Kiinan oma DUV-litografia etenee, mutta ASML:n lähiajan riski on Washingtonissa

Tekniikka pystyy yhteen valotukseen perustuvassa tuotannossa noin 28 nanometrin piireihin. Monivalotuksella eli saman piirikuvion useampaan kertaan jakavalla valmistusmenetelmällä sen mahdollisuudet voivat ulottua noin 11–7 nanometriin . Tämä ei kuitenkaan tarkoita, että Kiina valmistaisi jo nyt 7 nanometrin siruja ASML:n veroisella tehokkuudella.

ASML:n etumatka on edelleen suuri

Reuters ja useat analyytikot korostavat, että kiinalaiset koneet jäävät yhä jälkeen suorituskyvyssä ja luotettavuudessa. Niitä on testattava lisää ennen kuin tuotantoa voidaan kasvattaa merkittävästi . Haasteita on erityisesti läpimenossa, tuotantosaannossa ja kohdistustarkkuudessa – eli siinä, kuinka tasaisesti ja tarkasti kone pystyy valmistamaan käyttökelpoisia siruja .

Lisäksi osa tärkeistä komponenteista tulee edelleen Japanista, mikä jättää Kiinan toimitusketjun alttiiksi uusille rajoituksille ja katkoksille .

ASML:n asemaa tukevat myös sen kehittyneiden EUV-laitteiden käytännössä monopolimainen asema, NXT:1980- ja NXT:2050-sarjojen suorituskyky sekä maailmanlaajuinen huoltoverkosto . Viiden tai 20 koneen tuotantomäärä on pieni verrattuna ASML:n vuosittaiseen, satojen DUV- ja EUV-järjestelmien toimitusmäärään.

Miksi ASML:n osake silti reagoi?

Uutinen painoi yhdysvaltalaisia sirulaitteistoyhtiöitä 27.–28. heinäkuuta 2026, kun markkinat hinnoittelivat Kiinan kehitystä mahdollisena pitkän aikavälin uhkana . Ensireaktiota on kuitenkin pidetty pikemminkin uutisotsikon aiheuttamana lyhyen aikavälin liikkeenä kuin ASML:n kilpailuaseman pysyvänä uudelleenarviointina.

Nykyisillä tuotantomäärillä Kiinan koneet eivät muodosta ASML:lle taloudellisesti merkittävää kilpailua. Todellinen kysymys on, pystyykö Kiina vuoteen 2028–2030 mennessä nostamaan koneidensa luotettavuuden, tuotantosaannon ja valmistusmäärät tasolle, jolla ne soveltuvat laajamittaiseen kaupalliseen tuotantoon .

Kiinan osuus ASML:n myynnistä on jo pienentymässä

Kiina oli ASML:n suurin yksittäinen markkina vuonna 2025 ja vastasi 33 prosentista yhtiön kokonaismyynnistä . Lukuun vaikutti kuitenkin myös niin sanottu ennakkokysyntä: asiakkaat nopeuttivat tilauksiaan ennen odotettuja vientirajoituksia .

ASML:n talousjohtaja Roger Dassen arvioi, että Kiinan osuus yhtiön nettomyynnistä jää vuonna 2026 noin 20 prosenttiin . Vuoden 2026 ensimmäisellä neljänneksellä osuus oli jo laskenut 19 prosenttiin, kun se oli vuoden 2025 viimeisellä neljänneksellä 36 prosenttia .

Kiinan oma DUV-tuotanto lisää tähän kehitykseen jonkin verran painetta, mutta ASML:n Kiina-myynnin lasku oli käynnissä jo vientirajoitusten ja aiemman tilauspiikin normalisoitumisen vuoksi.

MATCH-laki on ASML:n lähiajan todellinen riski

Yhdysvaltalaiset lainsäätäjät esittelivät Multilateral Alignment of Technology Controls on Hardware Act -lakiesityksen eli MATCH-lain 2. huhtikuuta 2026 . Sen keskeinen tavoite on kieltää kaikkien immersion DUV-litografiajärjestelmien vienti ja huolto kiinalaisille siruvalmistajille .

Käytännössä laki sulkisi aukon, jonka kautta kiinalaiset tehtaat voivat edelleen hankkia ASML:n vanhempia immersion DUV-laitteita. Lakiesitystä supistettiin huhtikuun puolivälissä, mutta sen keskeinen DUV-kielto säilyi . Edustajainhuoneen ulkoasiainvaliokunta on käsitellyt ja edistänyt esitystä .

