Suzhou Zhicain raportoitu 6 tuuman magnesiumoksidikohde on tarkoitettu MRAM muistien magneettisten tunneliliitosten valmistukseen. MgO muodostaa MRAM kennon erittäin ohuen eristekerroksen.
JulkaisijaMuokattu mallilla GPT-5.6 LunaKuvat luotu mallilla GPT Image 1.5
Research answer

Create a landscape editorial hero image for this Studio Global article: What was Suzhou Zhicai Technology’s August 21, 2026 breakthrough in developing and qualifying a 6-inch, 4N-purity, over-99.8%-density, inter. Article summary: Suzhou Zhicai’s reported breakthrough was a 6-inch MgO sputtering target for the magnetic-tunnel-junction (MTJ) barrier in MRAM: 4N purity (99.99%), density above 99.8%, and claimed international-grade grain uniformity. . Topic tags: general, general web. Style: premium digital editorial illustration, source-backed research mood, clean composition, high detail, modern web publication hero. Use reference image context only for broad subject, composition, and topical grounding; do not copy the exact image. Avoid: logos, brand marks, copyrighted characters, real person likenesses, fake screenshots, UI text, readable text, watermarks, charts with fake numbers, clic
Suzhou Zhicai Technologyn raportoitu saavutus koskee 6 tuuman magnesiumoksidista (MgO) valmistettua sputterointikohdetta. Sitä käytetään MRAM-muistin magneettisen tunneliliitoksen eli MTJ:n valmistuksessa. Tuotteen ilmoitetut ominaisuudet ovat 4N-puhtaus eli 99,99 prosenttia, yli 99,8 prosentin tiheys sekä kiderakeiden tasalaatuisuus, jonka kerrotaan yltävän kansainväliselle edistyneelle tasolle. Eräässä toimialaraportissa tätä verrataan japanilaisten valtavirtakohteiden yli 99,7 prosentin tiheyteen. 2
14
Tärkeä varaus liittyy näyttöön. Julkisissa raporteissa tuote kuvataan MRAM:n MTJ-tuotantoon hyväksytyksi, mutta saatavilla ei ole riippumatonta asiakasdataa wafer-eristä, sähköisistä mittaustuloksista, luotettavuudesta tai jatkuvasta suurtuotannosta. Japanilaiseen vertailuun kannattaa siksi suhtautua raportoituna vertailulukuna, ei täydellisenä tuotekohtaisena pätevyysvertailuna.
MRAM tallentaa tiedon magneettisten kerrosten suhteellisena suuntauksena. Se eroaa näin tavallisista varausta hyödyntävistä muisteista. MgO toimii magneettisten kerrosten välissä erittäin ohuena eristeenä, ja sen materiaalin laatu sekä pinnoittumiskäyttäytyminen vaikuttavat tunneliliitoksen sähköisiin ominaisuuksiin ja valmistuksen toistettavuuteen.
Kiinan insinööritieteellisessä tutkimuksessa erittäin puhtaat ja tiheät MgO-MTJ-sputterointikohteet on nostettu uuden sukupolven muistien kehityksen ja teollistamisen painopisteeksi. Samassa tutkimussuunnassa korostetaan epäpuhtauksien hallintaa sekä kohteen mikrorakenteen, raekoon, orientaation, jakauman, tasalaatuisuuden ja vikatiheyden parantamista. 4
Siksi kohde voi olla toimitusketjun kannalta strategisesti tärkeä, vaikka se on vain yksi muistipiirin komponenteista. Nimellinen puhtausluku ei vielä kerro laitteen todellista suorituskykyä. Tehtaat tarvitsevat lisäksi vakaata sputterointia, tasalaatuisia ohutkalvoja, ennakoitavia liitosominaisuuksia, riittävää valmistussaantoa ja erästä toiseen säilyvää luotettavuutta.
Tuotteen kolme keskeistä ominaisuutta ovat:
Paperilla ero on pieni, eikä sen perusteella voi päätellä, että Zhicain kohde olisi yksiselitteisesti parempi. Sputterointikohteen käytännön koe on se, tuottaako se asiakkaan prosessiolosuhteissa vaaditun kalvon tasalaatuisuuden ja laitetason tulokset. Toimitetut julkiset lähteet eivät sisällä kontrolloitua, rinnakkaista MRAM-pätevyysraporttia.
