Samsung 31. srpna 2026 podrobně představil prototyp V10 BV NAND s více než 400 word lines. Klíčem je rozdělení paměťového pole a periferních obvodů na samostatné wafery, jejich následné spojení a třívrstvý proces HARC Merge, který pomáhá zvládnout extrémně vysoký počet vrstev.
Research answer

Create a landscape editorial hero image for this Studio Global article: What technical details did Samsung reveal on August 31, 2026, about its 10th-generation V10 BV-NAND flash memory chip—including its “full ca. Article summary: Samsung said V10 BV-NAND is a 10th-generation, 3D bonded NAND design intended to raise capacity, throughput, and energy efficiency for AI storage. Its disclosed performance claims versus V9 were over 58% higher bit densi. Topic tags: general, news, general web. Style: premium digital editorial illustration, source-backed research mood, clean composition, high detail, modern web publication hero. Use reference image context only for broad subject, composition, and topical grounding; do not copy the exact image. Avoid: logos, brand marks, copyrighted characters, real person likenesses, fake screenshots, UI text, readable text, watermarks, charts with fake numbers
Samsung V10 Bonding V-NAND, zkráceně BV-NAND, je desátá generace 3D NAND flash paměti. Její návrh stojí na spojování waferů a na paměťové struktuře s více než 400 word lines, tedy vodorovnými řídicími vrstvami buněk. Samsung ji prezentuje jako úložiště pro éru umělé inteligence, která vyžaduje vysokou kapacitu, rychlý přesun dat a co nejnižší spotřebu. 1
2
V podrobných materiálech zveřejněných 31. srpna společnost uvedla, že V10 má oproti generaci V9 více než o 58 % vyšší bitovou hustotu, I/O rychlost přes 4,8 Gb/s — tedy o více než 33 % vyšší — a o více než 25 % nižší spotřebu energie. 2
8
Samsung podle dostupných informací nevyrábí celou mimořádně vysokou strukturu jako jediný celek. V10 využívá proces označovaný jako three-stack HARC Merge. Paměťové buňky jsou rozděleny do tří částí, které se vyrábějí samostatně a následně se vertikálně propojí. Výrobní zátěž mají pomáhat zvládat také postupy Multi Hole a Zero Dummy Hole. 13
17
Nejde přitom jen o prosté „přidávání pater“. S rostoucí výškou NAND struktury se zvyšují nároky na výrobu, přesné zarovnání i elektrické vlastnosti čipu. Rozdělení do více částí dává Samsungu možnost pokračovat ve vertikálním škálování a současně lépe řešit omezení spojená s extrémním počtem vrstev. Dostupné zdroje potvrzují třívrstvou strukturu a použití podpůrných technik, nepopisují však do úplného detailu každý krok výrobního procesu.
V10 odděluje samotné paměťové pole od periferních, tedy řídicích obvodů označovaných jako „Peri“. Samsung tyto části vyrábí na samostatných waferech a teprve potom je spojí. Paměťové buňky a jejich řídicí logiku tak může vyvíjet a optimalizovat nezávisle, než vznikne výsledná struktura. 2
5
12
Tento přístup má zvýšit hustotu a výkon, aniž by bylo nutné spoléhat pouze na další zvyšování jediné vrstvené struktury. Samsung zároveň uvádí, že bonded architektura umožňuje použít výkonnější periferní obvody, což přispívá k lepšímu přenosu dat a energetické efektivitě V10. 2
13
Dostupné zprávy popisují označení full capping jako uspořádání, při němž spodní die s periferními obvody odpovídá půdorysu horní die s paměťovým polem a nepřesahuje ji. Takové řešení by mohlo zachovat výhodu samostatně vyráběných částí bez zbytečného zvětšení plochy čipu nebo pouzdra.
