Yhdysvallat epäilee ASML:n huippuluokan siruvalmistuskoneen päätyneen Kiinaan – ASML kiistää jyrkästi

Yhdysvaltain viranomaisten esittämä todistusaineisto

Erityistä todistusaineistoa Yhdysvaltain huolen taustalla ei ole julkistettu yksityiskohtaisesti. Bloomberg News, joka uutisoi asiasta ensimmäisenä, kertoi tapahtuneen "henkilöiden, joilla on tietoa asiasta" perusteella, mutta se ei kuvannut tiedustelutietoja, lähetysasiakirjoja tai muuta todistusaineistoa, joka sai Lutnickin puuttumaan asiaan . Julkisessa uutisoinnissa ei mainita vahvistettuja havaintoja EUV-järjestelmästä Kiinassa, takavarikoiduista lähetyksistä tai luvattomasta asennuksesta kertovista huoltolokeista.

Laajempi tausta voi kuitenkin selittää epäilyjä. Joulukuussa 2025 Reuters uutisoi, että kiinalaiset tutkijat Shenzhenissä olivat rakentaneet prototyypin EUV-litografiakoneesta osana hanketta, jota on kuvattu Kiinan "Manhattan-projektiksi" vastustaakseen lännen tekoälypiirien ylivaltaa . Lisäksi analyytikot ovat huomauttaneet, että joidenkin kaksoiskäyttö- tai vähemmän rajoitettujen komponenttien, jotka voisivat auttaa kotimaisen EUV-valmistuksen kehittämisessä, seuranta on ollut vaikeampaa . On kuitenkin epäselvää, liittyvätkö nämä kehityskulut nykyiseen väitteeseen.

Vientirajoitusten ja MATCH Act -lain laajempi konteksti

• Nykyinen EUV-kielto: Yhdysvaltain johtamat vientirajoitukset kieltävät jo ASML:ää toimittamasta EUV-järjestelmiä Kiinaan. Tämä väite, jos se pitää paikkansa, merkitsisi pitkäaikaisen kiellon rikkomista .
• DUV-rajoitukset (nykyiset): Vähemmän edistyneitä DUV (deep ultraviolet) immersiolitografiakoneita, joilla voidaan valmistaa piirejä aina 7 nm:n solmukohtiin asti, on edelleen toimitettu Kiinaan, ja ne ovat seuraava suuri rajoitusten kohde .
• MATCH Act: Huhtikuun 2026 alussa kaksipuolueinen joukko Yhdysvaltain lainsäätäjiä esitteli Multilateral Alignment of Technology Controls on Hardware (MATCH) Act -lain (H.R. 8170) . Keskeisiä säännöksiä ovat:
  • Maakohtainen kielto myydä "pullonkaula"-puolijohdevalmistuslaitteita, mukaan lukien DUV-immersiolitografiatyökalut ja kryogeeniset etsauslaitteet, huolenaiheena olevassa maassa (nimenomaan Kiina) .
  • Vaatimus, että liittolaisvaltiot, kuten Alankomaat ja Japani, mukauttavat vientirajoituksensa Yhdysvaltain sääntöihin 150 päivän kuluessa tai joutuvat kohtaamaan yksipuolisen Yhdysvaltain täytäntöönpanon laajennetun ulkomaisen suoran tuotteen säännön (Foreign Direct Product Rule) kautta, joka antaisi Washingtonille toimivallan kaikkiin laitteisiin, jotka sisältävät amerikkalaista teknologiaa .
  • Kielto huoltaa jo asennettuja DUV-koneita Kiinassa .
  • Lakialoite hyväksyttiin edustajainhuoneen ulkoasiainvaliokunnassa huhtikuun 2026 lopussa ja eteni osana laajempaa vientivalvontatoimenpiteiden käsittelyä .

Lyhyesti sanottuna MATCH Act pyrkii kodifioimaan ja laajentamaan nykyisiä toimeenpanovallan vientirajoituksia laiksi, sulkemaan DUV-porsaanreiän ja painostamaan liittolaisia seuraamaan perässä – samalla kun uusi EUV-väite osoittaa, että jopa tiukimpien nykyisten kieltojen täytäntöönpanossa voi olla haasteita.