ارتفاع سهم ASML يسلّط الضوء على توسّع استخدام تقنية High-NA EUV

أغلق سهم ASML مرتفعًا 3.25% في 2 أكتوبر 2026، عند 1,867.31 دولارًا. جاء التحرك وسط ترقب المستثمرين نتائج الشركة المقررة في 14 أكتوبر، واهتمامهم المتزايد بخطط العملاء لاستخدام أنظمة High-NA EUV من الجيل الجديد. وتقدم هذه الخطط مؤشرات على استعداد شركات تصنيع الرقائق لتبنّي التقنية، لكنها لا تكشف عدد الأجهزة التي طُلبت ولا مدى سرعة تحول الخطط إلى مبيعات. 1625

ما الذي دعم السهم؟

يعكس الارتفاع نظرة إيجابية إلى أعمال ASML في معدات تصنيع الرقائق، بما في ذلك خطط العملاء لتبنّي High-NA EUV. لكن المعلومات المتاحة لا تحدد سببًا واحدًا قاطعًا لحركة السهم في 2 أكتوبر. ومن عناصر الصورة طويلة الأجل أن شركات كبرى عدة أعلنت مواعيد مستهدفة لبدء استخدام التقنية في الإنتاج. 25

تُقدّر تكلفة نظام High-NA EUV بنحو 400 مليون دولار، ما يجعل خطط اعتماده مهمة لتوقعات نمو ASML. لكن إعلان نية الاستخدام أو تحديد موعد مستهدف لا يعني بالضرورة الإفصاح عن طلبات شراء فعلية. 6

التبني يتقدم، لكن وفق جداول زمنية مختلفة

حددت سامسونغ وSK Hynix عام 2028 موعدًا مستهدفًا لاستخدام High-NA EUV في إنتاج ذاكرة DRAM. أما TSMC، فتستهدف بدء الاستخدام بكميات كبيرة في تصنيع الرقائق المتقدمة اعتبارًا من 2030. وتشير هذه المواعيد إلى اتساع الاهتمام بالتقنية في تصنيع الذاكرة والمنطق، مع اختلاف مسارات التنفيذ والجداول الزمنية بين العملاء. 133

وقالت Intel وASML إن أكثر من مليون رقاقة سيليكون عولجت باستخدام معدات High-NA. ويشمل هذا الرقم مراحل اعتماد الأدوات واختبارها، والبحث والتطوير، إلى جانب إنتاج كميات كبيرة على طبقات مختارة لبعض معالجات Intel. وهو مؤشر على تقدم تقني وتصنيعي، لكنه لا يعني أن مليون رقاقة صُنعت ضمن إنتاج تجاري واسع النطاق باستخدام High-NA. 17

أقنعة الطباعة جزء من الاستعداد للتوسع

انضمت سامسونغ إلى مبادرة صناعية لتطوير منصة أقنعة ضوئية بحجم 12 بوصة لتقنية High-NA EUV. ويعكس ذلك العمل على تطوير منظومة الإنتاج، لكنه لا يثبت أن المنصة أو مشتريات المعدات المرتبطة بها ستكون جاهزة للاستخدام الكمي بحلول الموعد المستهدف لسامسونغ في 2028. 18

ويجري التخطيط لهذا الانتقال على مدى أطول: تستهدف مبادرة ASML وTSMC إنشاء خط تجريبي لأقنعة 12 بوصة في 2031، والوصول إلى جاهزية كاملة لأنظمة الطباعة الضوئية للإنتاج بالعقد المتقدمة في 2033. وحتى ذلك الحين، تقول الشركتان إن إنتاج High-NA سيستخدم أقنعة 6 بوصات المتاحة حاليًا. 19

الطلب على أنظمة EUV الحالية مهم في الأجل الأقرب

تمثل High-NA فرصة طويلة الأجل، لكن أعمال ASML الحالية في أنظمة EUV تظل مهمة أيضًا. وذكرت رويترز أن أنظمة EUV الحالية، التي يبلغ سعر الواحدة منها نحو 200 مليون دولار، شبه مباعة بالكامل حتى 2027. 33

وقالت ASML إنها تخطط لزيادة طاقتها الإنتاجية لأنظمة EUV التقليدية منخفضة الفتحة العددية بنسبة 30% في 2027 مقارنة بعام 2026، فيما تدرس احتمال زيادة أخرى بنسبة 30% في 2028. لذلك يظل تلبية الطلب وتنفيذ خطة التوسع من المسائل القريبة الأجل، إلى جانب فرصة High-NA المستقبلية. 40

ما الذي لا تحسمه هذه الخطط؟

لا تحدد مواعيد التبني المعلنة إجمالي طلبات High-NA أو جداول التسليم أو سرعة تحول الاستخدام المخطط له إلى إيرادات. كما أن رقم الرقائق التي عولجت يشمل مراحل متعددة، وليس الإنتاج التجاري وحده. وتُصعّب هذه الفجوات ترجمة الجدول الزمني للتقنية مباشرة إلى توقعات للمبيعات. 171819

وتبقى المنافسة سؤالًا آخر، لكن الأدلة المتاحة محدودة. يذكر أحد المصادر أن شركة SMEE الصينية تحاول تطوير بدائل في قطاع DUV، إلا أن التقارير المقدمة لا تحدد حجم الشحنات ولا تثبت أن هذه الأدوات تحل محل معدات ASML. لذلك لا تكفي المعلومات المتاحة لتقدير أثر تنافسي واضح على أعمال الشركة. 38

كما تؤثر التقييمات السوقية في رد فعل المستثمرين تجاه التأخير أو ضعف الطلبات. ولا تقدم المصادر المتاحة مقياسًا موثوقًا واحدًا للتقييم، لذا لا تكفي للحكم على ما إذا كان سعر السهم يعكس النمو المستقبلي بصورة عادلة. والخلاصة الأضيق والأكثر استنادًا إلى الأدلة هي أن خطط التبني تمثل إشارة مشجعة لمستقبل High-NA، لكنها لا تضمن المبيعات أو الهوامش أو عوائد السهم.