Toimialaraportoinnissa kohdetta kuvataan Kiinan kotimaisen MRAM-kohdemateriaalien kokonaisuuden täydentäväksi tuotteeksi. Sen väitetään myös poistavan ulkomaisesta toimituksesta riippuneen pullonkaulan maan MRAM-pilottituotantolinjoilta. 2 Toisen raportin mukaan tuote antaa kiinalaisille MRAM-valmistajille ja tutkimuslaitoksille kotimaisen, hallittavan toimitusvaihtoehdon.
14
Väitteet ovat toimitusketjun näkökulmasta merkittäviä, mutta niitä on syytä rajata. Saatavilla oleva näyttö tukee sitä, että markkinoille on raportoitu kotimainen MgO-vaihtoehto. Se ei osoita, että kaikki Kiinan MRAM-tehtaat olisivat hyväksyneet materiaalin, että tuontia ei enää tarvittaisi tai että kaikki kahden toimittajan malliin ja vientirajoitteisiin liittyvä paine olisi poistunut.
Myös päivämäärä vaatii täsmennystä. Lähteissä suoraan relevantti ilmoitus on päivätty 12. elokuuta 2026. Elokuun 21. päivää koskeva merkintä liittyy kiinalaisen, tasalaatuista oksidikohdetta käsittelevän patenttihakemuksen julkaisemiseen. Lähteet eivät osoita, että patentin julkaisu olisi ollut sama päivä kuin MRAM-kohteen tuotantopätevyyttä koskeva ilmoitus. 1
2
MRAM:n vetovoima perustuu haihtumattomuuden, nopean toiminnan ja kestävyyden yhdistelmään. Se säilyttää datan ilman jatkuvaa virransyöttöä ja tarjoaa samalla mahdollisuuden pieneen viiveeseen sekä suureen kirjoituskestävyyteen. Ominaisuudet kiinnostavat järjestelmiä, joissa tarvitaan nopeaa käynnistymistä, toistuvia päivityksiä, ennakoitavaa vasteaikaa tai toimintavarmuutta sähkökatkon jälkeen.
Raportoidut ja dokumentoidut käyttösuunnat sisältävät muun muassa:
Toimialakommenteissa MRAM:ia kuvataan joskus DRAM:n nopeutta lähestyväksi tai NAND-muistia selvästi pienemmän viiveen ratkaisuksi. Saatavilla oleva näyttö ei kuitenkaan vahvista yleispätevää väitettä, jonka mukaan lukemisviive olisi yksi tuhannesosa NAND:n viiveestä. Lukua on siksi pidettävä markkinointitason vertailuna, ei yleisenä vertailuarvona.
MRAM-sektorilla tapahtuu kehitystä erillisissä muisteissa, sulautetuissa ratkaisuissa, autoteollisuuden elektroniikassa ja erikoissovelluksissa. Lähteissä mainitaan muun muassa 8 nanometrin sulautetun MRAM-tekoälypiirin tape-out, SOT-MRAM:ia käyttävän lennokin koelento ja 8 tuuman MRAM-tuotantolinjan valmistuminen Qingdaossa. Nämä ovat eri kehitysvaiheiden saavutuksia – suunnittelun valmistumisesta ja demonstraatiosta tuotantolinjaväitteisiin – eikä niitä voi automaattisesti pitää osoituksena laajasta kaupallisesta volyymituotannosta. 51
52
Myös markkinaennusteet vaihtelevat huomattavasti. Yksi ennuste arvioi markkinan kasvavan 4,49 miljardista dollarista vuonna 2025 aina 86,78 miljardiin dollariin vuoteen 2034 mennessä, jolloin vuotuinen kasvu olisi 38,97 prosenttia. Toinen arvioi vuoden 2026 markkinaksi 4,43 miljardia dollaria ja vuoden 2031 markkinaksi 18,24 miljardia dollaria, 32,72 prosentin vuotuisella kasvulla. Eräs kolmas arvio ennustaa 1,18 miljardin dollarin markkinaa vuonna 2026 ja 4,65 miljardin dollarin markkinaa vuonna 2034. 17
20
30
Erot ovat liian suuria, jotta mitään yksittäistä arviota voisi kutsua toimialan konsensukseksi. Varovaisin johtopäätös on, että MRAM houkuttelee merkittävästi kehitystyötä ja investointeja, mutta lopullinen markkinakoko riippuu käyttöönotosta, valmistuksen taloudesta, teknologisista valinnoista ja sulautettujen muistien hyväksynnän etenemisestä.
