Los sistemas EUV actuales de ASML están casi comprometidos para 2027. Según JPMorgan, la empresa estudia producir más de 110 en 2028, pero no son entregas confirmadas.[1] Intel ya usa High NA en determinadas capas de producción.
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Respuesta de investigación

Create a landscape editorial hero image for this Studio Global article: How is Dutch EUV lithography monopolist ASML managing existing EUV systems being effectively sold out through 2027 and growing commitments f. Article summary: ASML is expanding capacity to meet strong EUV demand while helping customers move High-NA from qualification into production; the central challenge is converting orders into reliable, economical factory output.[2][3][5] . Topic tags: general, news, general web. Style: premium digital editorial illustration, source-backed research mood, clean composition, high detail, modern web publication hero. Use reference image context only for broad subject, composition, and topical grounding; do not copy the exact image. Avoid: logos, brand marks, copyrighted characters, real person likenesses, fake screenshots, UI text, readable text, watermarks, charts with fake numbers
ASML afronta dos desafíos distintos. El primero es construir suficientes equipos de litografía ultravioleta extrema —EUV, por sus siglas en inglés— para atender una demanda que ya ocupa casi toda su capacidad prevista para 2027. El segundo es conseguir que sus nuevas máquinas High-NA, capaces de imprimir detalles más finos, resulten rentables dentro de las fábricas de sus clientes. Tener pedidos no resuelve por sí solo ninguno de los dos.1
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Tras reunirse con el director financiero de ASML, analistas de JPMorgan señalaron que la compañía apunta a aumentar su producción alrededor de un 30 % en 2028 y estudia cómo superar los 110 equipos EUV ese año. Son objetivos de capacidad, no máquinas ya fabricadas o entregadas. También importa el matiz sobre 2027: los sistemas están casi agotados, no completamente vendidos.1
ASML ha iniciado la construcción de una nueva planta en Eindhoven, Países Bajos, mientras sus clientes adquieren compromisos para incorporar equipos High-NA de unos 400 millones de dólares cada uno.2 Ampliar las instalaciones puede ayudar a atender los pedidos, pero después cada máquina debe instalarse y funcionar de forma fiable en los procesos del comprador.
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Intel y ASML afirman que High-NA ya se utiliza en producción a gran escala para determinadas capas de algunos procesadores de Intel. También han comunicado más de un millón de obleas procesadas, una cifra acumulada que abarca certificación y pruebas de equipos, investigación y desarrollo, y fabricación. No debe interpretarse como un millón de obleas comerciales vendibles producidas íntegramente con High-NA.14
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Los planes citados sitúan la incorporación de High-NA a la producción masiva de memorias DRAM de Samsung hacia 2028 y su uso en chips avanzados de TSMC a partir de 2030. Según Reuters, en septiembre de 2026 Intel ya la empleaba en producción, pero Samsung y TSMC todavía no la utilizaban para fabricación a gran escala.2
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44 La transición, por tanto, dependerá del fabricante y de la aplicación; no supone sustituir de golpe los equipos EUV actuales.
El atractivo técnico de High-NA es imprimir detalles más finos con una sola exposición. Una comparación publicada indica que el modelo EXE:5200B puede imprimir detalles aproximadamente 1,7 veces más pequeños que la plataforma NXE en una exposición, lo que podría evitar varias etapas de creación de patrones con EUV convencional en ciertos diseños.19 Eso no significa que los chips completos vayan a ser 1,7 veces más pequeños ni que la producción vaya a acelerarse en esa proporción.
Para justificar una máquina de unos 400 millones de dólares, el ahorro de pasos debe compensar su precio mediante una producción suficiente, buena disponibilidad y un rendimiento adecuado de chips aprovechables. Las fuentes disponibles no demuestran que todos los posibles compradores hayan alcanzado ya ese equilibrio. El trabajo de ASML con fabricantes para utilizar máscaras más grandes muestra que las decisiones prácticas de fabricación siguen evolucionando junto con los equipos.2
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Frank Heemskerk, vicepresidente ejecutivo de ASML, dijo que la empresa no estaba vendiendo máquinas de fabricación de chips en Europa y atribuyó esa situación a la falta de inversión y de nuevas fábricas en la región.4 En el segundo trimestre de 2026, la participación europea en las ventas netas de sistemas fue cero, mientras Corea del Sur y Taiwán encabezaron los mercados.
11 Esa medida refleja ingresos por sistemas: no permite afirmar que exactamente el 0 % de las unidades entregadas fuera a Europa. Tampoco significa que allí no existan fábricas de chips ni otras actividades de ASML.
La distinción importa para la Ley Europea de Chips. Una planta de equipos en Eindhoven refuerza la industria europea de maquinaria, pero no añade por sí misma capacidad europea para fabricar obleas. Para aumentar su participación en la producción mundial de chips, el bloque también necesita inversión en las fábricas que utilizarían esos equipos.2
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El 24 de septiembre, un informe situó las acciones de ASML cotizadas en Estados Unidos en 1.713,41 dólares, un 1,8 % menos, a las 10:45, hora del este estadounidense. El cierre de ese día fue distinto: 1.722,50 dólares, un 1,27 % menos. La primera cifra era una cotización durante la sesión, no la caída al cierre.23
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El retroceso se produjo en un contexto de caídas más amplias de los valores de semiconductores asociadas a la subida de los rendimientos de los bonos.18 GuruFocus comparó además el precio durante la sesión con su estimación GF Value de unos 1.260 dólares, que es una referencia calculada mediante un modelo, no un valor intrínseco demostrado.
23 Una cartera de pedidos sólida puede coexistir con dudas sobre la valoración y la ejecución; las cifras citadas no prueban que aquel descenso lo causaran fallos de High-NA o retrasos de ASML.
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Los sistemas EUV actuales de ASML están casi comprometidos para 2027. Según JPMorgan, la empresa estudia producir más de 110 en 2028, pero no son entregas confirmadas.[1]
Los sistemas EUV actuales de ASML están casi comprometidos para 2027. Según JPMorgan, la empresa estudia producir más de 110 en 2028, pero no son entregas confirmadas.[1] Intel ya usa High NA en determinadas capas de producción. El millón de obleas procesadas incluye también pruebas e investigación, no solo fabricación comercial.[14][51]
La clave para extender High NA será justificar el coste aproximado de 400 millones de dólares por máquina con menos pasos de fabricación y un rendimiento suficiente.[2][19]