.

ההקשר הרחב של מגבלות הייצוא וחוק MATCH

• איסור EUV קיים: מגבלות הייצוא האמריקאיות כבר אוסרות על ASML לשלוח מערכות EUV לסין. חשד זה, אם יתאמת, יהווה הפרה של איסור ארוך שנים זה .
• מגבלות DUV (נוכחיות): מכונות ליתוגרפיה מתקדמות פחות מסוג DUV (Deep Ultraviolet) אימרשן, שיכולות לייצר שבבים עד ל-7 ננומטר, המשיכו לזרום לסין והן היעד המרכזי הבא של מגבלות הייצוא .
• חוק MATCH: בתחילת אפריל 2026, קבוצה דו-מפלגתית של מחוקקים אמריקאים הציגה את חוק MATCH (Multilateral Alignment of Technology Controls on Hardware) (H.R. 8170) . סעיפים מרכזיים כוללים:
  • איסור ארצי על מכירת ציוד ייצור מוליכים למחצה "צוואר בקבוק" (Chokepoint), כולל מכונות ליתוגרפיה מסוג DUV אימרשן וכלי תחריט קריוגניים, לכל יעד בתוך מדינה מודאגת (כאשר סין נקראת במפורש) .
  • דרישה שבעלות ברית כמו הולנד ויפן יתאימו את מגבלות הייצוא שלהן לחוקים האמריקאים תוך 150 יום, או שיעמוד בפני אכיפה אמריקאית חד-צדדית באמצעות הרחבת חוק המוצר הזר הישיר (Foreign Direct Product Rule), שייתן לוושינגטון סמכות שיפוט על כל ציוד המכיל טכנולוגיה אמריקאית .
  • איסור על שירות (תחזוקה) של מכונות DUV שכבר מותקנות בסין .
  • הצעת החוק עברה את ועדת החוץ של בית הנבחרים בסוף אפריל 2026 והתקדמה כחלק מסבב רחב יותר של צעדי בקרת ייצוא .
  • חלק מהסעיפים צומצמו לפני ההצבעה בוועדה (לדוגמה, האיסור הארצי על כלי תחריט קריוגניים הוסר), אך ההגבלות על DUV נשארו בעינן .

בקצרה, חוק MATCH מבקש לעגן ולהרחיב את מגבלות הייצוא הנוכחיות של הרשות המבצעת לחוק, לסגור את פרצת DUV ולהפעיל לחץ על בעלות ברית לעשות כן — הכל בזמן שהחשד החדש בנוגע ל-EUV מראה שאפילו האיסורים המחמירים ביותר עשויים לעמוד בפני אתגרי אכיפה.