ASML:n osake laski voimakkaasti 27.–28. heinäkuuta sen jälkeen, kun The Information kertoi Kiinan valtion tukeman yhteenliittymän aloittaneen kotimaisten immersio-DUV-laitteiden tuotannon. Reuters vahvisti tiedot myöhemmin. Hankkeessa kerrottiin olevan mukana muun muassa Huawei ja SiCarrier, ja sitä johtavan Shanghaissa toimiva, vähän tunnettu valtionyhtiö Shanghai Aishengna Electronic Technology Group.
ASML:n osake kävi 27. heinäkuuta päivän sisällä jopa noin kahdeksan prosenttia laskussa ja päätyi noin kuusi prosenttia alemmaksi. Lasku painoi samalla yhdysvaltalaisia kilpailijoita, kuten Applied Materialsia, Lam Researchia ja KLA:ta.
Kiinan DUV-uutinen osui valmiiksi hermostuneille markkinoille. Puolijohdeosakkeita olivat painaneet jo aiemmin voittojen kotiuttaminen, Samsungin odotuksia heikommat tulokset sekä huolet siitä, että asiakkaat lykkäävät kalliita teknologiainvestointeja.
Analyytikkojen keskeinen huomio oli yksinkertainen: tuotannon aloittaminen ei vielä tarkoita, että Kiina pystyisi toimittamaan ASML:n kanssa kilpailukykyisiä, luotettavia ja suurten tuotantomäärien valmistukseen soveltuvia järjestelmiä.
Kiinan tavoitteena on toimittaa noin viisi DUV-järjestelmää vuonna 2026 ja noin 20 vuonna 2027. Määrät ovat pieniä verrattuna ASML:n vuosittain toimittamiin satoihin järjestelmiin. Lisäksi ASML:n tilauskannan kerrottiin olevan loppuunmyyty vuoteen 2027 asti.
Valtion tukema kiinalainen yhteenliittymä on aloittanut immersiota hyödyntävien syväultraviolettilitografialaitteiden tuotannon. Laitteita on tarkoitus toimittaa kiinalaisille siruvalmistajille, kuten SMIC:lle, Hua Hongille ja CXMT:lle.
Reutersin mukaan järjestelmät ovat kuitenkin vielä suorituskyvyltään ja luotettavuudeltaan ulkomaisia vaihtoehtoja jäljessä. Ennen kuin ne voivat vastata ASML:n tuotantolaatua, niitä on testattava lisää.
Kyseessä on silti Kiinalle merkittävä virstanpylväs. Litografialaitteet ovat yksi puolijohdeteollisuuden vaikeimmin kehitettävistä teknologioista, ja kotimainen tuotanto vähentäisi riippuvuutta ulkomaisista toimittajista.
ASML:n tärkein teknologinen etu on vielä kehittyneemmässä EUV-litografiassa. EUV eli äärimmäinen ultraviolettilitografia mahdollistaa kaikkein edistyneimpien sirujen valmistuksen, ja ASML:n koneet ovat alan kaupallisesti ratkaiseva teknologia.
Reuters kertoi joulukuussa 2025, että joukko entisiä ASML:n insinöörejä Shenzhenissä oli saanut EUV-koneen prototyypin valmiiksi ja testasi sitä korkean turvallisuustason laboratoriossa. Prototyypillä ei kuitenkaan ollut vielä valmistettu toimivia siruja.
Kiinan puolijohdeteollisuuden johtajat ovat lisäksi vaatineet yhtenäistä kansallista hanketta kokonaisten litografiajärjestelmien kehittämiseksi vuosina 2026–2030. He ovat samalla myöntäneet, että aukkoja on edelleen muun muassa EDA-ohjelmistoissa, keskeisissä materiaaleissa ja EUV-teknologiassa.
Lyhyellä aikavälillä vaikutuksen arvioidaan olevan pieni.
Kiina muodostaa vuonna 2026 noin 20 prosenttia ASML:n nettomyynnistä, kertoi yhtiön talousjohtaja Roger Dassen. Osuus on pienentynyt vuoden 2024 noin 44 prosentista ja vuoden 2025 noin 42 prosentista.
Myös DUV-laitteiden suhteellinen merkitys ASML:n liiketoiminnassa on laskenut. DUV:n osuus yhtiön kokonaismyynnistä oli 44 prosenttia vuonna 2024, mutta viimeisellä neljänneksellä enää 29 prosenttia.
Bank of America arvioi, että jos Kiina hankkisi kotimaasta 20 argonfluoridi-immersiojärjestelmää, vaikutus ASML:n seuraavan vuoden myyntiin olisi noin 1,4 miljardia euroa eli 2,4 prosenttia.
Tämä ei tarkoita, etteikö Kiinan kehitys olisi ASML:lle merkityksellistä. Se tarkoittaa, että uutinen ei vielä yksinään uhkaa yhtiön lähivuosien tulosta tai sen asemaa edistyneimpien laitteiden toimittajana.
Kiinan DUV-hanke korostaa myös ASML:n hankalaa geopoliittista asemaa. Yhdysvaltojen johtamat vientirajoitukset estävät yhtiötä toimittamasta Kiinaan kaikkein kehittyneimpiä EUV-koneita, ja rajoituksia on kiristetty myös joidenkin vanhempien DUV-laitteiden osalta.
Kiina pyrkii kiertämään siruteknologiaa koskevia rajoituksia usealla rintamalla: se kehittää omia litografialaitteita, yhdistää tekoälysiruja suuremmiksi kokonaisuuksiksi ja yrittää mahdollisesti hankkia ASML:n laitteita luvattomia kanavia pitkin.
Yhdysvaltain kauppaministeri Howard Lutnickin kerrotaan myös esittäneen ASML:n johdolle kysymyksiä huolesta, että yksi yhtiön EUV-järjestelmistä olisi päätynyt Kiinaan vientirajoitusten vastaisesti.
ASML ei voi estää entisiä työntekijöitään siirtymästä uusiin tehtäviin. Shenzhenin EUV-prototyyppiin liittyvässä ryhmässä on tiettävästi entisiä ASML:n insinöörejä, vaikka yhtiö on korostanut heidän olevan salassapitosopimusten sitomia. ASML on myös joissakin tapauksissa ryhtynyt oikeustoimiin liikesalaisuuksien varastamisesta.
Alankomaiden hallitus puolestaan joutuu jatkuvasti tasapainoilemaan Washingtonin lisärajoituspaineiden ja Kiinan-markkinoiden välillä. Näin ASML on joutunut keskelle teknologista ja geopoliittista valtapeliä, jossa sen historiallisesti suurin markkina Kiina ja tärkeä liittolainen Yhdysvallat vetävät eri suuntiin.
Kiinan DUV-tuotannon käynnistyminen on merkittävä askel maan pyrkimyksessä omavaraisuuteen puolijohteissa. Se on myös symbolinen haaste ASML:n pitkään jatkuneelle johtoasemalle.
Numerot antavat kuitenkin toisenlaisen kuvan kuin pörssipaniikki. Kiina tähtää noin viiteen koneeseen vuonna 2026 ja noin 20:een vuonna 2027, kun ASML toimittaa vuosittain satoja järjestelmiä. Kiinalaiset koneet ovat edelleen suorituskyvyssä ja luotettavuudessa jäljessä, ja EUV-teknologiassa etumatka on vielä suurempi.
Siksi noin 60 miljardin euron markkina-arvon menetys näyttää hinnoitelleen sisään uhan, joka on todellinen mutta todennäköisesti vielä vuosien päässä siitä, että se vaikuttaisi olennaisesti ASML:n liikevaihtoon tai kilpailuasemaan.