MgO-kehitys sopii Zhicain ilmoitettuun asemoitumiseen kahdella toisiaan tukevalla alueella: korkean lämpötilan suprajohdemateriaaleissa ja puolijohteiden kriittisissä materiaaleissa. Suzhoun teollisuuspuiston viranomaistietojen mukaan yrityksen perustivat kansallisen lahjakkuusohjelman kautta rekrytoitu asiantuntija ja kohdemateriaalien tutkijat. Yhtiöllä kerrotaan olevan kokemusta oksidikohteiden tutkimuksesta, valmistuksesta ja kaupallistamisesta. 9
Yhtiön ReBCO-työ tarjoaa taustaa, vaikka kyse on eri tuotteesta kuin MRAM-kohteessa. Julkisten institutionaalisten tietojen mukaan Zhicai sai vientiluvan ja toimitti ensimmäisen erän ReBCO-korkean lämpötilan suprajohdekohteita yhdysvaltalaiselle asiakkaalle. Samoissa tiedoissa yritystä kuvataan Kiinan ainoaksi ja yhdeksi maailman kolmesta toimittajasta, joilla on täydellinen ReBCO-kohderatkaisu. 8
9
Kiinan tiedeakatemian varmennusraportissa tietyn Zhicain ReBCO-kohteen suorituskyvyn kerrotaan olleen vastaava kuin japanilaisella vastaavanlaisella tuontikohteella suprajohtavan siirtymälämpötilan ja kriittisen virrantiheyden osalta. Erot jäivät kokeellisen virheen piiriin, mutta arvio edellyttää erä- ja mittakaavan kasvatuksen vakauden huomioimista. 33
Tausta tekee MgO-siirrosta strategisesti johdonmukaisen: molemmat tuotteet perustuvat vaativaan oksidikohteiden prosessointiin ja tasalaatuisiin ohutkalvomateriaaleihin. MRAM-tuotteen kaupallinen koe on silti vasta edessä. Ratkaisevaa näyttöä olisivat riippumattomat eräkohtaiset tulokset, asiakastehtaan hyväksyntä, MTJ:n sähköinen suorituskyky, luotettavuustestit, tuotantosaanto ja toistuvat tilaukset.
Zhicain raportoitu 6 tuuman MgO-kohde on parasta nähdä mahdollisesti tärkeänä paikallistamisen virstanpylväänä Kiinan MRAM-toimitusketjussa – ei vielä todisteena siitä, että maa olisi poistanut kaiken ulkomaisen riippuvuuden tai korvannut tuontituotteet laajasti. Ilmoitettu 4N-puhtaus ja yli 99,8 prosentin tiheys asettuvat suotuisasti suhteessa mainittuun japanilaiseen, yli 99,7 prosentin tiheysvertailuun. Strateginen arvo on kuitenkin ennen kaikkea siinä, että kriittiselle MTJ-materiaalille on tarjolla kotimainen lähde. 2
14
MRAM etenee edelleen autojen, ilmailun, teollisuuden ja reunalaskennan sovelluksissa, mutta teknologian kaupallinen kehityskaari ja markkinan lopullinen koko ovat epävarmoja. Zhicain seuraava merkittävä virstanpylväs ei ole uusi ominaisuusluku, vaan riippumattomasti dokumentoitu ja toistettavissa oleva hyväksyntä todellisilla tuotantolinjoilla.
Studio Global AI
This page includes a source-backed answer you can continue inside Studio Global.
Suzhou Zhicain raportoitu 6 tuuman magnesiumoksidikohde on tarkoitettu MRAM muistien magneettisten tunneliliitosten valmistukseen.
Suzhou Zhicain raportoitu 6 tuuman magnesiumoksidikohde on tarkoitettu MRAM muistien magneettisten tunneliliitosten valmistukseen. MgO muodostaa MRAM kennon erittäin ohuen eristekerroksen. Puhtaus, tiheys, kiderakenne ja kalvon tasalaatuisuus voivat vaikuttaa liitoksen sähköisiin ominaisuuksiin, saantoon ja luotettavuuteen.
Kehitys tukee Kiinan pyrkimystä kotimaistaa MRAM materiaalien toimitusketjua, mutta väite viimeisen ulkomaisen pullonkaulan poistumisesta ei vielä osoita, että kaikki kiinalaiset tehtaat olisivat hyväksyneet materiaal...
