Čínský průlom v litografii srazil ASML. Čísla ale zatím nizozemského giganta neohrožují

Samotné akcie ASML 27. července během obchodování ztrácely až kolem 8 % a uzavřely přibližně o 6 % níže. Spolu s nimi oslabily také americké firmy Applied Materials, Lam Research a KLA . Zpráva přitom přišla v době, kdy celý sektor polovodičů už čelil vybírání zisků, slabším výsledkům Samsungu a obavám, že zákazníci odloží nákladné modernizace výrobních kapacit .

Proč analytici považují reakci za přehnanou

Trh reagoval na symbolický průlom, jako by šlo o okamžité ohrožení obchodního modelu ASML. Analytici ale upozorňují, že mezi sestavením několika prvních strojů a spolehlivou sériovou výrobou je zásadní rozdíl.

• Bank of America označila výprodej přímo za „přehnanou reakci“ a ponechala cílovou cenu, která z úrovně obchodování z 29. července naznačovala růst o více než 70 % .
• JPMorgan uvedla, že propad „se zdá být nepřiměřený tomu, co zpráva skutečně naznačuje“. Výroba omezeného počtu imerzních DUV systémů podle banky neznamená, že Čína už dokáže dodávat spolehlivá zařízení pro velkoobjemovou výrobu .
• Analytici Reuters Breakingviews napsali, že čínské „kopírující“ zařízení zatím není technologicky stejně vyspělé a že pozice ASML „prozatím vypadá bezpečně“ .

Klíčový je především rozdíl v objemu. Čínské konsorcium má dodat přibližně pět strojů v roce 2026 a kolem 20 v roce 2027. ASML přitom každoročně dodává stovky systémů a její objednávková kniha je podle dostupných údajů zaplněná až do roku 2027 .

Co přesně Čína vyvíjí

DUV: důležitý, ale méně pokročilý typ technologie

Imerzní DUV litografie patří k zásadním technologiím výroby polovodičů. Pomocí litografických strojů se na křemíkové destičky přenášejí mimořádně jemné vzory, z nichž vznikají obvody čipů. ASML má v této oblasti dlouhodobě dominantní postavení.

Čínské stroje mají být dodávány domácím výrobcům čipů, mezi něž patří SMIC, Hua Hong a CXMT . Počáteční produkce je však velmi omezená: zhruba pět zařízení v roce 2026 a přibližně 20 v následujícím roce . Reuters zároveň uvedl, že systémy zaostávají ve výkonu i spolehlivosti a před dosažením úrovně srovnatelné s řešeními ASML potřebují další testování .

EUV zůstává pro Čínu mnohem vzdálenější metou

Ještě důležitější je nejpokročilejší technologie EUV (extreme ultraviolet, extrémní ultrafialové záření), která umožňuje výrobu nejmodernějších čipů. Právě v této oblasti má ASML prakticky jedinečné postavení.

V prosinci 2025 Reuters informoval, že tým bývalých inženýrů ASML v čínském Šen-čenu dokončil prototyp EUV stroje a testoval jej v laboratoři s vysokou úrovní zabezpečení . Prototyp však zatím nevytvořil žádný funkční čip . Čínští představitelé polovodičového průmyslu prosazují jednotný národní program pro vývoj kompletních litografických systémů v letech 2026 až 2030. Sami přitom připouštějí výrazné mezery v softwaru EDA pro návrh čipů, základních materiálech i technologii EUV .

Jaký může být dopad na tržby ASML

V krátkodobém horizontu by měl být finanční dopad omezený. Čína se podle finančního ředitele ASML Rogera Dassena v roce 2026 podílí na čistých tržbách společnosti přibližně 20 %. To je méně než 44 % v roce 2024 a 42 % v roce 2025 .

Význam DUV v celkovém podnikání ASML navíc klesá. Podíl prodejů DUV zařízení se snížil ze 44 % v roce 2024 na 29 % v posledním čtvrtletí . Nejvýnosnější a technologicky nejdůležitější EUV systémy Čína podle dostupných informací v dohledné době vyrábět ani získávat legální cestou nedokáže .

Bank of America odhadla, že i kdyby Čína lokálně získala 20 imerzních zařízení s argon-fluoridovou technologií, snížilo by to tržby ASML v příštím roce zhruba o 1,4 miliardy eur, tedy přibližně o 2,4 % . To je citelný, ale nikoli existenční zásah do podnikání firmy.

ASML sevřená mezi Spojenými státy a Čínou

Příběh čínských DUV zařízení zároveň ukazuje, v jak obtížné geopolitické pozici se ASML nachází. Firma musí reagovat na americká exportní omezení a současně čelí čínské snaze vybudovat soběstačný polovodičový průmysl.

Spojené státy už nyní brání dodávkám nejpokročilejších EUV systémů ASML do Číny. Omezení se postupně dotýkají také některých starších technologií DUV . Peking se podle dostupných zpráv snaží americké zákazy obcházet několika způsoby: vývojem vlastních litografických strojů, propojováním více AI čipů za účelem zvýšení výkonu a případně i získáváním zařízení ASML neautorizovanými kanály .

Napětí zvýšily také zprávy, podle nichž měl americký ministr obchodu Howard Lutnick vyslýchat vedení ASML kvůli obavám, že se jeden z EUV systémů této společnosti mohl dostat do Číny v rozporu s vývozními pravidly . ASML současně nemůže kontrolovat, kam po odchodu zamíří její bývalí zaměstnanci. Firma však uvádí, že jsou vázáni dohodami o mlčenlivosti a že v některých případech podnikla právní kroky kvůli krádežím obchodního tajemství .

Nizozemská vláda je navíc pod trvalým tlakem Washingtonu, aby exportní omezení dále zpřísňovala. ASML se tak ocitá mezi Čínou, která byla historicky jedním z jejích největších trhů, a Spojenými státy, klíčovým geopolitickým spojencem Nizozemska .

Závěr: důležitý signál, nikoli okamžitý převrat

Čínský posun v oblasti DUV je významným milníkem pro snahu Pekingu o technologickou soběstačnost. Zároveň představuje symbolickou trhlinu v dlouhodobé dominanci ASML. Z dostupných čísel ale zatím nevyplývá, že by nizozemský výrobce čelil bezprostřednímu obchodnímu otřesu.

Pět čínských strojů v letošním roce a zhruba 20 v příštím roce je stále jen zlomek produkce ASML. Čínská zařízení navíc zaostávají ve spolehlivosti, objednávky ASML jsou naplněné až do roku 2027 a v klíčové oblasti EUV zůstává Čína ve fázi prototypů. Trh tak podle analytiků do ceny akcií započítal hrozbu, která je reálná, ale její výraznější dopad na tržby a konkurenceschopnost ASML může být ještě několik let vzdálený.