Frank Rohmund, de Zeiss, considera razonable estimar que China tardará unos 15 años en desarrollar máquinas EUV propias; UBS ve improbable una alternativa viable a ASML en la próxima década. Zeiss suministra óptica clave para los sistemas EUV de ASML.
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Respuesta de investigación

Create a landscape editorial hero image for this Studio Global article: How far is China from developing its own EUV lithography machines, according to Zeiss and UBS, and how do ASML’s dependence on Zeiss optics,. Article summary: Zeiss semiconductor chief Frank Rohmund says **about 15 years** is a reasonable estimate for China to develop its own EUV lithography machines, while cautioning that its progress is hard to measure. UBS is less specific:. Topic tags: general, news, general web, user generated. Style: premium digital editorial illustration, source-backed research mood, clean composition, high detail, modern web publication hero. Use reference image context only for broad subject, composition, and topical grounding; do not copy the exact image. Avoid: logos, brand marks, copyrighted characters, real person likenesses, fake screenshots, UI text, readable text, watermarks, charts w
Las estimaciones más recientes apuntan a que China todavía tiene por delante un largo camino para desarrollar máquinas propias de litografía ultravioleta extrema (EUV). Frank Rohmund, responsable de semiconductores de Zeiss, considera razonable calcular que el país necesitaría unos 15 años. UBS, por su parte, ve improbable que China desarrolle una alternativa viable a la tecnología EUV de ASML durante la próxima década. Son pronósticos, no fechas límite, y se refieren a hitos relacionados, pero no idénticos. 1
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La litografía es una de las tecnologías que se utilizan para dibujar los circuitos de los chips. En el debate actual, la EUV ocupa el lugar central: la evaluación de UBS se refiere a la posibilidad de que China desarrolle equipos capaces de sustituir la tecnología EUV más avanzada de ASML. Rohmund también ha advertido que es difícil medir con precisión el avance chino, por lo que la estimación de 15 años no debe entenderse como una cuenta regresiva exacta. 1
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El desafío no consiste solo en diseñar una máquina. Zeiss es un proveedor clave de la óptica especializada que incorporan los sistemas EUV de ASML, una relación que forma parte de la cadena de suministro actual de esta tecnología. 2
Una oportunidad más cercana para China está en la litografía de ultravioleta profundo (DUV) por inmersión, una tecnología de una generación anterior. Según UBS, China podría alcanzar la producción de alto volumen de estos sistemas en dos a cinco años. Ese pronóstico apunta a un posible avance en la fabricación nacional de equipos, pero no equivale a un salto en EUV ni a sustituir los sistemas más avanzados de ASML. 3
La diferencia importa: una previsión de producción de equipos DUV no demuestra que China haya cerrado la brecha en EUV. Las estimaciones disponibles consideran ambas vías tecnológicas por separado. 3
Las restricciones comunicadas impiden enviar sistemas EUV a China, y algunas exportaciones de equipos DUV de inmersión avanzados también están sujetas a licencias. Estos controles limitan el acceso a tecnología extranjera, pero Rohmund ha advertido que ampliarlos podría incentivar a China a acelerar su propia innovación. 2
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Por eso, su efecto a largo plazo no se resume fácilmente en una ventaja para uno u otro lado. Las restricciones pueden dificultar el acceso a equipos, pero también aumentar el incentivo para desarrollar alternativas nacionales. Las fuentes disponibles no permiten determinar a qué ritmo esa respuesta podría reducir la brecha. 2
La demanda relacionada con la inteligencia artificial también está influyendo en el mercado de equipos para fabricar semiconductores. Ante el aumento de la demanda de óptica para este sector, Zeiss amplió su sede de fabricación de semiconductores, construía capacidad de producción adicional en otra ubicación y señaló que podría expandirse más si fuera necesario.
Esto describe una respuesta a la demanda, no un plan anunciado específicamente para competir con el desarrollo chino de EUV o contrarrestar los controles de exportación. La perspectiva del sector combina así dos cuestiones distintas: la carrera por la litografía avanzada y el reto práctico de suministrar más componentes ópticos a medida que crece la demanda.
La lectura más prudente es que China podría avanzar antes en DUV que en EUV, mientras que los pronósticos sobre una máquina EUV propia o una alternativa viable siguen apuntando a una década o más. La cifra de 15 años es una valoración de un directivo de un proveedor importante del sector; la previsión de UBS es un análisis de mercado. Ninguna garantiza un calendario. 1
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Tres factores destacan: la óptica de Zeiss es una pieza clave de la cadena de suministro EUV de ASML; los controles de exportación limitan el acceso a equipos, pero también podrían impulsar el desarrollo nacional; y el aumento de la demanda relacionada con la IA lleva a Zeiss a ampliar capacidad. La interacción entre esas fuerzas influirá en el sector, pero la información disponible no permite saber cuándo —ni siquiera si— China igualará los sistemas EUV actuales. 2
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Frank Rohmund, de Zeiss, considera razonable estimar que China tardará unos 15 años en desarrollar máquinas EUV propias; UBS ve improbable una alternativa viable a ASML en la próxima década.
Frank Rohmund, de Zeiss, considera razonable estimar que China tardará unos 15 años en desarrollar máquinas EUV propias; UBS ve improbable una alternativa viable a ASML en la próxima década. Zeiss suministra óptica clave para los sistemas EUV de ASML. Los controles de exportación limitan el acceso a equipos avanzados, aunque Rohmund advierte que nuevas restricciones podrían estimular la innovación china.
UBS prevé que China podría alcanzar la producción de alto volumen de equipos DUV de inmersión en un plazo de dos a cinco años.