Suzhou Zhicain raportoitu 6 tuuman magnesiumoksidikohde on tarkoitettu MRAM muistien magneettisten tunneliliitosten valmistukseen. MgO muodostaa MRAM kennon erittäin ohuen eristekerroksen.
JulkaisijaMuokattu mallilla GPT-5.6 LunaKuvat luotu mallilla GPT Image 1.5
Research answer

Create a landscape editorial hero image for this Studio Global article: What was Suzhou Zhicai Technology’s August 21, 2026 breakthrough in developing and qualifying a 6-inch, 4N-purity, over-99.8%-density, inter. Article summary: Suzhou Zhicai’s reported breakthrough was a 6-inch MgO sputtering target for the magnetic-tunnel-junction (MTJ) barrier in MRAM: 4N purity (99.99%), density above 99.8%, and claimed international-grade grain uniformity. . Topic tags: general, general web. Style: premium digital editorial illustration, source-backed research mood, clean composition, high detail, modern web publication hero. Use reference image context only for broad subject, composition, and topical grounding; do not copy the exact image. Avoid: logos, brand marks, copyrighted characters, real person likenesses, fake screenshots, UI text, readable text, watermarks, charts with fake numbers, clic
Suzhou Zhicai Technologyn raportoitu saavutus koskee 6 tuuman magnesiumoksidista (MgO) valmistettua sputterointikohdetta. Sitä käytetään MRAM-muistin magneettisen tunneliliitoksen eli MTJ:n valmistuksessa. Tuotteen ilmoitetut ominaisuudet ovat 4N-puhtaus eli 99,99 prosenttia, yli 99,8 prosentin tiheys sekä kiderakeiden tasalaatuisuus, jonka kerrotaan yltävän kansainväliselle edistyneelle tasolle. Eräässä toimialaraportissa tätä verrataan japanilaisten valtavirtakohteiden yli 99,7 prosentin tiheyteen. 2
14
Tärkeä varaus liittyy näyttöön. Julkisissa raporteissa tuote kuvataan MRAM:n MTJ-tuotantoon hyväksytyksi, mutta saatavilla ei ole riippumatonta asiakasdataa wafer-eristä, sähköisistä mittaustuloksista, luotettavuudesta tai jatkuvasta suurtuotannosta. Japanilaiseen vertailuun kannattaa siksi suhtautua raportoituna vertailulukuna, ei täydellisenä tuotekohtaisena pätevyysvertailuna.
MRAM tallentaa tiedon magneettisten kerrosten suhteellisena suuntauksena. Se eroaa näin tavallisista varausta hyödyntävistä muisteista. MgO toimii magneettisten kerrosten välissä erittäin ohuena eristeenä, ja sen materiaalin laatu sekä pinnoittumiskäyttäytyminen vaikuttavat tunneliliitoksen sähköisiin ominaisuuksiin ja valmistuksen toistettavuuteen.
Kiinan insinööritieteellisessä tutkimuksessa erittäin puhtaat ja tiheät MgO-MTJ-sputterointikohteet on nostettu uuden sukupolven muistien kehityksen ja teollistamisen painopisteeksi. Samassa tutkimussuunnassa korostetaan epäpuhtauksien hallintaa sekä kohteen mikrorakenteen, raekoon, orientaation, jakauman, tasalaatuisuuden ja vikatiheyden parantamista. 4
Siksi kohde voi olla toimitusketjun kannalta strategisesti tärkeä, vaikka se on vain yksi muistipiirin komponenteista. Nimellinen puhtausluku ei vielä kerro laitteen todellista suorituskykyä. Tehtaat tarvitsevat lisäksi vakaata sputterointia, tasalaatuisia ohutkalvoja, ennakoitavia liitosominaisuuksia, riittävää valmistussaantoa ja erästä toiseen säilyvää luotettavuutta.
Tuotteen kolme keskeistä ominaisuutta ovat:
Paperilla ero on pieni, eikä sen perusteella voi päätellä, että Zhicain kohde olisi yksiselitteisesti parempi. Sputterointikohteen käytännön koe on se, tuottaako se asiakkaan prosessiolosuhteissa vaaditun kalvon tasalaatuisuuden ja laitetason tulokset. Toimitetut julkiset lähteet eivät sisällä kontrolloitua, rinnakkaista MRAM-pätevyysraporttia.
