Combien de temps faudra-t-il à la Chine pour développer ses propres machines EUV ?

Les estimations de Zeiss et d’UBS dessinent un rattrapage qui pourrait prendre du temps. Frank Rohmund, responsable de la division semi-conducteurs de Zeiss, juge raisonnable de tabler sur environ 15 ans pour que la Chine développe ses propres machines de lithographie EUV. UBS estime pour sa part qu’une solution chinoise capable de remplacer la technologie EUV d’ASML est peu probable dans la prochaine décennie. Il s’agit de prévisions, pas d’échéances garanties, et les deux estimations ne décrivent pas exactement le même objectif. 13

Pourquoi l’EUV est si difficile à maîtriser

La lithographie est une étape de fabrication qui permet de dessiner les circuits sur les puces. L’EUV — pour « ultraviolet extrême » — est au cœur du débat sur les équipements les plus avancés. L’analyse d’UBS porte notamment sur la capacité de la Chine à concevoir une solution pouvant remplacer la technologie EUV d’ASML. Rohmund a toutefois souligné qu’il est difficile de mesurer précisément les progrès chinois : les 15 ans avancés ne sont donc pas un compte à rebours. 13

Le défi ne se limite pas à concevoir une machine. Zeiss fournit des composants optiques spécialisés utilisés dans les systèmes EUV d’ASML. Cette relation illustre le rôle important des fournisseurs dans la chaîne de production des équipements de lithographie. 2

La DUV pourrait avancer plus vite, sans remplacer l’EUV

À plus court terme, la Chine pourrait progresser dans la lithographie DUV à immersion, une technologie plus ancienne que l’EUV. Selon les prévisions d’analystes d’UBS rapportées par TrendForce, le pays pourrait atteindre une production à grande échelle de ces machines d’ici deux à cinq ans. Cette perspective concerne la fabrication d’équipements DUV ; elle ne signifie pas que la Chine aurait réalisé une percée en EUV ou rattrapé les systèmes les plus avancés d’ASML. 3

La distinction est importante : les estimations disponibles envisagent des trajectoires différentes pour la DUV et l’EUV. Un progrès dans la première ne constitue pas, à lui seul, la preuve que l’écart sur la seconde se résorbe. 3

Les restrictions à l’exportation, entre frein et incitation

Les systèmes EUV ne peuvent pas être exportés vers la Chine, et l’exportation de certains équipements DUV à immersion avancés est également soumise à autorisation. Ces mesures limitent l’accès aux outils étrangers. Rohmund avertit toutefois que l’élargissement des contrôles pourrait aussi inciter la Chine à accélérer le développement de ses propres technologies. 2311

Leur effet à long terme ne se résume donc pas à un avantage assuré pour l’un ou l’autre camp. Les restrictions peuvent compliquer l’accès aux équipements, mais elles peuvent aussi renforcer la volonté de créer des solutions nationales. Les sources disponibles ne permettent pas de déterminer à quelle vitesse cela pourrait réduire l’écart technologique. 2

La demande liée à l’IA pousse Zeiss à accroître ses capacités

La demande associée à l’IA contribue également à façonner le marché des équipements pour semi-conducteurs. Selon un article consacré à la réponse de Zeiss à la hausse de la demande en optiques, l’entreprise a agrandi son site de production dédié aux semi-conducteurs et construit des capacités supplémentaires sur un autre site. Elle indique pouvoir augmenter encore sa production si nécessaire.

Il s’agit d’une réponse à la demande du marché, et non d’un plan présenté comme visant spécifiquement le développement de l’EUV chinois ou les contrôles à l’exportation. L’enjeu est double : la compétition pour les technologies de lithographie avancées et la capacité des fournisseurs à répondre à une demande croissante en optiques.

Ce que les prévisions permettent de conclure

Les estimations suggèrent que la Chine pourrait progresser plus rapidement en DUV qu’en EUV. Pour développer une machine EUV, ou une solution de remplacement viable, les horizons avancés restent de l’ordre d’une décennie ou davantage. Le chiffre de 15 ans est une estimation de Zeiss ; celui d’UBS relève d’une prévision d’analystes. Aucun des deux ne garantit un calendrier précis. 13

Trois éléments ressortent : les optiques de Zeiss jouent un rôle important dans la chaîne d’approvisionnement EUV d’ASML ; les restrictions limitent l’accès aux équipements, tout en pouvant encourager le développement local ; et la demande liée à l’IA conduit Zeiss à renforcer ses capacités. La manière dont ces facteurs évolueront influera sur le secteur, mais les informations disponibles ne permettent pas de dire quand — ni même si — la Chine égalera les systèmes EUV actuels. 23