¿Llegó a China la máquina de litografía EUV más avanzada de ASML? Lo que se sabe

Las pruebas citadas por funcionarios estadounidenses

La evidencia específica que sustenta la preocupación de Estados Unidos no se ha detallado públicamente. Bloomberg News, que publicó la historia, informó del asunto citando "personas familiarizadas con el asunto", pero no describió la inteligencia, los registros de envío ni otras pruebas que llevaron a la intervención de Lutnick . Los informes públicos disponibles no mencionan ningún avistamiento confirmado de un sistema EUV en China, ningún envío interceptado ni ningún registro de servicio que muestre una instalación no autorizada.

El contexto más amplio puede explicar la sospecha. En diciembre de 2025, Reuters informó que investigadores chinos en Shenzhen habían construido un prototipo de máquina de litografía EUV como parte de lo que describió como el "Proyecto Manhattan" de China para rivalizar con Occidente en chips de IA . Por separado, los analistas han señalado que algunos componentes de doble uso o menos restringidos que podrían ayudar al desarrollo nacional de EUV han sido más difíciles de rastrear . Sin embargo, no se confirma si estos desarrollos están relacionados con la acusación actual.

Contexto más amplio de las restricciones a la exportación y la MATCH Act

• Prohibición EUV existente: Los controles de exportación liderados por EE. UU. ya prohíben a ASML enviar sistemas EUV a China. Esta acusación, de ser cierta, representaría una violación de esa prohibición de larga data .
• Controles DUV (actuales): Las máquinas de litografía de inmersión de ultravioleta profundo (DUV), menos avanzadas, que pueden producir chips de hasta 7 nanómetros, han seguido llegando a China y son el próximo gran objetivo de las restricciones .
• La MATCH Act: A principios de abril de 2026, un grupo bipartidista de legisladores estadounidenses presentó la Ley de Alineación Multilateral de Controles de Tecnología en Hardware (MATCH Act) (H.R. 8170) . Las disposiciones clave incluyen:
  • Una prohibición a nivel nacional de la venta de equipos de fabricación de semiconductores "críticos", incluidas las herramientas de litografía DUV de inmersión y las herramientas de grabado criogénico, a cualquier destino dentro de un país de preocupación (mencionando directamente a China) .
  • Un requisito de que naciones aliadas como los Países Bajos y Japón alineen sus restricciones a la exportación con las reglas estadounidenses en un plazo de 150 días, o se enfrenten a una aplicación unilateral de EE. UU. a través de una Regla de Producto Extranjero Directo (FDPR) ampliada que le daría a Washington jurisdicción sobre cualquier equipo que contenga tecnología estadounidense .
  • Una prohibición de dar servicio a las máquinas DUV ya instaladas en China .
  • El proyecto de ley fue aprobado por el Comité de Asuntos Exteriores de la Cámara de Representantes a finales de abril de 2026 y avanzó como parte de una serie más amplia de medidas de control de exportaciones .

En resumen, la MATCH Act busca codificar y ampliar los controles de exportación actuales del poder ejecutivo en una ley, cerrando la laguna de los DUV y presionando a los aliados para que hagan lo mismo, todo mientras la nueva acusación sobre los EUV sugiere que incluso las prohibiciones existentes más estrictas pueden enfrentar desafíos de aplicación.