ASML accusé par les États-Unis d'avoir laissé filer une machine EUV en Chine

Les preuves évoquées par Washington

Les preuves concrètes à l'origine des inquiétudes américaines n'ont pas été divulguées publiquement. L'agence Bloomberg, qui a révélé l'affaire, cite des « personnes proches du dossier » sans décrire le type de renseignement, les documents d'expédition ou toute autre preuve qui aurait motivé l'intervention de Lutnick . Aucune confirmation publique d'une machine EUV en Chine, aucune saisie de cargaison ni aucun journal de maintenance indiquant une installation non autorisée n'ont été rapportés.

Le contexte général peut toutefois alimenter les soupçons. En décembre 2025, Reuters rapportait que des chercheurs chinois à Shenzhen avaient construit un prototype de machine de lithographie EUV, dans le cadre de ce qui a été décrit comme le « Projet Manhattan » chinois pour rivaliser avec l'Occident dans le domaine des puces IA . Par ailleurs, des analystes notent que certains composants à double usage ou moins strictement contrôlés, pouvant aider au développement national de l'EUV, sont plus difficiles à tracer . Le lien entre ces éléments et l'accusation actuelle n'est toutefois pas établi.

Contexte des restrictions à l'exportation et de la loi MATCH

• Interdiction existante sur l'EUV : Les contrôles à l'exportation menés par les États-Unis interdisent déjà à ASML de vendre des machines EUV à la Chine. Si l'accusation s'avérait fondée, il s'agirait d'une violation de cette interdiction de longue date .
• Contrôles sur le DUV (actuels) : Les machines de lithographie à ultraviolets profonds (DUV) par immersion, moins avancées mais capables de produire des puces jusqu'à la gravure de 7 nm, continuent d'être vendues à la Chine. Elles constituent la prochaine cible majeure des restrictions .
• La loi MATCH : Début avril 2026, un groupe bipartisan de parlementaires américains a introduit le Multilateral Alignment of Technology Controls on Hardware (MATCH) Act (H.R. 8170) . Ses principales dispositions incluent :
  • Une interdiction nationale de vente d'équipements de fabrication de semi-conducteurs « clés », notamment les machines DUV par immersion et les outils de gravure cryogénique, à destination de la Chine .
  • Une obligation pour les nations alliées comme les Pays-Bas et le Japon d'aligner leurs restrictions sur les règles américaines sous 150 jours, sous peine de mesures unilatérales via une extension de la « Foreign Direct Product Rule », donnant à Washington une juridiction sur tout équipement contenant de la technologie américaine .
  • Une interdiction de la maintenance des machines DUV déjà installées en Chine .
  • Le texte a franchi l'étape de la commission des Affaires étrangères de la Chambre fin avril 2026 .

En résumé, la loi MATCH vise à codifier et élargir les contrôles à l'exportation actuels du pouvoir exécutif, en comblant la faille du DUV et en faisant pression sur les alliés pour qu'ils suivent le mouvement, et ce, alors que la nouvelle allégation concernant l'EUV suggère que même les interdictions les plus strictes pourraient rencontrer des difficultés d'application.