Toimialaraportoinnissa kohdetta kuvataan Kiinan kotimaisen MRAM-kohdemateriaalien kokonaisuuden täydentäväksi tuotteeksi. Sen väitetään myös poistavan ulkomaisesta toimituksesta riippuneen pullonkaulan maan MRAM-pilottituotantolinjoilta. 2 Toisen raportin mukaan tuote antaa kiinalaisille MRAM-valmistajille ja tutkimuslaitoksille kotimaisen, hallittavan toimitusvaihtoehdon.
14
Väitteet ovat toimitusketjun näkökulmasta merkittäviä, mutta niitä on syytä rajata. Saatavilla oleva näyttö tukee sitä, että markkinoille on raportoitu kotimainen MgO-vaihtoehto. Se ei osoita, että kaikki Kiinan MRAM-tehtaat olisivat hyväksyneet materiaalin, että tuontia ei enää tarvittaisi tai että kaikki kahden toimittajan malliin ja vientirajoitteisiin liittyvä paine olisi poistunut.
Myös päivämäärä vaatii täsmennystä. Lähteissä suoraan relevantti ilmoitus on päivätty 12. elokuuta 2026. Elokuun 21. päivää koskeva merkintä liittyy kiinalaisen, tasalaatuista oksidikohdetta käsittelevän patenttihakemuksen julkaisemiseen. Lähteet eivät osoita, että patentin julkaisu olisi ollut sama päivä kuin MRAM-kohteen tuotantopätevyyttä koskeva ilmoitus. 1
2
MRAM:n vetovoima perustuu haihtumattomuuden, nopean toiminnan ja kestävyyden yhdistelmään. Se säilyttää datan ilman jatkuvaa virransyöttöä ja tarjoaa samalla mahdollisuuden pieneen viiveeseen sekä suureen kirjoituskestävyyteen. Ominaisuudet kiinnostavat järjestelmiä, joissa tarvitaan nopeaa käynnistymistä, toistuvia päivityksiä, ennakoitavaa vasteaikaa tai toimintavarmuutta sähkökatkon jälkeen.
Raportoidut ja dokumentoidut käyttösuunnat sisältävät muun muassa:
Toimialakommenteissa MRAM:ia kuvataan joskus DRAM:n nopeutta lähestyväksi tai NAND-muistia selvästi pienemmän viiveen ratkaisuksi. Saatavilla oleva näyttö ei kuitenkaan vahvista yleispätevää väitettä, jonka mukaan lukemisviive olisi yksi tuhannesosa NAND:n viiveestä. Lukua on siksi pidettävä markkinointitason vertailuna, ei yleisenä vertailuarvona.
MRAM-sektorilla tapahtuu kehitystä erillisissä muisteissa, sulautetuissa ratkaisuissa, autoteollisuuden elektroniikassa ja erikoissovelluksissa. Lähteissä mainitaan muun muassa 8 nanometrin sulautetun MRAM-tekoälypiirin tape-out, SOT-MRAM:ia käyttävän lennokin koelento ja 8 tuuman MRAM-tuotantolinjan valmistuminen Qingdaossa. Nämä ovat eri kehitysvaiheiden saavutuksia – suunnittelun valmistumisesta ja demonstraatiosta tuotantolinjaväitteisiin – eikä niitä voi automaattisesti pitää osoituksena laajasta kaupallisesta volyymituotannosta. 51
52
Myös markkinaennusteet vaihtelevat huomattavasti. Yksi ennuste arvioi markkinan kasvavan 4,49 miljardista dollarista vuonna 2025 aina 86,78 miljardiin dollariin vuoteen 2034 mennessä, jolloin vuotuinen kasvu olisi 38,97 prosenttia. Toinen arvioi vuoden 2026 markkinaksi 4,43 miljardia dollaria ja vuoden 2031 markkinaksi 18,24 miljardia dollaria, 32,72 prosentin vuotuisella kasvulla. Eräs kolmas arvio ennustaa 1,18 miljardin dollarin markkinaa vuonna 2026 ja 4,65 miljardin dollarin markkinaa vuonna 2034. 17
20
30
Erot ovat liian suuria, jotta mitään yksittäistä arviota voisi kutsua toimialan konsensukseksi. Varovaisin johtopäätös on, että MRAM houkuttelee merkittävästi kehitystyötä ja investointeja, mutta lopullinen markkinakoko riippuu käyttöönotosta, valmistuksen taloudesta, teknologisista valinnoista ja sulautettujen muistien hyväksynnän etenemisestä.
