Wie weit ist China von eigenen EUV-Maschinen entfernt?

Wie lange dauert es, bis China eigene EUV-Lithografiemaschinen bauen kann? Zwei Einschätzungen aus der Branche deuten auf eine lange Aufholphase hin: Frank Rohmund, Leiter der Halbleitersparte von Zeiss, nennt rund 15 Jahre eine vernünftige Schätzung. Die UBS hält eine einsatzfähige Alternative zu ASMLs EUV-Technologie innerhalb des nächsten Jahrzehnts für unwahrscheinlich. Beides sind Prognosen, keine festen Fristen – und die Einschätzungen beschreiben ähnliche, aber nicht identische Ziele. 13

Warum EUV so schwer aufzuholen ist

Bei der Lithografie werden Schaltkreise auf Chips übertragen. EUV – kurz für „extrem ultraviolett“ – ist die Technologie, um die sich der Wettlauf um die modernsten Anlagen dreht. Die UBS-Einschätzung bezieht sich darauf, ob China eine Alternative zu ASMLs führender EUV-Technik entwickeln kann. Rohmund betont, dass sich Chinas Fortschritt nur schwer beziffern lässt. Die 15 Jahre sind also keine präzise Stoppuhr für den technologischen Rückstand. 13

Zudem besteht eine Lithografiemaschine nicht nur aus einem einzelnen technischen Durchbruch. Zeiss liefert wichtige Spezialoptiken für ASMLs EUV-Systeme – ein Hinweis darauf, wie bedeutend spezialisierte Zulieferer in der bestehenden Lieferkette sind. 2

DUV könnte früher kommen – ist aber nicht EUV

Ein möglicher Zwischenschritt ist die Immersionslithografie mit tiefem Ultraviolett, kurz DUV. Diese ältere Anlagenkategorie ist von EUV zu unterscheiden. UBS-Analysten zufolge könnte China in zwei bis fünf Jahren eine Fertigung von Immersions-DUV-Systemen in großen Stückzahlen erreichen. Das wäre ein Fortschritt beim Aufbau eigener Ausrüstung, aber kein Beleg dafür, dass China die EUV-Lücke geschlossen hätte. 3

Die Unterscheidung ist wichtig: Eine Prognose zur DUV-Produktion sagt nicht voraus, wann China EUV-Anlagen entwickeln oder ASMLs fortschrittlichste Systeme ersetzen könnte. Die vorliegenden Einschätzungen behandeln die beiden Technologiepfade getrennt. 3

Exportkontrollen mit möglichem Bumerangeffekt

US-geführte Beschränkungen halten EUV-Systeme vom chinesischen Markt fern. Auch für bestimmte fortschrittliche Immersions-DUV-Anlagen gelten Genehmigungspflichten. Solche Regeln begrenzen den Zugang zu ausländischer Technik. Rohmund warnt zugleich, dass zusätzliche Beschränkungen China dazu bewegen könnten, eigene Innovationen schneller voranzutreiben. 2311

Welche Wirkung langfristig überwiegt, lässt sich aus den verfügbaren Einschätzungen nicht ableiten. Exportkontrollen können den Zugang zu Anlagen erschweren; zugleich können sie den Anreiz erhöhen, eigene Alternativen zu entwickeln. Wie schnell sich dadurch der Abstand verringert, ist offen. 2

KI-Nachfrage bringt Zeiss dazu, Kapazitäten auszubauen

Auch die Nachfrage im Halbleitermarkt spielt eine Rolle. Ein Bericht über Zeiss’ Reaktion auf den wachsenden Bedarf an Halbleiteroptik nennt eine Erweiterung des Fertigungsstandorts in Oberkochen und zusätzliche Produktionskapazitäten an einem weiteren Standort. Das Unternehmen erklärte demnach, bei Bedarf noch weiter ausbauen zu können.

Das ist eine Reaktion auf die steigende Nachfrage – kein ausdrücklich als Antwort auf Chinas EUV-Entwicklung oder Exportkontrollen bezeichnetes Vorhaben. Im Ausblick treffen damit zwei Fragen aufeinander: Wer entwickelt die fortschrittlichsten Lithografiesysteme, und wie lässt sich die benötigte Optik in ausreichender Menge herstellen?

Was die Prognosen aussagen – und was nicht

Die vorsichtige Lesart: China könnte bei DUV früher Fortschritte erzielen als bei EUV. Für eine eigene EUV-Maschine beziehungsweise eine brauchbare Alternative zu ASMLs Technologie liegen die genannten Schätzungen dagegen bei mindestens einem Jahrzehnt. Zeiss’ Zahl von 15 Jahren ist die Einschätzung eines wichtigen Ausrüsters, die UBS-Zeitangabe eine Analystenprognose. Keine von beiden garantiert einen Zeitplan. 13

Drei Punkte prägen den Ausblick: Zeiss’ Optik ist ein wichtiger Teil der Lieferkette für ASMLs EUV-Systeme; Exportkontrollen schränken den Zugang ein, könnten aber zugleich die Entwicklung eigener Technik attraktiver machen; und die wachsende, auch KI-getriebene Nachfrage veranlasst Zeiss, seine Kapazitäten auszubauen. Wie diese Kräfte zusammenwirken, ist noch offen. Die verfügbaren Berichte sagen nicht voraus, wann – oder ob – China mit den heutigen EUV-Systemen gleichziehen wird. 23