Primární materiály Samsungu a dodané výňatky spolehlivě potvrzují oddělenou výrobu paměťového pole a periferních obvodů i jejich následné spojení. Podrobnější geometrické vysvětlení termínu „full capping“ ani přesné provedení shody půdorysů však z těchto materiálů nelze nezávisle ověřit. Širší architektura je tedy doložena, konkrétní interpretaci rozložení je vhodné brát s rezervou.
Ve srovnání s devátou generací V-NAND Samsung uvádí:
Vyšší bitová hustota může umožnit uložit více dat na srovnatelné fyzické ploše. Samsung spojuje V10 také s budoucími SSD s kapacitou až 128 TB a s příští generací SSD využívajících PCIe Gen7, podle zpráv o plánech společnosti. 13
Je však důležité, že jde o hodnoty deklarované Samsungem, nikoli o nezávislé výsledky benchmarků. Dostupné podklady neukazují, jak přesně se tyto zisky promítnou do konkrétních SSD, různých typů zátěže nebo kombinací s řadiči.
AI datacentra potřebují rozsáhlá úložiště pro trénovací data, kontrolní body modelů a další datově náročné úlohy. NAND samozřejmě nenahrazuje vysokou propustnost HBM nebo jiné vysokorychlostní DRAM, může ale obsloužit kapacitní vrstvu infrastruktury, kde je zásadní hustota dat a spotřeba energie.
Samsung představil V10 jako součást širší strategie pamětí pro AI, do níž zařadil také zHBM a zNAND-O. zHBM společnost popisuje jako koncept umístění vysokorychlostní paměti blíže k AI akcelerátoru, případně přímo vertikálně nad něj. zNAND-O je koncept výkonné NAND paměti, který se podle Samsungu vyvíjí ve čtyřvrstvé a osmivrstvé podobě. 5
6
7
Společným jmenovatelem je využití vertikálního uspořádání: trojrozměrné paměťové struktury nebo pouzdření mají pomoci řešit nedostatek prostoru, požadavky na propustnost, spotřebu i odvod tepla. V10 je z této trojice část zaměřená na úložiště. zHBM a zNAND-O naproti tomu v dostupných podkladech zůstávají koncepty či vývojové architektury, nikoli produkty s potvrzeným harmonogramem sériové výroby. 1
6
7
Samsung V10 představil jako prototyp a technologii nové generace na konferenci Future of Memory and Storage 2026. Podrobný rozhovor z 31. srpna ani dodané zprávy neuvádějí pevné datum zahájení sériové výroby nebo dodávek. 1
2
Opatrnost je proto namístě i u dalších tvrzení o roadmapě. Dostupné důkazy nepotvrzují konkrétní termín komercializace V10, uvedení 11. generace NAND v roce 2027 ani cíl dosáhnout 1 000 vrstev do roku 2030. O cíli 1 000 vrstev už dříve informovala některá média, takové zprávy ale nelze zaměňovat za oficiálně potvrzený harmonogram Samsungu. 25
26
Nejpevnější závěr je zatím užší: V10 ukazuje, kam chce Samsung posunout NAND za hranici 400 vrstev — pomocí tří oddělených částí paměťového pole a bonded-wafer spojení paměťových buněk s periferními obvody. Společnost u něj deklaruje vyšší hustotu, rychlejší I/O a nižší spotřebu. Kdy se technologie objeví v reálných SSD a jak rychle budou následovat další generace, ale zůstává otevřené.
Studio Global AI
This page includes a source-backed answer you can continue inside Studio Global.
Samsung 31. srpna 2026 podrobně představil prototyp V10 BV NAND s více než 400 word lines.
Samsung 31. srpna 2026 podrobně představil prototyp V10 BV NAND s více než 400 word lines. Klíčem je rozdělení paměťového pole a periferních obvodů na samostatné wafery, jejich následné spojení a třívrstvý proces HARC Merge, který pomáhá zvládnout extrémně vysoký počet vrstev.
V10 míří na velkokapacitní a energeticky úsporná úložiště pro AI datacentra. Zprávy o 11.