MgO-kehitys sopii Zhicain ilmoitettuun asemoitumiseen kahdella toisiaan tukevalla alueella: korkean lämpötilan suprajohdemateriaaleissa ja puolijohteiden kriittisissä materiaaleissa. Suzhoun teollisuuspuiston viranomaistietojen mukaan yrityksen perustivat kansallisen lahjakkuusohjelman kautta rekrytoitu asiantuntija ja kohdemateriaalien tutkijat. Yhtiöllä kerrotaan olevan kokemusta oksidikohteiden tutkimuksesta, valmistuksesta ja kaupallistamisesta. 9
Yhtiön ReBCO-työ tarjoaa taustaa, vaikka kyse on eri tuotteesta kuin MRAM-kohteessa. Julkisten institutionaalisten tietojen mukaan Zhicai sai vientiluvan ja toimitti ensimmäisen erän ReBCO-korkean lämpötilan suprajohdekohteita yhdysvaltalaiselle asiakkaalle. Samoissa tiedoissa yritystä kuvataan Kiinan ainoaksi ja yhdeksi maailman kolmesta toimittajasta, joilla on täydellinen ReBCO-kohderatkaisu. 8
9
Kiinan tiedeakatemian varmennusraportissa tietyn Zhicain ReBCO-kohteen suorituskyvyn kerrotaan olleen vastaava kuin japanilaisella vastaavanlaisella tuontikohteella suprajohtavan siirtymälämpötilan ja kriittisen virrantiheyden osalta. Erot jäivät kokeellisen virheen piiriin, mutta arvio edellyttää erä- ja mittakaavan kasvatuksen vakauden huomioimista. 33
Tausta tekee MgO-siirrosta strategisesti johdonmukaisen: molemmat tuotteet perustuvat vaativaan oksidikohteiden prosessointiin ja tasalaatuisiin ohutkalvomateriaaleihin. MRAM-tuotteen kaupallinen koe on silti vasta edessä. Ratkaisevaa näyttöä olisivat riippumattomat eräkohtaiset tulokset, asiakastehtaan hyväksyntä, MTJ:n sähköinen suorituskyky, luotettavuustestit, tuotantosaanto ja toistuvat tilaukset.
Zhicain raportoitu 6 tuuman MgO-kohde on parasta nähdä mahdollisesti tärkeänä paikallistamisen virstanpylväänä Kiinan MRAM-toimitusketjussa – ei vielä todisteena siitä, että maa olisi poistanut kaiken ulkomaisen riippuvuuden tai korvannut tuontituotteet laajasti. Ilmoitettu 4N-puhtaus ja yli 99,8 prosentin tiheys asettuvat suotuisasti suhteessa mainittuun japanilaiseen, yli 99,7 prosentin tiheysvertailuun. Strateginen arvo on kuitenkin ennen kaikkea siinä, että kriittiselle MTJ-materiaalille on tarjolla kotimainen lähde. 2
14
MRAM etenee edelleen autojen, ilmailun, teollisuuden ja reunalaskennan sovelluksissa, mutta teknologian kaupallinen kehityskaari ja markkinan lopullinen koko ovat epävarmoja. Zhicain seuraava merkittävä virstanpylväs ei ole uusi ominaisuusluku, vaan riippumattomasti dokumentoitu ja toistettavissa oleva hyväksyntä todellisilla tuotantolinjoilla.
Studio Global AI
This page includes a source-backed answer you can continue inside Studio Global.
Suzhou Zhicain raportoitu 6 tuuman magnesiumoksidikohde on tarkoitettu MRAM muistien magneettisten tunneliliitosten valmistukseen.
Suzhou Zhicain raportoitu 6 tuuman magnesiumoksidikohde on tarkoitettu MRAM muistien magneettisten tunneliliitosten valmistukseen. MgO muodostaa MRAM kennon erittäin ohuen eristekerroksen. Puhtaus, tiheys, kiderakenne ja kalvon tasalaatuisuus voivat vaikuttaa liitoksen sähköisiin ominaisuuksiin, saantoon ja luotettavuuteen.
Kehitys tukee Kiinan pyrkimystä kotimaistaa MRAM materiaalien toimitusketjua, mutta väite viimeisen ulkomaisen pullonkaulan poistumisesta ei vielä osoita, että kaikki kiinalaiset tehtaat olisivat hyväksyneet materiaal...