Esitykseen sisältyy myös mekanismi, joka painostaisi Alankomaita ja Japania yhdenmukaistamaan vientirajoituksensa Yhdysvaltojen kanssa 150 päivän kuluessa. Muussa tapauksessa Washington voisi ryhtyä yksipuolisiin toimiin .

Ratkaisevaa on, että MATCH-laki kohdistuisi ASML:n jäljellä olevaan DUV-myyntiin ja huoltoon riippumatta siitä, onko Kiinalla käytössään omia koneita . Yhdysvaltojen näkökulmasta tarkoitus on estää kiinalaisia tehtaita käyttämästä parempia ulkomaisia laitteita samalla, kun Kiinan omat vaihtoehdot ovat vielä kypsymättömiä.

Vaikutukset koko sirulaitteistosektorille

Kiinan DUV-uutinen painoi laajasti Yhdysvalloissa listattuja puolijohdelaitteistojen valmistajia . Vaikutukset eivät rajoitu ASML:ään:

• Applied Materials, Lam Research ja KLA: Yhtiöillä on Kiina-altistusta, ja MATCH-laki voisi rajoittaa kiinalaisille tehtaille myytäviä syövytys-, ohutkalvopinnoitus- ja mittauslaitteita .
• Lyhyen aikavälin epävarmuus: Lakiesityksen lopullinen sisältö, hyväksymisen aikataulu sekä Alankomaiden ja Japanin reaktio pitävät koko sektoria paineessa .
• Pitkän aikavälin uhka: Jos Kiinan omat DUV-laitteet saavuttavat riittävän tuotantomäärän ja luotettavuuden vuoteen 2028–2030 mennessä, länsimaisten laitevalmistajien Kiinan-markkinoiden koko voi pienentyä rakenteellisesti. Tämänhetkistä rajallista tuotantoa pidetään kuitenkin enemmän symbolisena saavutuksena kuin välittömänä taloudellisena uhkana .

Mitä vielä ei tiedetä?

Kiinan edistysaskel ei vielä ratkaise sitä, pystyykö maa korvaamaan ASML:n laitteet tuotannossa.

• Suorituskykyero on yhä suuri. Käytännön tuotantosaanto, läpimeno ja kohdistustarkkuus ratkaisevat, voidaanko 7 nanometrin luokan siruja valmistaa kaupallisesti kannattavilla määrillä .
• SMIC on vasta testausvaiheessa. Yhtiö on testannut Shanghai Yuliangshengin aiempaa immersion DUV -laitetta syyskuusta 2025 lähtien, mutta prototyypistä vakaaseen tuotantoon siirtyminen voi kestää vuosia .
• MATCH-laki ei ole vielä laki. Se on edennyt valiokunnassa, mutta sen eteneminen täysimääräiseen hyväksyntään on epäselvää ja sisältöä voidaan vielä muuttaa .
• Ulkomaisten komponenttien riippuvuus jatkuu. Japanilaisten komponenttien käyttö osoittaa, ettei Kiinan omavaraisuus ole vielä täydellistä .

Johtopäätös

Kiinan kotimainen immersion DUV-tuotanto on tähän asti merkittävin julkinen osoitus maan pyrkimyksestä saavuttaa riippumattomuus litografiateknologiassa. Se ei kuitenkaan vielä merkitse ASML:n kilpailuaseman murtumista.

ASML:n kannalta lähiajan suurempi uhka on MATCH-laki, joka voisi katkaista yhtiön jäljellä olevan immersion DUV-myynnin Kiinaan, vaikka Kiinan omat koneet olisivat edelleen heikompia. Yhtiön Kiina-osuus on jo laskemassa vuoden 2025 33 prosentista noin 20 prosenttiin vuonna 2026, joten uusi kotimainen kilpailu lisää olemassa olevaa painetta vain maltillisesti.

Rakenteellinen uhka syntyy vasta, jos Kiina pystyy samanaikaisesti kasvattamaan tuotantomääriä, nostamaan luotettavuutta ja saavuttamaan kaupallisesti hyväksyttävän tuotantosaannon. Siihen on tämänhetkisten tietojen perusteella vielä pitkä matka.