Hvor langt er Kina fra at bygge sine egne EUV-maskiner?

Kina kan være mange år fra at bygge en EUV-litografimaskine, der kan konkurrere med ASMLs teknologi. Frank Rohmund, chef for Zeiss’ halvlederdivision, kalder omkring 15 år et rimeligt skøn for udviklingen af kinesiske EUV-maskiner. UBS vurderer samtidig, at et brugbart alternativ til ASMLs EUV-teknologi næppe er på plads inden for det næste årti. Det er prognoser – ikke faste tidsfrister – og de beskriver beslægtede, men ikke helt ens mål. 13

Hvorfor EUV er så svært at kopiere

Litografimaskiner bruges til at overføre kredsløbsmønstre til siliciumskiver, som bliver til computerchips. EUV – ekstrem ultraviolet litografi – er den mest avancerede teknologi i denne debat. UBS’ vurdering handler om, hvorvidt Kina kan udvikle udstyr, der kan erstatte ASMLs førende EUV-teknologi. Rohmund understreger, at det er vanskeligt at måle Kinas fremskridt præcist, så 15-årsskønnet skal ikke læses som en nedtælling. 13

Det handler heller ikke kun om at konstruere en maskine. Zeiss leverer specialiseret optik til ASMLs EUV-systemer og er dermed en vigtig del af den nuværende forsyningskæde for avanceret litografiudstyr. 2

DUV kan rykke hurtigere – men er ikke det samme som EUV

Kinas nærmere mulighed ligger i immersion-DUV, en ældre type litografiudstyr. UBS-analytikere forventer ifølge rapporteringen, at Kina kan nå storproduktion af sådanne systemer inden for to til fem år. Det vil være et fremskridt for den hjemlige produktion af udstyr, men er ikke det samme som et gennembrud inden for EUV eller en erstatning for ASMLs mest avancerede systemer. 3

Det er derfor vigtigt at holde de to teknologispor adskilt: En prognose om storproduktion af DUV-maskiner viser ikke i sig selv, at Kina har indhentet EUV-forspringet. 3

Eksportkontrol kan både begrænse og anspore

De gældende begrænsninger holder EUV-systemer ude af Kina, og eksport af visse avancerede immersion-DUV-maskiner kræver også tilladelse. Det begrænser adgangen til udenlandsk udstyr. Samtidig har Rohmund advaret om, at yderligere kontrol kan give Kina større tilskyndelse til at udvikle egne løsninger. 2311

Den langsigtede virkning er derfor ikke entydig. Begrænsninger kan gøre det sværere at få adgang til avanceret teknologi, men de kan også øge motivationen for at udvikle alternativer på hjemmebane. Kilderne fastslår ikke, hvor hurtigt en sådan indsats kan mindske afstanden. 2

AI-efterspørgsel øger presset på forsyningskæden

Efterspørgslen knyttet til kunstig intelligens påvirker også markedet for halvlederudstyr. Ifølge en rapport om Zeiss’ håndtering af stigende efterspørgsel efter optik til halvlederproduktion har virksomheden udvidet sit hovedkvarter for halvlederproduktion og er i gang med at opbygge yderligere produktionskapacitet et andet sted. Zeiss siger desuden, at virksomheden kan skalere yderligere, hvis der bliver behov for det.

Det er en kapacitetsudvidelse som svar på den stigende efterspørgsel – ikke en plan, der specifikt er beskrevet som rettet mod Kinas EUV-udvikling eller eksportkontrol. Branchen står altså både over for en teknologisk konkurrence om avanceret litografi og den praktiske opgave at levere flere optiske komponenter.

Hvad vurderingerne fortæller – og ikke fortæller

Det mest forsigtige billede er, at Kina kan rykke hurtigere med DUV end med EUV, mens vurderingerne af en kinesisk EUV-maskine eller et brugbart alternativ stadig handler om mindst et årti. Zeiss’ 15-årsskøn kommer fra en ledende leverandør til branchen, mens UBS’ tidsramme er en analytikerprognose. Ingen af delene er en garanti for, hvornår Kina indhenter konkurrenterne. 13

Tre forhold tegner sig: Zeiss’ optik er en vigtig del af ASMLs EUV-forsyningskæde; eksportkontrol begrænser adgangen til avanceret udstyr, men kan også styrke incitamentet til at udvikle det selv; og stigende AI-relateret efterspørgsel får Zeiss til at udvide sin kapacitet. Hvordan de kræfter spiller sammen, vil præge markedet, men de tilgængelige oplysninger fastslår ikke, hvornår – eller om – Kina kan matche nutidens EUV-systemer. 23