D’anciens responsables américains estiment que les usines chinoises avaient acquis 343 systèmes de lithographie DUV par immersion début 2026, pour plusieurs milliards de dollars. Même sans accès aux machines EUV les plus avancées, la Chine peut produire certaines puces de classe 7 nm en combinant des outils DUV et d...
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Create a landscape editorial hero image for this Studio Global article: Why are former US officials calling for a complete ban on immersion deep ultraviolet (DUVi) lithography equipment sales and servicing to Chi. Article summary: Former US officials argue that restricting new DUVi sales is no longer enough: Chinese fabs have already accumulated a substantial fleet, and continued servicing could keep it productive for years. Their proposed ban wou. Topic tags: general, news, general web. Style: premium digital editorial illustration, source-backed research mood, clean composition, high detail, modern web publication hero. Use reference image context only for broad subject, composition, and topical grounding; do not copy the exact image. Avoid: logos, brand marks, copyrighted characters, real person likenesses, fake screenshots, UI text, readable text, watermarks, charts with fake numbers
La proposition défendue par d’anciens responsables américains ne porte pas seulement sur l’arrêt des nouvelles ventes de machines de lithographie. Elle vise aussi la maintenance des équipements déjà installés en Chine. Leur argument : les restrictions sur les exportations futures risquent de laisser en service un parc suffisamment important pour soutenir la production de puces avancées.
Le chiffre avancé pour étayer cette inquiétude est considérable : les usines chinoises auraient acquis, selon une estimation, 343 systèmes de lithographie DUV par immersion au début de 2026, pour plusieurs milliards de dollars. Ce chiffre n’est toutefois pas un inventaire public vérifié.3
La lithographie EUV, ou ultraviolette extrême, sert à fabriquer les puces les plus avancées. La Chine n’a pas accès à ces systèmes. Mais l’absence d’EUV ne l’empêche pas de produire certaines puces sophistiquées : en répétant plusieurs étapes de structuration, des machines DUV peuvent servir à fabriquer des puces logiques de classe 7 nm. Un rapport décrit notamment l’utilisation de ces outils par des fabricants chinois pour atteindre cette catégorie de gravure.15
Les partisans de restrictions plus larges craignent qu’un parc important de machines DUV par immersion permette de poursuivre, voire d’accroître, la production de puces avancées, notamment celles qui peuvent être utilisées dans l’intelligence artificielle. Si les équipements déjà livrés restent opérationnels, bloquer uniquement les achats futurs pourrait donc ne pas freiner rapidement la production.3
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Les règles néerlandaises imposent déjà des licences pour l’exportation de certaines machines de lithographie avancées. La proposition défendue par les anciens responsables irait plus loin : elle restreindrait à l’échelle de la Chine la vente de machines DUV par immersion et empêcherait aussi la maintenance de celles qui sont déjà en service. Elle ne se limiterait donc pas à bloquer certains envois ou à viser des entreprises désignées individuellement.4
La maintenance est un enjeu distinct : une interdiction des ventes concerne les prochaines livraisons, mais pas nécessairement le fonctionnement des machines déjà installées. Selon un article consacré aux deux principaux fabricants chinois de puces mémoire, leurs équipements accumulés pourraient suffire à soutenir trois années de projets d’augmentation de capacité. Cette estimation porte sur les plans de ces entreprises ; elle ne permet pas de déterminer combien de temps toutes les usines chinoises pourraient fonctionner sans nouveaux équipements ni service.19
Le MATCH Act est une voie législative distincte qui chercherait à étendre les restrictions et à rapprocher les règles américaines de celles de pays alliés, dont les Pays-Bas et le Japon. Une version remaniée du texte prévoit toujours une restriction à l’échelle du pays sur les machines DUV par immersion d’ASML, rapporte Reuters. Mais il s’agit d’un projet de loi, pas d’une interdiction générale déjà en vigueur.1
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Si les alliés refusaient d’aligner leurs contrôles, Washington pourrait chercher à s’appuyer sur ses propres règles d’exportation, notamment en élargissant la règle dite du « produit direct étranger » (Foreign Direct Product Rule). Ce mécanisme est évoqué comme un moyen possible d’atteindre des équipements contenant des technologies américaines. Cela ne signifie pas que les États-Unis pourraient automatiquement imposer une interdiction complète de maintenance à un fournisseur néerlandais sans coopération des Pays-Bas.9
Une interdiction pourrait peser sur les activités d’ASML en Chine, mais les chiffres de ventes disponibles ne permettent pas de mesurer l’effet d’une restriction sur la maintenance, ni ses conséquences sur la production chinoise de puces. La Chine représentait 19 % des ventes nettes de systèmes d’ASML au premier trimestre 2026, puis 14 % au deuxième trimestre, selon les chiffres rapportés.5
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La Chine développe également ses propres outils de lithographie par immersion. Les informations disponibles font état de progrès, mais la vitesse de développement et la compétitivité de ces solutions nationales restent incertaines.18 Si elles deviennent suffisamment performantes, elles pourraient à terme réduire l’effet des restrictions. À plus court terme, une interdiction pourrait néanmoins limiter l’accès aux équipements importés et à leur maintenance.
L’argument central des partisans de la mesure est donc le suivant : si l’estimation du parc existant est proche de la réalité et que la maintenance aide à le garder opérationnel, bloquer les seules nouvelles ventes pourrait laisser beaucoup de machines en service. Mais l’inventaire n’est pas confirmé, le MATCH Act n’est pas une loi en vigueur et ni les outils chinois ni les chiffres de ventes d’ASML ne permettent de prévoir à quelle vitesse une interdiction complète modifierait les capacités de production de puces en Chine.
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D’anciens responsables américains estiment que les usines chinoises avaient acquis 343 systèmes de lithographie DUV par immersion début 2026, pour plusieurs milliards de dollars.
D’anciens responsables américains estiment que les usines chinoises avaient acquis 343 systèmes de lithographie DUV par immersion début 2026, pour plusieurs milliards de dollars. Même sans accès aux machines EUV les plus avancées, la Chine peut produire certaines puces de classe 7 nm en combinant des outils DUV et des procédés de gravure répétés.
Le projet de loi MATCH prévoit d’élargir les restrictions, mais il n’est pas devenu une interdiction générale.